【正文】 所需製程資料編輯。 廣波域介面功能測(cè)試 將游標(biāo)移至”功能測(cè)試”224。 PLC相關(guān)功能測(cè)試 將游標(biāo)移至”功能測(cè)試”224。若要停止擷取按”停止”鈕即可，若要離開測(cè)試則按”退出”。說(shuō)明如下:1) 若腔體氧流量控制(APC)是由 PLC D/A模組輸出控制，而不是經(jīng)由獨(dú)立 D/A卡輸出控制，則此測(cè)試功能反白無(wú)效，將此測(cè)試功能併入 PLC相關(guān)功能測(cè)試中。若通道用完，無(wú)通道可換，就需送修。3) 點(diǎn)按”內(nèi)定值”可查看原始設(shè)定，只要不按”確認(rèn)”就不會(huì)儲(chǔ)存。說(shuō)明如下:1) 下拉列表點(diǎn)選 PLC 型式，若無(wú)需此項(xiàng)功能或欲關(guān)閉此功能，則須點(diǎn)選”NONE”。 ”離開”,即可關(guān)閉此系統(tǒng)?！遍_啟製程”點(diǎn)選,。 Auto1 執(zhí)行檔若出現(xiàn)問(wèn)題，無(wú)法正常關(guān)閉時(shí)，請(qǐng)使用 Windows 關(guān)閉，再開啟 Auto1 即可。 : 此系統(tǒng)主要功能 分為下列七大項(xiàng)，將逐項(xiàng)說(shuō)明。在此畫面下即可點(diǎn)選之前已存舊檔案，開啟舊檔後便可進(jìn)行編輯(副檔名為*.tfc)。 硬體設(shè)定功能此主下拉功能細(xì)分下列幾項(xiàng)次功能 主控 PLC 介面 真空計(jì)介面 石英振盪器介面 膜厚監(jiān)控器介面 離子鎗流量控制器介面 離子鎗陰極控制器介面 離子鎗陽(yáng)極控制器介面 D/A Channel 設(shè)定 ,每項(xiàng)皆有內(nèi)定值。2) 在傳輸埠列項(xiàng)中，點(diǎn)選與硬體相對(duì)應(yīng)的傳輸埠設(shè)定3) 若確定無(wú)誤，需點(diǎn)按”確定”按鈕才能有效設(shè)定與離開，若無(wú)法確認(rèn)或只是查看請(qǐng)按 ”取消”離開。 D/A Channel 設(shè)定： 將游標(biāo)移至”硬體設(shè)定功能”224。6) 若同時(shí)有數(shù)個(gè)通道有誤，有可能卡沒(méi)插好或翹起，可試著打開電腦重新安裝(注意:務(wù)必關(guān)閉電腦電源) ，若幾次尚不能解決，此卡就需考慮送修。2) 其測(cè)試相當(dāng)簡(jiǎn)單，在設(shè)定框輸入所想輸出之流量，再點(diǎn)擊”輸出”按鈕即可。3) 誠(chéng)如 ，Gauge Monitor 是透過(guò) RS232 或 RS485與電腦通訊，其故障點(diǎn)有三個(gè)部份:； COM PORT 故障； Monitor 相關(guān)設(shè)定被更改或故障?！盤LC相關(guān)功能測(cè)試”點(diǎn)選,即出現(xiàn)。”廣波域介面功能測(cè)試”點(diǎn)選,即出現(xiàn)。1) ，提供了三種功能，方便使用者進(jìn)行膜層之增加與刪減，可在說(shuō)明編輯畫面中加入注解，方便往後資料追蹤。只要膜層控制方法選用x1或x0(見*方法) ，其膜厚之參考波長(zhǎng)就是此值。所以監(jiān)控膜厚實(shí)為 膜厚x比率。如:方法: 21 表用 1 號(hào)電極、光學(xué)膜厚監(jiān)控、自動(dòng)切換膜層。 1:真空度控制，電腦會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)氧流量來(lái)符合所設(shè)定之真空度。真空度單位: E5 Torr 如設(shè) 8 表 Torr。*:設(shè)定膜層蒸著最小時(shí)間，若膜層小於此設(shè)定時(shí)間完成，就會(huì)出現(xiàn)警報(bào)，等待處裡。*: 設(shè)定膜層蒸著所需離子鎗資料編碼，其相關(guān)編號(hào)內(nèi)容，參考離子鎗資料設(shè)定檔。選取所需監(jiān)控波長(zhǎng)，鍵盤↑↓鍵或用滑鼠點(diǎn)選↑↓可切換膜層，選至最後一層時(shí)，點(diǎn)選儲(chǔ)存鍵即可儲(chǔ)存，若按取消鍵，就不會(huì)儲(chǔ)存新選擇之監(jiān)控波長(zhǎng)。 分析檔參數(shù)設(shè)定將游標(biāo)移至”製程分析”224。2) *01新增基材資料: ”功能”選項(xiàng)點(diǎn)選”增加基材材料”，鍵入所要基材名稱，按下OK即可完。此畫面之功能鍵提供了增加膜材與刪除膜材資料功能?！蹦げ姆治鼋Y(jié)果”點(diǎn)選，即出現(xiàn)如圖 。尤其膜層愈多顯現(xiàn)的效率愈好。2) 與蒸著製程監(jiān)控的相關(guān)參數(shù)有製程組態(tài)參數(shù)、電子鎗參數(shù)、電極參數(shù)、電子鎗掃瞄參數(shù)與離子源參數(shù)等等，若系統(tǒng)中沒(méi)有提供某項(xiàng)設(shè)定功能，則此功能列呈現(xiàn)反白。，若有問(wèn)題，會(huì)出現(xiàn)一些訊息或無(wú)法進(jìn)入蒸著，可利用硬體測(cè)試作逐項(xiàng)測(cè)試，進(jìn)而排除故障點(diǎn)。2. 修正板就定位3. 監(jiān)控片位置定位確認(rèn)4. 坩堝位置定位確認(rèn)5. 通氧確認(rèn)6. 石英條件確認(rèn)7. 膜藥預(yù)融8. 參考光量確認(rèn)(光學(xué)膜厚監(jiān)控)或石英膜厚確認(rèn)是否歸零(物理膜厚監(jiān)控)9. 打開電子鎗遮板，進(jìn)行蒸著10. 即時(shí)監(jiān)控膜厚與蒸著條件，達(dá)設(shè)定膜厚即關(guān)閉電子鎗與遮板，進(jìn)入 下層，重複19之動(dòng)作 補(bǔ)層蒸著1) 將游標(biāo)移至”製程監(jiān)控”224。 *: 若進(jìn)入之補(bǔ)層是監(jiān)控片的第一層且尚未鍍過(guò)，確認(rèn)現(xiàn)在監(jiān)控片是否用過(guò)，若用過(guò)則選擇”是(Yes)”，反之選”否(No)”。2) 參數(shù)說(shuō)明: :*取樣平均數(shù):*雜訊判斷值(%):*雜訊平均數(shù): 以上三值只對(duì)光學(xué)膜厚監(jiān)控有效，若使用者對(duì)系統(tǒng)不是很瞭解的話，強(qiáng)烈建議使用內(nèi)定值，不要任意更改。 適用於定真空模式(模式3)。值大調(diào)節(jié)快，但不可過(guò)大，以免產(chǎn)生調(diào)節(jié)振盪。單圈旋轉(zhuǎn)之監(jiān)控片機(jī)構(gòu)未必有提供模式1的轉(zhuǎn)換型式，依實(shí)際系統(tǒng)而定。有的系統(tǒng)版本沒(méi)有提供此項(xiàng)功能。建議如有新添加膜材，則預(yù)融時(shí)間要拉長(zhǎng)，一般第一層高折射率材料需特別注意。：按下此鍵，再經(jīng)通關(guān)密碼，即可儲(chǔ)存此光量資料作為 製程中自動(dòng)參考光量掃瞄檢查基準(zhǔn)，其是否檢查與檢查容差設(shè)定底下說(shuō)明。：若需更新，就需利用”儲(chǔ)存”鍵儲(chǔ)存退出。2) 使用者點(diǎn)選監(jiān)控波長(zhǎng)後，可藉由此監(jiān)控波長(zhǎng)顯示，再次確認(rèn)是否選擇適當(dāng)、是否需重新點(diǎn)選。若要繼續(xù)蒸著就需點(diǎn)按”自動(dòng)繼續(xù)”或手動(dòng)繼續(xù)，方能打開遮板繼續(xù)蒸鍍。 率：在固定功率蒸著的情況下，可利用此鍵即時(shí)進(jìn)行功率微調(diào)，其微調(diào)增量見製程組態(tài)參數(shù)。 6. 掃瞄點(diǎn)：顯示現(xiàn)在監(jiān)控掃瞄點(diǎn)數(shù)。 (流量)：顯示此層所設(shè)定的真空或流量，與通氧模式有關(guān)。 4) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能，蒸著中若關(guān)閉此圖，可藉由點(diǎn)選”蒸著製程狀態(tài)訊息”，即可顯示出。譬如說(shuō)：低折射率膜層穿透率增加，曲線向上，高折射率膜層穿透率降低，曲線向下。由圖可看出蒸著速率是否調(diào)節(jié)適當(dāng)。在真空的模式時(shí)，綠色直線是真空設(shè)定值，紅色曲線是即時(shí)真空值，由其曲線變化可看出氧流量調(diào)節(jié)是否適當(dāng)；在定流量的模式時(shí)，只有顯示真空即時(shí)值，以紅色曲線表示之。3. 量測(cè)參數(shù)：設(shè)定穿透率量測(cè)範(fàn)圍，如要利用此量測(cè)檢測(cè)光譜雜訊，建議範(fàn)圍設(shè)為99%101%，較易觀察。 量測(cè)參數(shù)1) 將游標(biāo)移至”線上量測(cè)”224。3) *Substate：若選擇基板材料，則基準(zhǔn)光譜與基材光譜一樣，一般使用它，可不必拆下監(jiān)控片就可量測(cè)其光譜量。2) 使用方法：，輸入基材穿透率(未鍍)後按”基材N計(jì)算”，便可穫得基材折射率；也可反向操作，先輸入基材折射率，再按”基材穿透率”，便可計(jì)算出基材穿透率。*點(diǎn)選單面反射，其操作方式跟2一樣，其輸入值及量測(cè)皆為單面反射率(R%)。 參考光量掃瞄 暗區(qū)掃瞄 其他功能 此主下拉功能細(xì)分下列幾項(xiàng)次功能 計(jì)算NK值(3點(diǎn)) 計(jì)算NK值(單點(diǎn)) 計(jì)算NK值(3點(diǎn)) 1) 將游標(biāo)移至”其他功能”224。2) 按鍵說(shuō)明：：儲(chǔ)存設(shè)定且關(guān)閉設(shè)定畫面。5. 量測(cè)：實(shí)際置放量測(cè)物於光路上進(jìn)行量測(cè)，若要檢測(cè)光譜雜訊，不必放置任何東西。 蒸著製程鍍藥預(yù)融1) 當(dāng)製程進(jìn)入膜材預(yù)融程序。 蒸著製程氧氣流量訊息1) 當(dāng)蒸著源遮板打開進(jìn)入實(shí)際蒸著後。 蒸著製程石英膜厚訊息1) 蒸著膜層若是石英膜厚監(jiān)控，在蒸著源遮板打開後。2) 此圖所顯示是一個(gè)蒸著過(guò)程中即時(shí)反應(yīng)的廣波域，橫座標(biāo)是波長(zhǎng)(nm)，縱座標(biāo)是光量穿透率(%)。 16. 遮板：顯示遮板開或關(guān)。 8. 流量：顯示現(xiàn)在流量設(shè)定值。其微調(diào)增量見製程組態(tài)參數(shù)。 略：按下此功能，將省略正在進(jìn)行之步驟，如電子鎗預(yù)融、坩堝監(jiān)控片定位、真空調(diào)節(jié)、等待真空、等待時(shí)間等等，進(jìn)行下一個(gè)步驟。若有需要修改膜厚，亦可利用此功能，記錄原監(jiān)控波長(zhǎng)，分析後再點(diǎn)選相同監(jiān)控波長(zhǎng)，可增加監(jiān)控的準(zhǔn)確性。3) 在進(jìn)行暗區(qū)掃瞄取樣時(shí)，切記要關(guān)閉光源或遮住光量，使其無(wú)法進(jìn)入光譜系統(tǒng)，確保取樣資料正確。如參考光量基準(zhǔn):50000，容差上限:%，容差下限:%，若初始光量沒(méi)有落在4500052500之間則會(huì)出現(xiàn)報(bào)警。7) 若系統(tǒng)含有電極功能，也是使用此參數(shù)組預(yù)融、作動(dòng)，但SCSC2與SC3是沒(méi)有作用的。有的系統(tǒng)版本沒(méi)有提供此項(xiàng)功能。 1 表自動(dòng)洩?dú)猓? 則否。:*高折射高功率限制: 設(shè)定高折射膜材最大功率限制，適用於有設(shè)定蒸著速率的情況下，以免調(diào)節(jié)過(guò)大，造成坩堝的破壞。:*氧流量調(diào)節(jié): 設(shè)定蒸鍍時(shí)，自動(dòng)調(diào)節(jié)氧流量之快慢值。*低真空限制: 設(shè)定鍍膜時(shí)低真空限制，單位為105Toor，若蒸著中，系統(tǒng)壓力大於此設(shè)定值超過(guò)五秒就會(huì)出現(xiàn)異常警報(bào)訊息。有的版本無(wú)此選項(xiàng)功能，監(jiān)控片內(nèi)定不會(huì)轉(zhuǎn)動(dòng)，若有需要須手動(dòng)切換。2) 什麼時(shí)機(jī)會(huì)用到補(bǔ)層蒸著程序呢？一般製程正常的話，只要點(diǎn)選”自動(dòng)蒸著”，就可順利完成鍍膜製程，但製程中若有異?；驙顩r發(fā)生，迫使蒸著製程必要中斷的話，就必要利用”補(bǔ)層蒸著”由中斷層進(jìn)入蒸著，完成整個(gè)鍍膜程序，否則只有報(bào)廢。、監(jiān)控片位置或是否自動(dòng)洩?dú)馓崾究?，?wù)必詳加確認(rèn)。每一訊息框可獨(dú)立放大、縮小或關(guān)閉，是不會(huì)影響自動(dòng)蒸著程序，若關(guān)掉其中某一訊息框，可點(diǎn)選相對(duì)應(yīng)之下拉功能鍵將其顯示出來(lái)，如關(guān)閉監(jiān)控波長(zhǎng)訊息，將游標(biāo)移至”製程監(jiān)控”224。”資料轉(zhuǎn)換”點(diǎn)選，即出現(xiàn)如圖 ，點(diǎn)選路徑及所要轉(zhuǎn)換的薄膜設(shè)計(jì)檔檔名，再按下”開啟”鍵，就會(huì)出現(xiàn)如圖 。若使用者對(duì)製程未分析或膜厚有所改變的話，此功能就會(huì)反白，提省使用者注意。 *02刪除膜材資料: ，將滑鼠點(diǎn)選所要移除的膜材(呈現(xiàn)反藍(lán)) ，再點(diǎn)選”功能”選項(xiàng)裡的”刪除膜材材料”，按是即可刪除，反之按否。(需注意刪除路徑檔名是否正確)。1) 起始波長(zhǎng)與終止波長(zhǎng)是分析波長(zhǎng)之開始(最短波長(zhǎng))與截止(最長(zhǎng)波長(zhǎng))，而起始校正波長(zhǎng)與終止校正波長(zhǎng)是光譜量測(cè)系統(tǒng)校正波長(zhǎng)，此四個(gè)參數(shù)與光譜系統(tǒng)是相關(guān)的，無(wú)法更改的，也不允許更改。 ?選取有回頭點(diǎn)之監(jiān)控波長(zhǎng)，其最後一段穿透率變化量需大於 % 以上