微影成像制造工程(編輯修改稿)
2024-11-16 18:14 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 resist） ? 行成圖形種類有兩種，正光阻可得到和光罩相同的圖形；負(fù)光阻可得到互補(bǔ)的圖形。 ? 熱氣體吹拂 ? 加熱板傳導(dǎo)加熱 曝光 ? 利用光能、透過(guò)光罩，讓光阻感光，形成圖形的製程。 ? 以下為裝置示意圖 曝光時(shí)有兩種機(jī)臺(tái) ? 步進(jìn)機(jī) ? 掃描機(jī) 對(duì)準(zhǔn) ? 在規(guī)格內(nèi)稱對(duì)準(zhǔn) ? 在規(guī)格外稱對(duì)準(zhǔn)不良 ? 為消除曝光可能遇到的駐波效應(yīng)，使得曝光後的光阻與未曝光的光阻在浸泡顯影液時(shí)能夠有更高的蝕刻比。 ? 將光阻曝光後形成的酸性物質(zhì)去除，留下圖形所需要的光阻。 硬烘烤 ? 即為光阻顯影後，進(jìn)行的烘烤製成，烘烤過(guò)後光阻較硬，故稱硬烘烤。 低溫烘烤，有曝光缺陷存在 正確溫度烘烤 圖形正常 烘烤溫度過(guò)高 圖形變形 重工
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