【正文】 版次 / 修訂號：D/ 0第 9 頁共 10 頁，反差適中，灰霧度底。 ．資料整理與歸檔、記錄齊全、不得任意涂改。，觀片燈的最大亮度應(yīng)能滿足評片的要求。 識別標(biāo)記、定位標(biāo)記及其代號和象質(zhì)計(jì)的擺放。當(dāng)一次曝光完成多張膠片照相時(shí)，使用的像質(zhì)計(jì)數(shù)量允許減少但應(yīng)符合以下要求：a、環(huán)形對接接頭采用源置于中心周向曝光時(shí)，至少在圓周上等間隔地放置不少于3個(gè)像質(zhì)計(jì)；b、一次曝光連續(xù)排列的多張膠片時(shí)，至少在第一張、中間一張和最后一張膠片處各放置一個(gè)像質(zhì)計(jì)。（D0≤100mm）小徑管采用雙壁雙影透照布置，當(dāng)同時(shí)滿足下列兩條件時(shí)應(yīng)采用傾斜透照方式橢圓成像：a)T(壁厚) ≤8mm b)g（焊縫寬度）≤D0/4橢圓成像時(shí)，應(yīng)控制影像的開口寬度（上下焊縫投影最大間距）在1倍焊縫寬度左右。，只要得到底片質(zhì)量符合JB/ 壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D/ 0第 17 頁共 19 頁求，f值可以減小，但減小值不應(yīng)超過規(guī)定的20%。JB/。5．對比試塊。、均勻地覆蓋上一層顯像劑薄膜。176。電磁軛的提升力至少半年校驗(yàn)一次。如果工件表面凹凸不平，要用銼刀或砂輪打磨平，并除去銹蝕和油脂污物；b) 如果新使用的標(biāo)準(zhǔn)試片表面有銹蝕，褶折或磁特性發(fā)生改變時(shí)，不得繼續(xù)使用。采用濕法時(shí)，應(yīng)先確認(rèn)整個(gè)檢測區(qū)被磁懸液很好的液潤濕后，再施加磁懸液。當(dāng)辨認(rèn)細(xì)小磁痕時(shí)，應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。探傷儀具有80dB以上的連續(xù)可調(diào)衰減器，步進(jìn)級每檔不大于2dB，其精度為任意相鄰12dB的誤差在177。表面的不規(guī)則狀態(tài)不得影響檢測結(jié)果的正確性和完整性，否則應(yīng)做適當(dāng)?shù)奶幚??！碧筋^系統(tǒng)，檢測前應(yīng)測定始脈沖寬度、靈敏度余量和分辨力，調(diào)節(jié)或復(fù)核掃描量程和掃查靈敏度。，試塊厚度應(yīng)與被檢工件的厚度相對應(yīng)。試塊厚度應(yīng)與被檢鋼板厚度相近。兩種方法測得的結(jié)果以較嚴(yán)重者為準(zhǔn)。（規(guī)范性附錄）。 a）工件檢測距離小于45mm時(shí)，應(yīng)采用CSⅡ標(biāo)準(zhǔn)試塊。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC26—D/02012題 目超聲波檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 9 頁共 40 頁。此時(shí)，探頭中心的移動距離即為缺陷的指示長度，探頭中心點(diǎn)即為缺陷的邊界點(diǎn)。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC26—D/02012題 目超聲波檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 4 頁共 40 頁，該材料用直探頭檢測時(shí)，不得有大于或等于φ2mm平底孔當(dāng)量直徑的缺陷。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC26—D/02012題 目超聲波檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D/ 0第 3 頁共 40 頁 每隔三個(gè)月至少對儀器的水平線性和垂直線性進(jìn)行一次測定，測定方法按JB/T10061的規(guī)定。，檢測時(shí)機(jī)及抽檢率的選擇等應(yīng)按法規(guī)、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)及有關(guān)技術(shù)文件的要求進(jìn)行。本規(guī)程適用于與承壓設(shè)備有關(guān)的支承件和結(jié)構(gòu)件的超聲檢測，也可參照使用金屬材料制鍋爐壓力容器用原材料、零部件和焊接接頭的超聲檢測。 兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一條直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長度為兩條磁痕之和加間距。 反差增強(qiáng)劑為增強(qiáng)對比度，可以使用反差增強(qiáng)劑10. 檢測時(shí)機(jī)焊縫接頭的磁粉檢測應(yīng)安排在焊接工序完成之后進(jìn)行?！?0/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。3．磁粉檢測設(shè)備磁粉檢測設(shè)備應(yīng)符合JB/T8290的規(guī)定。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC24—D/02012題 目滲透檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 3 頁共 4 頁當(dāng)出現(xiàn)以下情況之一時(shí)必須進(jìn)行復(fù)驗(yàn)：a) 檢測結(jié)束時(shí),用對比試塊驗(yàn)證檢測靈敏度不符合要求；b) 發(fā)現(xiàn)檢測過程中操作方法有誤或技術(shù)條件改變時(shí)；c) 供需雙方有爭議或認(rèn)為有其它需要時(shí)；d) 經(jīng)返修后的部位。在施加滲透劑之后和顯像之前禁止使用清洗劑沖洗被檢表面。，其噴罐表面不得有銹蝕，噴罐不得出現(xiàn)泄漏，滲透劑對工件無腐蝕，對人體基本無毒害作用。11. 暗室處理暗室處理按照《暗室處理操作規(guī)程》及膠片使用說明書的規(guī)定進(jìn)行。在能保證像質(zhì)計(jì)靈敏度達(dá)到JB/，允許γ射線最小透照厚度(JB/)為各類γ源規(guī)定透照厚度下限值的1/2。表2允許的透照厚度比K射線檢測技術(shù)級別A級、AB級B級縱向焊接接頭K≤K≤環(huán)向焊接接頭K≤K≤對100mm D0≤400mm的環(huán)向?qū)雍附咏宇^（包括曲率相同的曲面焊接接頭）A級、AB級允許采用K≤，～。b、單壁透照中，如果像質(zhì)計(jì)無法放置在源側(cè)，允許放置在膠片側(cè)c、單壁透照中像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè)時(shí)，應(yīng)進(jìn)行對比試驗(yàn)。，應(yīng)在暗袋背面襯以23mm厚的鉛板或采用帶鉛墊板的暗袋。 圖①所示，并能永久顯示在X光底片上。，尤其是黑度較低區(qū)域，即使其影像黑度較低，也不應(yīng)輕易放過，應(yīng)通過適當(dāng)方法加以確認(rèn).，車間經(jīng)辦人按下列順序傳遞。當(dāng)X射線透照小徑管和其他截面厚度變化大的工件時(shí)，, 。透照3次。為檢查散射線的影響程度，當(dāng)?shù)灼稀癇”出現(xiàn)較淡的影響時(shí)，說明散射線影響較重，應(yīng)予復(fù)照。，雙壁單影透照時(shí)像質(zhì)計(jì)應(yīng)放置于膠片側(cè)。. 射線能量。定向機(jī)。 整臺產(chǎn)品以產(chǎn)品編號作為檢測編號. 整臺產(chǎn)品的焊縫編號以焊接工藝卡節(jié)點(diǎn)圖上的編號為依據(jù)，縱縫以“A”表示，第一條縱縫為1A、第二條縱縫為2A。3. 。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 1 頁共 10 頁。4．射線檢測和驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)：必須符合《容規(guī)》，GB150和設(shè)計(jì)文件的要求?？v縫第1張為A縱縫第2張為A2。, 但應(yīng)滿足AB級K≯, B級K≯。x射線照相應(yīng)盡量選用較低管電壓. 本公司現(xiàn)有四臺射線能量不同的x光機(jī). 可在曝光曲線范圍內(nèi)擇優(yōu)選擇. X光機(jī)能量應(yīng)留有20％余量，以保證儀器使用壽命。雙壁雙影透照時(shí)可放置于源側(cè)，也可放置于膠片側(cè)。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D/ 0第 7 頁共 10 頁9. 透照方式和操作順序。：“X射線機(jī)安全操作規(guī)程”做好開機(jī)前檢查工作和必要的“訓(xùn)機(jī)”。，測量的誤差應(yīng)不超過177。一次返修:焊接檢驗(yàn)員 焊接工藝員 焊工 焊接檢驗(yàn)員 探傷人員 評片員二次返修:焊接檢驗(yàn)員 焊接質(zhì)控責(zé)任人 指定焊工 焊接檢驗(yàn)員 探傷人員 評片員壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D/ 0第 10頁共 10 頁三次返修:焊接檢驗(yàn)員 焊接質(zhì)控責(zé)任人 公司技術(shù)總負(fù)責(zé)人 指定焊工 焊接 檢驗(yàn)員 探傷人員 評片員。圖17曝光曲線的制作 制作曝光曲線應(yīng)考慮的參數(shù)由于標(biāo)稱相同千伏值和毫安值相同的X射線機(jī)透照能力存在差異，因此，曝光曲線應(yīng)按每臺X射線機(jī)繪制，并且在每次主要零件（如X射線管、高壓變壓a)射線機(jī)型號b)工件材質(zhì)c)工件厚度d)膠片類型e)底片黑度f)射線源到膠片的距離g)增感屏類型及厚度h)毫安值i) 曝光時(shí)間j) 暗室處理時(shí)間和溫度器等）更換后及時(shí)對曝光曲線進(jìn)行校正，制作曝光曲線應(yīng)確定如下參數(shù)：k)暗室處理用化學(xué)藥品名稱和牌號制備鋼制的階梯試塊，曝光量選用不低于15毫安分，固定曝光量改變管電壓，在曝光曲線中只需表示管電壓（KVP）和穿透厚度（TA）之間的關(guān)系。，以便將射線束限制在所需透照的部位，以減少散射線來源。對比試驗(yàn)方法是在射源側(cè)和膠片側(cè)各放一個(gè)像質(zhì)計(jì)，用與工件相同的條件透照，測定出像質(zhì)計(jì)放置在源側(cè)和膠片側(cè)的靈敏度差異，以此修正應(yīng)識別像質(zhì)計(jì)絲號，以保證實(shí)際透照的底片靈敏度符合要求。 對外徑D0100mm的環(huán)向?qū)雍附咏宇^進(jìn)行100%檢測，所需的最少透照次數(shù)與透照方式和透照厚度比有關(guān)，～。 所選用的射線源至工件表面的距離f應(yīng)滿足下述要求：A級射線檢測技術(shù)：f≥?b2/3 AB級射線檢測技術(shù)：f≥10d?b2/3 注：d—有效焦點(diǎn)尺寸B 級射線檢測技術(shù)：f≥15d?b2/3 b—工件表面至膠片距離有關(guān)的f值也可查閱JB/ ，圖圖3確定焦點(diǎn)至工件表面距離的若12．評片要求。、鎳、銅制承壓設(shè)備熔化焊對接接頭射線檢測質(zhì)量分級按JB/。，氧化皮、焊接飛濺、毛刺以及各種防護(hù)層。多余滲透劑被清除之后，應(yīng)自然干燥。8．后處理檢測結(jié)束后，為防止殘留的顯像劑腐蝕被檢工件表面或影響其使用，應(yīng)清除被檢工件表面殘余顯像劑，清洗方法可用刷洗、水洗、布或紙擦等方法。本規(guī)程使用XDYY—II 型多用磁粉探傷儀。當(dāng)檢測焊縫坡口等狹小部位，由于尺寸關(guān)系A(chǔ)1型標(biāo)準(zhǔn)試片使用不便時(shí)，一般可選用C—15/50型標(biāo)準(zhǔn)試片。對有延遲裂紋傾向的材料，磁粉檢測應(yīng)安排壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC25—D/02012題 目磁粉檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 3 頁共 6 頁在焊接完成24小時(shí)后進(jìn)行，除非另有要求對緊固件和鍛件的磁粉檢測應(yīng)安排在最終熱處理之后進(jìn)行。 缺陷磁痕長軸方向與工件軸線或母線的夾角大于或等于300時(shí)，按橫向缺陷處理，其他按縱向缺陷處理。2. 規(guī)范性引用文件固定式壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程—2011 鋼制壓力容器JB/—2005 承壓設(shè)備無損檢測 第一部分：通用要求 JB/—2005 承壓設(shè)備無損檢測 第三部分：超聲檢測JB/T7913 1995 超聲波檢測用鋼制對比試塊的制作與校驗(yàn)方法JB/T9214 1999 A型脈沖反射式超聲波探傷系統(tǒng)工作性能 測試方法JB/T10061 1999 A型脈沖反射式超聲波探傷儀通用技術(shù)條件JB/T10062 1999 超聲探傷用探頭性能測試方法JB/T10063 1999 超聲探傷用1號標(biāo)準(zhǔn)試塊技術(shù)條件3. 一般要求超聲檢測人員應(yīng)按照《特種設(shè)備無損檢測人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則》的要求取得UTI級以上資格的人員，只能從事初探工作，取得Ⅱ級資格的人員方能復(fù)探和出超聲檢測報(bào)告，編制超聲波檢測工藝。，應(yīng)保證工件被檢部分均能得到充分檢查。 新購探頭應(yīng)有探頭性能參數(shù)說明書，新探頭使用前應(yīng)進(jìn)行前沿距離、K值、主聲束偏離、靈敏度余量和分辨力等主要參數(shù)的測定。，并應(yīng)經(jīng)計(jì)量部門檢定合格。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC26—D/02012題 目超聲波檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 5 頁共 40 頁 表1 板材超聲檢測探頭選用板厚，（mm）采用探頭公稱頻率，MHZ探頭晶片尺寸6～20雙晶直探頭5晶片面積不小于150mm220～40單晶直探頭5φ14～φ20mm40～250單晶直探頭φ20～φ25mm（規(guī)范性附錄）的要求。兩種方法測得的結(jié)果以較嚴(yán)重者為準(zhǔn)。（板厚大于100mm時(shí)，以板厚的一半為準(zhǔn)）內(nèi)，缺陷的指示長度大于或等于50mm時(shí)，應(yīng)評為Ⅴ級。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC26—D/02012題 目超聲波檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 10 頁共 40 頁 b）CSⅡ試塊的形狀和尺寸應(yīng)符合圖5和表5的規(guī)定。，可采用橫波檢測。此時(shí)，探頭中心的移動距離即為缺陷的指示長度，探頭中心即為缺陷的邊界點(diǎn)。，CB II標(biāo)準(zhǔn)試塊應(yīng)符合圖2和表2的規(guī)定?！碧筋^系統(tǒng)，檢測前應(yīng)測定前沿距離、K值和主聲束偏離，調(diào)節(jié)或復(fù)核掃描量程和掃查靈敏度。所有影響超聲檢測的銹蝕、飛濺和污物等都應(yīng)予以清除，其表面粗糙度應(yīng)符合檢測要求。～10MHz，儀器至少在熒光屏滿刻度的80%范圍內(nèi)呈線性顯示。 除能確認(rèn)磁痕是由于工件材料局部磁性不均或操作不當(dāng)造成的之外，其他磁痕顯示均應(yīng)作為缺陷處理。濕法主要用于連續(xù)法檢測。為使試片與被檢面接觸良好，可用透明膠帶將其平整粘貼在被檢面上，并注意膠帶不能覆蓋試片上的人工缺陷。當(dāng)設(shè)備進(jìn)行重要電氣修理或大修后應(yīng)進(jìn)行校驗(yàn)。；長寬比小于或等于3的缺陷顯示跡痕按圓形缺陷處理?！?0分鐘干燥后，再采用適當(dāng)方法將顯像劑均勻地噴灑在整個(gè)被檢表面。，按JB/。，從陽光下進(jìn)入評片室的暗適應(yīng)時(shí)間一般為510min。，只要得到的底片質(zhì)量符合JB/ ，f值可以減小，但減小值不應(yīng)超過規(guī)定值的50%。壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 9 頁共 19 頁 源在外單壁透照環(huán)向?qū)雍附咏宇^，透照厚度比K=壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 10 頁共 19 頁 ，透照厚度比K=壓力容器制造通用工藝規(guī)程QB/GC23—D/02012題 目射線照相檢測工藝規(guī)程版次 / 修訂號：D / 0第 11 頁共 19 頁