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正文內(nèi)容

太陽能電池制作流程(編輯修改稿)

2025-05-26 05:39 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 ?HF去除氧化層 ?熱 DIW洗凈 ?熱風(fēng)吹干 2. 多晶硅酸溶液蝕刻 Si+HNO3+HF?H2SiF6+HNO2+H2O+H2 ↑ 流程為 : HNO3+HF+(CH3COOH) etch(520 ℃) ?KOH中和 ?DIW(去離子水 )洗凈 ?HCl去除金屬離子 ?DIW洗凈 ?熱風(fēng)吹干 ? 蝕刻深度 . 太陽電池制造過程 蝕刻制絨 單晶硅堿蝕刻 多晶硅酸蝕刻 10um 10um 太陽電池制造過程 擴(kuò)散 ?擴(kuò)散制程目的 :形成 PN結(jié) . ?擴(kuò)散機(jī)臺(tái) : Tempress Tube Furnace (TS81254) ?原理 : 分為兩個(gè)過程 1. 預(yù)沉積 4POCl3+3O2?2P2O5+6Cl2(800900 ℃ ) 2. 磷驅(qū)入 2P2O5+5Si?4P+5SiO2(850950 ℃ ) ?擴(kuò)散深度 ?擴(kuò)散方塊電阻 5080 ohm/sq. 太陽電池制造過程 去除磷硅玻璃 ?制程目的 : 去除含磷的二氧化硅層 .
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