材料分析方法之材料x射線衍射分析(專業(yè)版)
【正文】 激發(fā)態(tài)的原子有 2種釋放能量方式： 熒光效應(yīng)和俄歇效應(yīng)真吸收包括光電效應(yīng)和熱效應(yīng)所引起的入射能量消耗俄歇電子能譜(AES)分析X射線熒光光譜(XFS) 分析光電子、俄歇電子和熒光 X射線三種過程示意圖濾波片原理示意圖光源波長與試樣吸收譜的關(guān)系選擇 X射線靶材的依據(jù)吸收限的應(yīng)用 獲得單一波長的 X射線三、 X射線的散射216。 各波長 X射線強度越大，216。1914年，他因此獲得諾貝爾物理學(xué)獎金。材料分析方法材料分析方法第一部分第一部分 材料 X射線衍射分析主要內(nèi)容：216。布拉格父子（ W. L. Bragg ，子、 W. H. Bragg ，父）英國物理學(xué)家，在利用 X射線研究晶體結(jié)構(gòu) 方面作出了巨大的貢獻(xiàn)，奠定了 X射線譜學(xué)及 X射線結(jié)構(gòu)分析的基礎(chǔ) 。 ?swl與 ?m保持不變二、特征 X射線譜1） 由若干互相分離且具有特定波長的譜線組成；2）強度大大超過連續(xù)譜線的強度并迭加于連續(xù)譜線之上；3） 譜線波長不隨 X射線光管的工作條件（電壓和電流）而變，只決定于陽極靶物質(zhì)的原子序數(shù)實驗規(guī)律當(dāng) U≥UK時，在連續(xù)譜上特定波長出現(xiàn)出現(xiàn)一系列強度很高、波長范圍很窄的線狀光譜，稱為特征譜或標(biāo)識譜產(chǎn)生機理?K? ? ?K? X射線的應(yīng)用莫塞萊定律：特征 X射線的頻率或波長只取決于陽極靶物質(zhì)的原子能級結(jié)構(gòu)，而與其他外界因素?zé)o關(guān)。 X射線被物質(zhì)散射時可以產(chǎn)生兩種散射現(xiàn)象，即 相干散射和不相干散射 。 （同一元素）216。 ?swl與 ?m不變靶材的原子序數(shù) Z越高（ U ， i 不變）216。勞厄（ M.
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