【摘要】北京郵電大學(xué)電子工程學(xué)院模擬CMOS集成電路課程實驗報告姓名:楊珊指導(dǎo)老師:韓可學(xué)院:電子工程班級:2013211204
2025-09-06 11:31
【摘要】北京藍圖工程設(shè)計有限公司我們的愿景是:打造中國第一家、先進、實用、最具競爭力的設(shè)計院!我們倡導(dǎo)的氛圍是:真實、簡單、自然、健康、快樂、成功主要內(nèi)容公司簡介231發(fā)展概況和主營業(yè)務(wù)4主要業(yè)績(近三年)資質(zhì)及各類獲獎情況公司簡介
2025-01-08 14:41
【摘要】數(shù)字集成電路設(shè)計?數(shù)字集成電路設(shè)計流程?FPGA?VerilogHDL3n+n+SGD+DEVICECIRCUITGATEMODULESYSTEMVerilog中什么是RTL?RTL寄存器傳輸級(register-transferlevel,RTL)
2025-01-31 09:31
【摘要】集成電路分析與設(shè)計第一章集成電路基本制造工藝本章概要?雙極工藝流程?CMOS工藝流程?CMOS先進工藝?BiCMOS工藝流程?無源器件雙極工藝流程典型NPN管剖面圖雙極工藝流程襯底選擇(1)襯底選擇對于典型的PN結(jié)隔離雙極集成電路,襯底一
2025-01-07 01:53
【摘要】集成電路后端設(shè)計簡介第一部分簡單導(dǎo)言集成電路的發(fā)展?集成電路(IC:IntegratedCircuit)是指通過一系列特定的加工工藝,將晶體管、二極管等有源器件和電阻、電容、電感等無源器件,按照一定的電路互連,“集成”在一塊半導(dǎo)體晶片上,并封裝在一個外殼內(nèi),執(zhí)行特定電路或系統(tǒng)功能的一種器件。?1965年,In
2025-01-07 01:54
【摘要】第九章版圖設(shè)計實例主要內(nèi)容1.CMOS門電路2.CMOSRAM單元及陣列3.CMOSD觸發(fā)器4.CMOS放大器5.雙極集成電路1.CMOS門電路(1)反相器電路圖
【摘要】集成電路課程設(shè)計論文劉旭波目錄【摘要】 -2-1.設(shè)計目的與任務(wù) -3-2.設(shè)計要求及內(nèi)容 -3-3.設(shè)計方法及分析 -4-74HC138芯片簡介 -4-工藝和規(guī)則及模型文件的選擇 -5-電路設(shè)計 -6-輸出級電路設(shè)計 -6-.內(nèi)部基本反相器中的各MOS尺寸的計算 -9-.四輸入與非門MO
2025-01-18 17:35
【摘要】一、北京地區(qū)集成電路企業(yè)北京華虹NEC集成電路設(shè)計有限公司 北京華虹集成電路設(shè)計有限公司 北京博旭華達科技有限公司 北京宏思電子技術(shù)有限責(zé)任公司 北京清華同方微電子有限公司 廣州市理惟科技有限公司北京分公司 思略微電子(北京)、上海地區(qū)集成電路設(shè)計企業(yè) 160。1上海集成電路設(shè)計研究中心 2新濤科技(上海)有限公司 3上海華龍信息技
2025-06-30 21:08
【摘要】第七章集成電路版圖設(shè)計版圖設(shè)計概述?版圖(Layout)是集成電路設(shè)計者將設(shè)計并模擬優(yōu)化后的電路轉(zhuǎn)化成的一系列幾何圖形,包含了集成電路尺寸大小、各層拓撲定義等有關(guān)器件的所有物理信息。?集成電路制造廠家根據(jù)版圖來制造掩膜。版圖的設(shè)計有特定的規(guī)則,這些規(guī)則是集成電路制造廠家根據(jù)自己的工藝特點而制定的。不同的工藝,有不同的設(shè)計規(guī)則。
【摘要】第一章集成電路的發(fā)展(IntegratedCircuits)?集成電路:指通過一系列特定的加工工藝,將晶體管,二極管等有源器件和電阻,電容,電感等無源器件,按照一定的電路互連,”集成”在一塊半導(dǎo)體晶片上,封裝在一個外殼內(nèi),執(zhí)行特定電路或系統(tǒng)功能的一種器件.(Moore’sLaw)?它對集成電路的發(fā)展有
2025-02-28 05:55
【摘要】集成電路版圖設(shè)計與驗證第三章集成電路制造工藝?雙極集成電路最主要的應(yīng)用領(lǐng)域是模擬和超高速集成電路。?每個晶體管之間必須在電學(xué)上相互隔離開,以防止器件之間的相互影響。?下圖為采用場氧化層隔離技術(shù)制造的NPN晶體管的截面圖,制作這種結(jié)構(gòu)晶體管的簡要工藝流程如下所示:?(1)原始材料選?。褐谱鱊
2025-01-06 18:43
【摘要】集成電路制造技術(shù)第八章光刻與刻蝕工藝西安電子科技大學(xué)微電子學(xué)院戴顯英2023年9月主要內(nèi)容n光刻的重要性n光刻工藝流程n光源n光刻膠n分辨率n濕法刻蝕n干法刻蝕第八章光刻與刻蝕工藝nIC制造中最重要的工藝:①決定著芯片的最小特征尺寸②占芯片制造時間的40-50%③占制造成本的30%n光刻
2025-01-06 18:34