【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 ，轉(zhuǎn)速高有利于坯體表面光滑，但過高易引起( A )、飛泥 10可塑法成型的石膏模水份一般應(yīng)控制在( B )A.5% —10 % —15% —20%10旋壓成形方法中( C )對(duì)提高坯體密度無關(guān)。 10滾頭的傾斜角一般控制在( B )—100 —300 —300 —40176。1滾壓成型時(shí)主軸轉(zhuǎn)速與滾頭轉(zhuǎn)速的關(guān)系是( A )＞滾頭轉(zhuǎn)速 =滾頭轉(zhuǎn)速＜滾頭轉(zhuǎn)速 、B、C都可以11滾壓成型中出現(xiàn)粘滾頭的缺陷是由于( C ) 11在滾壓成型過程中如果模型太干或主軸轉(zhuǎn)速過高易產(chǎn)生( A )現(xiàn)象。 11實(shí)心注漿用泥漿的含水率( C )空心注漿用泥漿含水率。 、B、C都正確11玻璃膠是泥漿制備中最常用的電解質(zhì)，一般加入量為泥漿重量的( B )—2‰ —5‰ —8‰ ~10‰11注漿坯體，在橫向和縱向的收縮情況為( C )＞縱向 =縱向 ＜縱向 11某10寸平盤顯見面有線雕圖案，應(yīng)采用( C )的方法成型。A. 空心注漿 11坯體在干燥過程中，隨著水分的排除要產(chǎn)生收縮，這種收縮叫干燥收縮，干燥收縮一般為( B )A.＜4% —8% —10% —12%11在翻制石膏模時(shí)，調(diào)制石膏漿的石膏和水的比例，決定了石膏模型的強(qiáng)度和吸水性能，注漿用模型的膏水比例為( B )：1 ： ： ：211薄胎瓷、大花瓶等制品適宜用( B )上釉。 1熟石膏炒制溫度為( B )。 —1700C —200℃ ℃以上12調(diào)制石膏漿的方法是( B )。12泥漿的流動(dòng)性好壞可用( B )的方法檢驗(yàn)。12三角錐是用堿酸鹽材料加一定量的熔劑配制而成的截頭三角錐體，使用時(shí)三角錐的下底插入用耐火泥制作的底座中約10mm，并使三角錐直角棱與底座平面成( A )的傾斜角。176。 176。~82176。 176。~75176。 176。~70176。12說明此時(shí)窯內(nèi)為( A ) 12降低坯體入窯水份，能提高燒成速度為實(shí)現(xiàn)快速燒成，其坯體入窯水份應(yīng)控制在( A )A.2% B.5% C.8% D.10%12對(duì)于含F(xiàn)e2O3較高的坯體，在高溫階段的氣氛控制應(yīng)當(dāng)采用( C )的措施。 12在裝窯時(shí)匣缽柱常采用“上密下稀”的碼裝方法，其目的是( C ) 12倒焰室、抽屜室煙囪抽力在燒成過程中要不斷調(diào)整，在( D )煙囪閘門開度最小。A.3000C的低溫階段 ~10000C左右的氧化分解階段C.10000C的高溫階段 12所謂強(qiáng)氧化氣氛是指燃燒產(chǎn)物中游離氧含量為( B )—12% —10% —5% —3%1所謂強(qiáng)還原氣氛是指燃燒產(chǎn)物中的CO的含量為( C )。—3% —5% —7% —9%13在燒還原的隧道窯中，其零壓面應(yīng)控制在( B ) 13最適于用作陶瓷工業(yè)燃料的固體燃料是( A ) 13普通產(chǎn)品在冷卻階段冷卻時(shí)，一般采用( C )的方法進(jìn)行冷卻?！崩洹徖? ——急冷——快冷——緩冷——快冷 ——快冷——緩冷13變形是陶瓷產(chǎn)品常見的缺陷之一，在燒成過程中( C )會(huì)產(chǎn)生變形。 13在燒成過程中( D )不是產(chǎn)生開裂的原因。 13起泡的原因很復(fù)雜，但均和氣體有關(guān)，( B )易產(chǎn)生氧化泡。 13弱還原氣氛不足易產(chǎn)生( B ) 13( D )不能防止產(chǎn)生煙薰缺陷。 ，防止煙氣倒流 13發(fā)黃是由于還原不足，高價(jià)鐵(Fe2O3)沒有很好地還原成低價(jià)鐵(FeO)，或發(fā)生二次氧化造成的，和( C )無關(guān)。 1空氣過剩系數(shù)大于1時(shí)窯內(nèi)為( A ) 14硫酸鹽的分解反應(yīng)發(fā)生在( C ) 14燒成制度中，( C )制度是其它兩個(gè)制度實(shí)現(xiàn)的條件。 、B、C任意一個(gè)14在燒結(jié)范圍內(nèi)，隨著溫度的升高( C ) 14注漿時(shí)進(jìn)漿的速度太快易使坯體產(chǎn)生( D )缺陷。 14有關(guān)注漿成型用的泥漿性能要求，以下敘述不正確的是( C )。 ，提高泥漿的流動(dòng)性 14顯微結(jié)構(gòu)是指在顯微鏡下觀察材料在（Ｂ）微小尺寸的組織結(jié)構(gòu)。A、 B、C、 D、10納米以下14在釉料配方計(jì)算中，一般先計(jì)算（Ａ）含量。A、長(zhǎng)石 B、石英 C、粘土 D、碳酸鹽14莫來石化學(xué)式為（Ｃ）。A、Al2O32SiO2 B、2Al2O3SiO2C、3Al2O32SiO2 D、3Al2O3SiO214以下原料（Ａ）含K2O、Na2O很少。A、蛇紋石 B、長(zhǎng)石 C、偉晶花崗巖 D、霞石150、配制乳濁釉，不能做乳濁劑的是（Ａ ）。A、長(zhǎng)石 B、鋯英石 C、氧化錫 D、鈦金石15釉的高濕熔體表面張力與（ Ｃ）因素關(guān)系不大。A、釉的化學(xué)組成 B、燒成溫度C、原料顆粒形狀 D、燒成氣氛15以下四種氧化物，降低釉高溫熔體表面張力最顯著的是（Ｄ ）。A、BaO B、SrO C、MgO D、PbO15可明顯提高釉表面硬度的氧化物是（Ｄ）。A、Na2O B、K2O C、B2O3 D、SiO215釉的抗張強(qiáng)度一般為（Ａ）。A、110~350Mpa B、400~700MpaC、5200~7500 Mpa D、10~1000 Mpa15以下四種氧化物對(duì)釉彈性的提高作用最強(qiáng)的是（Ｄ ）。A、CaO B、MgO C、BaO D、PbO15（Ｂ）不能提高釉的白度。A、降低釉中著色氧化物 B、提高釉原料細(xì)度C、適量加入磷酸鹽原料 D、適量加滑石原料15（ Ａ）不是水熔性原料，可用于配制生料釉。A、碳酸鋰 B、碳酸鉀 C、碳酸鈉 D、硼砂15（Ｃ）是形成玻璃的主要氧化物，為網(wǎng)絡(luò)形成劑。A、Na2O和K2O B、CaO和MgOC、SiO2和B2O3 D、Al2O3151mol純鉀長(zhǎng)石中含（ D ）molSiO2。A、1 B、2 C、4 D、6（ B ）。A、民 窯 B、官 窯 C、官辦民窯 D、民辦官窯（ D ）為主。A、彩 瓷 B、青 瓷 C、工藝陶瓷 D、日用陶瓷（ A ）。A、彩 瓷 B、白 瓷 C、黑陶 D、輕質(zhì)陶（ A ）。A、28～48％ B、20～28％ C、15～20％ D、10～15％164.