主體二次結(jié)構(gòu)施工方案(編輯修改稿)
2025-05-23 05:08 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 砂漿。磚塊應(yīng)在砌筑施工前一天或半天（視天氣情況而定）提前澆水濕潤，要求磚含水率為10%~15%,同時應(yīng)避免磚澆水過濕而使磚不能吸收砂漿中的多余水份，影響砂漿的密實性、強度和粘接力，在施工中可將磚砌斷觀察其周圍的吸水深度，一般要求吸水深度達15mm~20mm即可為含水率合格。加氣混凝土砌塊含水率應(yīng)控制在5%~8％，在砌筑面上適宜澆水，水侵磚表面810mm，嚴禁干磚砌筑施工及齡期不足28天進行砌筑。六、施工安排： 待主體結(jié)構(gòu)施工至十八層時，安排二層開始砌筑，隨主體進度上行砌筑至十八層，待主體結(jié)構(gòu)封頂驗收完成后從上向下開始砌筑，直至完成。 考慮到本工程二次構(gòu)件比較多，在砌體完成砌筑并驗收后，二次構(gòu)件及時跟上，及早完成相應(yīng)作業(yè)。 七、施工工藝：工藝流程：墻體放線基層處理制備砂漿砌塊砌筑校正豎縫灌漿勒縫砌塊與結(jié)構(gòu)墻體拉結(jié)門窗邊預(yù)料門窗固定點砌塊在板底梁底的堵塞。（1）墻體放線：砌體施工前將墻體軸線、樓層結(jié)構(gòu)標高按設(shè)計要求放線，軸線控制線為200控制線即軸線向外量200mm作為控制砌塊砌筑使用標準，結(jié)構(gòu)標高為500控制線即結(jié)構(gòu)面標高上量500mm作為控制砌塊砌筑標高控制。（2）基層處理：將結(jié)構(gòu)面樓層水泥浮漿、施工垃圾清理干凈，加氣砼砌塊墻根部提前澆水濕潤，拉線進行找平，20mm以內(nèi)采用水泥砂漿找平，超過30mm用細石混凝土找平。（3）制備漿料：按照設(shè)計圖紙要求：177。、177。，二次結(jié)構(gòu)砼采用C25，均由實驗室根據(jù)現(xiàn)場材料做級配。砌筑加氣混凝土砌塊：(1)、砌筑時按墻長度尺寸和砌塊的規(guī)格尺寸，進行排列擺塊，不夠整塊時可以鋸割成需要的尺寸，要求搭接長度不小于塊體長度的1／3（6001／3mm），并且不小于150mm?；铱p控制豎縫寬20mm，水平灰縫15mm為宜。當(dāng)最下一皮的水平灰縫厚度大于20mm時，應(yīng)用細石混凝土找平。砌筑時，滿鋪滿擠，上下丁字錯縫，正反手墻面均進行勾縫處理，保證灰縫寬度厚度均勻，橫平豎直，灰漿飽滿，飽滿度不小于80%。橫向灰縫的一次性鋪灰長度不應(yīng)大于2米，豎向灰縫應(yīng)采用臨時內(nèi)外夾板夾緊后灰漿灌縫。搭接長度不宜小于砌塊長度的1／3，轉(zhuǎn)角處相互咬砌搭接。砂漿標號按設(shè)計規(guī)定。（2）加氣砼砌塊墻與結(jié)構(gòu)剪力墻柱連接處，必須按設(shè)計要求設(shè)置拉結(jié)筋。設(shè)計無要求時，加氣砌塊填充墻與柱和承重墻交接處應(yīng)沿墻高每隔500mm設(shè)置拉接筋，拉結(jié)筋為2φ6拉筋，拉結(jié)筋應(yīng)伸入填充墻內(nèi)大于700mm或1/5墻長最大值（根據(jù)本工程抗震等級為七度的情況，設(shè)置本工程拉結(jié)筋大于700）。根據(jù)規(guī)范墻厚大于200mm時植筋距離據(jù)墻邊不小于60mm，當(dāng)墻厚小于200mm時植筋距離據(jù)墻邊不小于30mm。未預(yù)留拉結(jié)筋部位，需進行植筋作業(yè)。（3）、有抗震要求的加氣砼砌塊墻按設(shè)計要求應(yīng)設(shè)置構(gòu)造柱、圈梁，構(gòu)造柱的寬度由設(shè)計確定，厚度一般與墻等厚，圈梁寬度與墻等寬，高度不應(yīng)小于150mm。圈梁、構(gòu)造柱的插筋宜優(yōu)先預(yù)埋在結(jié)構(gòu)混凝土構(gòu)件中或后植筋，預(yù)留長度符合設(shè)計要求。構(gòu)造柱施工時按要求應(yīng)留設(shè)馬牙槎，馬牙槎宜先退后進，進退尺寸不小于60mm，高度為250mm。 砌筑燒結(jié)粘土磚：（1）、砌筑前，磚應(yīng)提前12天澆水潤濕。含水率宜為10%15%。（2）、擺磚樣：開始砌磚前先要進行鋪擺磚，排出灰縫留設(shè)寬度，擺磚時注意門窗及洞口位置，門垛等對灰縫的影響，同時要考慮窗間墻的組砌方法要求，以及七分磚和半磚等所處位置，使各皮磚的豎縫相互錯開。在同一墻面上各部位的磚砌體組砌方法要統(tǒng)一，并使上下一致。（3）、 立皮數(shù)桿：在砌墻前必須設(shè)立皮數(shù)桿。皮數(shù)桿上應(yīng)劃有磚的厚度，以及門窗過梁等物件位置。設(shè)立皮數(shù)桿時要用水準儀測量并進行抄平，使皮數(shù)桿上的標高與樓地面標高相
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