鍍鋁機(jī)結(jié)構(gòu)及功能原理(編輯修改稿)
2025-06-18 02:29 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 發(fā)原子和分子會(huì)污染電子源，因此通常將電子源在裝膜材料之槍座底下而利用強(qiáng)力磁場(chǎng)將電子束變成 2700 ? 3因?yàn)殡娮邮苯蛹訜嵩谀げ牧仙?，且一般裝膜材料坩鍋之槍底部都有水冷卻，因此比起熱電阻加熱法，污染較少，膜品質(zhì)較高。 ? 4電子束蒸發(fā)可獲得極大的功率密度，又因?yàn)殡娮邮杉铀俚胶芨叩哪芰?，一些膜性較好，熔點(diǎn)較高的膜材（金、鎳等）都可以蒸發(fā)。 ? 5坩鍋可做幾個(gè)小的，挑成一圈，盛放不同膜材，要鍍式就轉(zhuǎn)到電子束打擊位置，因此可鍍多層膜。 缺點(diǎn)： ? 1若電子束及電子流控制不當(dāng)，會(huì)引起材料分解或游離，引起正電子散射或電荷累積放電。 ? 2對(duì)不同材料所需之電子束的大小及掃描方式不同，因此鍍膜過(guò)程中，使用不同鍍膜材料時(shí)，須不時(shí)調(diào)換 位置及掃描方式。 ?
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