[精選]現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝-資料下載頁

【摘要】現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延1晶體生長和外延現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝PhysicsandTechnologyofModernSemiconductorDevices2023,7,30現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延2晶體生長與外延對分立器件而言，最重要的半導(dǎo)

2025-01-23 03:14

半導(dǎo)體光刻工藝技術(shù)基礎(chǔ)-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體光刻工藝技術(shù)基礎(chǔ)芯碩半導(dǎo)體(中國)有限公司做世界一流產(chǎn)品創(chuàng)世界一流品牌Contents1.半導(dǎo)體技術(shù)2.光刻技術(shù)在IC制造中的作用3.光刻的工藝流程4.光刻膠5.光刻機6.光源7.技術(shù)改進(jìn)和新技術(shù)一、半導(dǎo)體技術(shù)?半導(dǎo)體定義?半導(dǎo)體發(fā)展歷史

2025-04-29 05:02

[精選]半導(dǎo)體制造工藝課件-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝第4章　氧　　化第4章　氧　　化　引言　二氧化硅膜的性質(zhì)　二氧化硅膜的用途　熱氧化原理　氧化設(shè)備　氧化膜的質(zhì)量控制　氧化工藝模擬　引言二氧化硅(SiO2)是一種絕緣介質(zhì)。它在半導(dǎo)體器件中起著十分重要的作用。硅暴露在空氣中，即使在室溫條件下，其表面也能生長一層4nm左右的氧化膜。這一層氧化膜結(jié)構(gòu)致密，能防止硅表面繼續(xù)被氧

2025-03-01 04:31

眼鏡工藝流程-資料下載頁

【摘要】第一篇：眼鏡工藝流程 眼鏡生產(chǎn)工藝流程 一、設(shè)計開單 1、設(shè)計開發(fā) 2、繪圖 3、開單 4、跟單 5、發(fā)單.二、車間生產(chǎn) （1）開料：尺寸計算，怎樣節(jié)約開料方式。 （2）車內(nèi)圈：...

2025-09-14 04:28

高爐工藝流程-資料下載頁

【摘要】第一篇：高爐工藝流程 高爐煉鐵生產(chǎn)工藝流程簡介 ----冶金自動化系列專題 [導(dǎo)讀]:高爐煉鐵生產(chǎn)是冶金(鋼鐵)工業(yè)最主要的環(huán)節(jié)。高爐冶煉是把鐵礦石還原成生鐵的連續(xù)生產(chǎn)過程。鐵礦石、焦炭和熔劑等...

2025-09-22 08:58

機井工藝流程-資料下載頁

【摘要】第一篇：機井工藝流程 機井工藝流程 1、施工要求 水文水井鉆機安裝 S系列水文水井鉆機大多為車載鉆機或移動式鉆機，此類鉆機的安裝工作較為方便。在預(yù)定的孔位旁平整一塊較堅實的場地，將鉆機開進(jìn)或拖...

2025-10-01 17:20

半導(dǎo)體封裝流程(ppt45頁)-資料下載頁

【摘要】LogoIntroductionofICAssemblyProcessIC封裝工藝介紹LogoIntroductionofICAssemblyProcess一、概念半導(dǎo)體芯片封裝是指利用膜技術(shù)及細(xì)微加工技術(shù)，將芯片及其他要素在框架或基板上布局、粘貼固定及連接，引出接線端子并通過可塑性絕緣介質(zhì)灌封固

2025-02-26 01:37

半導(dǎo)體業(yè)廢水處理流程-資料下載頁

【摘要】1半導(dǎo)體業(yè)廢水處理流程簡介組員：942714蕭皓云942726黃郁雯942727李名妙942734吳士嫻942751莊語紜942755陳怡君科任教授：鄧宗禹大綱內(nèi)容一、半導(dǎo)體的介紹二、晶圓製作流程三、廢水來源四、廢水處理系統(tǒng)

2025-05-14 06:21

[精選]半導(dǎo)體制造工藝第3章清洗工藝-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝第3章　清洗工藝第3章　清洗工藝　引言　污染物雜質(zhì)的分類　清洗方法概況　常用清洗設(shè)備——超聲波清洗設(shè)備　質(zhì)量控制　引言表3-1　國際半導(dǎo)體技術(shù)指南——清洗技術(shù)　引言表3-1　國際半導(dǎo)體技術(shù)指南——清洗技術(shù)　污染物雜質(zhì)的分類表3-2　各種沾污的來源和相對的影響　污染物雜質(zhì)的分類　

2025-03-01 04:30

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_04光刻(上)-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的作用和目的圖形的產(chǎn)生和布局1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的定義光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。用照相復(fù)印的方法將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面的光刻膠上，以實現(xiàn)后續(xù)的有選擇刻蝕或

2025-02-28 12:02

半導(dǎo)體文件-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體文件 4 7 13 16 19 25 26 29l前奏 292電冰箱典型制冷循環(huán) 303電冰箱制冷循環(huán)比較分析研究 344雙路搖環(huán)制冷系統(tǒng)存在問題及解決方案 355結(jié)語 37 37 38第2章 38 38 402.4半導(dǎo)體制冷制熱工況設(shè)計 422.5冷熱端的熱交換性能 442.6小結(jié) 47

2025-08-11 20:58

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_08擴(kuò)散(下)-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)第六章擴(kuò)散原理(下)上節(jié)課主要內(nèi)容1、摻雜工藝一般分為哪兩步？結(jié)深？薄層電阻？固溶度？2、兩種特殊條件下的費克第二定律的解及其特點？特征擴(kuò)散長度？預(yù)淀積＋退火。預(yù)淀積：氣固相預(yù)淀積擴(kuò)散或離子注入。Rs：表面為正方形的半導(dǎo)體薄層（結(jié)深），在平行電流方向所呈現(xiàn)的電阻，單位為?/?，反映擴(kuò)散入硅

2025-03-03 14:53

半導(dǎo)體工藝流程(完整版)

半導(dǎo)體工藝流程(更新版)

半導(dǎo)體工藝流程(專業(yè)版)

半導(dǎo)體工藝流程(留存版)