【摘要】中國最大的管理資料下載中心(收集\整理.部分版權(quán)歸原作者所有)第1頁共19頁集成電路常用單詞線路單元與支路單元Lineunitandtributaryunit鎖相Phase-lock定時基準(zhǔn)Timingreference帶電插拔Hotplug鈴流Ringingcur
2025-08-07 18:16
【摘要】復(fù)習(xí)1.高溫氧化工藝硅的熱氧化硅的熱氧化是指在高溫下，硅片表面同氧氣或水進(jìn)行反應(yīng)，生成SiO2。硅的熱氧化有：干氧、濕氧、水汽氧化三種。如果氧化前已存在厚度為t0的氧化層，則（3-11）微分方程的解為：（tOX：是總的氧化層厚度）??????tBAttO
2025-01-06 18:43
【摘要】集成電路制作合同 集成電路制作合同 立約人_________（以下簡稱甲方）與_________（以下簡稱乙方）。甲乙雙方為集成電路試制事宜，特立本合約，并同意條件如下： 第一條標(biāo)的物：委...
2024-12-17 00:19
【摘要】集成電路訂購合同 集成電路訂購合同 訂購合同 2004年07月20日 定購合同 為了明確雙方責(zé)任，以利于更好地進(jìn)行合作，經(jīng)雙方協(xié)商，特制定以下合同細(xì)則： 甲方（銷貨方）：深圳市思邦電...
2024-12-16 22:06
【摘要】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義：光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的：光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形，從而實現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程：以負(fù)膠為例來說明這八個步驟，一般可分為
2025-05-07 07:17
【摘要】集成電路設(shè)計基礎(chǔ)第三章集成電路制造工藝華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計中心殷瑞祥教授第3章IC制造工藝外延生長掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝2關(guān)心每一步工藝對器件性
2025-05-04 18:03
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