【正文】 仿真系統(tǒng)的接線圖如下圖所示： Proteus軟件原理圖 仿真結(jié)果圖(1) 仿真結(jié)果圖（2） 仿真結(jié)果圖（3）通過改變傳感器信號輸入經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換器轉(zhuǎn)換出數(shù)字信號經(jīng)單片機(jī)處理檢測出的數(shù)據(jù)顯示在液晶顯示器上。當(dāng)I 1時，Q點的運動為圓環(huán)線運動，此時，內(nèi)圈速度小於外圈速度，同樣，I值愈接近1，其速度大小差值愈小，這種類型的運動不易重合，尺寸一致性好，表面光潔度高。當(dāng)配置2位數(shù)據(jù)為0、0時，將CH0作為正輸入端IN+，CH1作為負(fù)輸入端IN進(jìn)行輸入。DO——模數(shù)轉(zhuǎn)換結(jié)果串行輸出端。RST/Vpd（9 腳）為復(fù)位輸入端口，外接電阻電容組成的復(fù)位電路。AT89C51是一種帶4K字節(jié)FLASH存儲器（FPEROM—Flash Programmable and Erasable Read Only Memory）的低電壓、高性能CMOS 8位微處理器，俗稱單片機(jī)?？傊中吻€的分形維數(shù)越是趨近2，它在二維平面上的分布范圍越均勻。其中，又以接近整除且除不盡的轉(zhuǎn)速比，得到的研磨軌跡最致密；不管所選取的轉(zhuǎn)速比為何值，軌跡都一定會通過加工面的中心，而且隨著軌跡致密程度的提升，軌跡在加工面中心呈集中的趨勢，使工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象[9] 。 ( ） (2)不定偏心式為改善定偏心式設(shè)備的研磨軌跡均勻性，引入工件的平移運動，使工件中心與研磨盤中心的相對距離隨時間變化，構(gòu)成不定偏心式研磨設(shè)備。重點來闡述單面、雙面平面研磨軌跡。加工外圓柱面時,因工件既要滑動又要滾動，須合理選擇保持架孔槽型式和排列角度。主要用于圓片形或圓柱形工件端平面研磨，能獲得較高的平面度和較小的表面粗糙度。我們通常所說的研磨技術(shù)其工作原理就是利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進(jìn)行的精整加工，在加工時將被磨材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。正是由于散粒磨料研磨存在一些不足,所以許多學(xué)者在研究改進(jìn)這種研磨加工技術(shù)[1]。 此外，還有一種采用類似無心磨削原理的無心研磨機(jī)，用于研磨圓柱形工件。反之，計算工件相對研具的運動軌跡． 單面研磨拋光設(shè)備主要有雙軸式、直線式、搖擺式、計算機(jī)控制小工具四種類型，其中前三者是用大工具盤加工小工件。實際上，直線式研磨使用的不是研磨盤，而是具有柔性的砂帶(磨粒涂覆在履帶上)，工件做單純的回轉(zhuǎn)運動或在做回轉(zhuǎn)運動的同時，附加一個垂直于砂帶運動方向橫向運動或是繞固定點的擺動。典型的研磨軌跡有兩種形式，一種是傳統(tǒng)往復(fù)式。行星輪的自轉(zhuǎn)使由于工件中心與研磨盤中心之間的距離隨時間周期性變化，故該行星室研磨機(jī)構(gòu)也是一種不定偏心式研磨方式。AT89C51單片機(jī)為很多嵌入式控制系統(tǒng)提供了一種靈活性高且價廉的方案。ADC0832但由于DO端與DI端在通信時并未同時有效并與單片機(jī)的接口是雙向的，所以電路設(shè)計時可以將DO和DI也正是從此位開始輸出下一個相反字節(jié)的數(shù)據(jù)，即從第11個時鐘脈沖輸出D0。 A/D轉(zhuǎn)換子程序流程圖A/D轉(zhuǎn)換的目的是把前面經(jīng)過信號處理電路處理過的模擬量轉(zhuǎn)換為單片機(jī)能夠處理的數(shù)字量。通過對研磨運動軌跡的分析然后將其轉(zhuǎn)化為數(shù)學(xué)模型并計算出其軌跡公式，然后通過Proteus對研磨運動軌跡進(jìn)行仿真，仿真通過兩個電阻傳感器采集模擬信號, 通過改變電阻傳感器信號輸入經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換器轉(zhuǎn)換出數(shù)字信號經(jīng)單片機(jī)處理檢測出的數(shù)據(jù)顯示在液晶顯示器上,實現(xiàn)了對研磨運動軌跡的二維檢測。它是目前最好的仿真單片機(jī)及外圍器件的工具。通過程序?qū)⒆值拇a寫入相應(yīng)的DDRAM地址，就可以在相應(yīng)的位置顯示相應(yīng)的字。此時芯片開始轉(zhuǎn)換工作，同時由處理器向芯片時鐘輸入端CLK提供時鐘脈沖，DO/DI端則使用DI端輸入通道功能選擇的數(shù)據(jù)信號。其主要特點如下：8位分辨率，逐次逼近型，基準(zhǔn)電壓為5V；5V單電源供電；輸入模擬信號電壓范圍為0～5V；輸入和輸出電平與TTL和CMOS兼容；在250KHZ時鐘頻率時，轉(zhuǎn)換時間為32us；具有兩個可供選擇的模擬輸入通道；功耗低，15mW。空閑方式停止CPU的工作，但允許RAM，定時/計數(shù)器，串行通信口及中斷系統(tǒng)繼續(xù)工作。具體來講，雙軸式不定偏心設(shè)備的研磨軌跡均勻性較好，但適合于加工大尺寸()的工件；直線式研磨機(jī)構(gòu)運動形式簡單，但其研磨盤尺寸形狀較大，不便于加工；由于搖擺式研磨軌跡在加工面上的均勻程度與工件和拋光盤之間的轉(zhuǎn)速比()有著密切的關(guān)系，因此如何控制好轉(zhuǎn)速比()就成了研磨軌跡曲線的關(guān)鍵。理論上講，分形維數(shù)為1的曲線是不可能規(guī)則地鋪滿平面的，必然存在交叉點或空隙，而分形維數(shù)為2的Peano曲線(或稱Hilbert曲線)具有這樣的優(yōu)勢。典型的搖擺式設(shè)備的研磨盤以一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，工件夾頭裝在搖臂上，借著搖臂的往復(fù)擺動而產(chǎn)生扇形搖擺。一般認(rèn)為當(dāng)工件轉(zhuǎn)速與研磨盤轉(zhuǎn)速相等，即時，被加工表面材料去除均勻性最好。為使工件表面研磨均勻，從運動學(xué)角度歸納出如下的平面研磨最佳運動學(xué)條件[2]：(1)工件相對研具作平面運動，應(yīng)保證工件被研磨表面上各點相對研具均有相同或相近的研磨軌跡；(2)研磨運動是由工件與研具之間的相對運動實現(xiàn)的，工件表面上各點的研磨運動速度應(yīng)盡可能相同；(3)研磨運動方向應(yīng)不斷變化，研磨紋路交錯多變，以利于工件加工表面粗糙度的降低，但應(yīng)盡量避免工件被研磨表面上各點相對研具的研磨軌跡曲率變化過大；(4)研具或拋光盤工作表面的形狀精度會反映到工件表面上，所以工件的運動軌跡應(yīng)遍及整個研具表面并且分布均勻，以利于研具的均勻磨損；(5)工件相對研具在被研磨材料的去除方向上具有運動自由度，這樣可以避免因研磨機(jī)械的導(dǎo)向精度不高而引起誤差。 圓盤式研磨機(jī)這種研磨機(jī)分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機(jī)應(yīng)用最為普通[2]。一般來講，研磨軌跡主要有4種[1]：（1）直線研磨運動軌跡。由于研磨加工正向更高的加工精度發(fā)展,而且加工質(zhì)量也正在不斷提高,因此，以后研磨幾乎可以加工任何固態(tài)材料。其主要類型有圓盤式研磨機(jī)、轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)、磁力研磨機(jī)和各種專用研磨機(jī)。研磨工件表面的尺寸精度、形位精度、研磨工具的壽命及研磨效率等，在很大程度上取決于研磨運動。搖擺式研磨設(shè)備可以是定偏心雙軸式或直線式設(shè)備的改進(jìn)形式，工件除回轉(zhuǎn)運動外還附加一個繞固定點的擺動。不允許有不規(guī)則的空洞存在；(3)在XY方向上經(jīng)過的次數(shù)要盡可能接近；(4)