電子束離子束加工ppt課件(完整版)
【正文】 蒸發(fā)而去除 。 由于電子束能量密度高 ， 可使任何材料瞬時(shí)熔化 、 汽化且機(jī)械力的作用極小 ， 不易產(chǎn)生變形和應(yīng)力 ， 故能加工各種力學(xué)性能的導(dǎo)體 、 半導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料 。電子束打孔還能加工小深孔，如在葉片上打深度 5mm、直徑 ，孔的深徑比大于 10： 1。電子束熱處理的加熱速度和冷卻速度都很高，在相變過程中，奧氏體化時(shí)間很短，只有幾分之一秒乃至千分之一秒，奧氏體晶粒來不及長(zhǎng)大，從而能獲得一種超細(xì)晶粒組織，可使工件獲得用常規(guī)熱處理不能達(dá)到的硬度，硬化深度可達(dá) ～ 。 3) 離子鍍 (又稱離子濺射輔助沉積 ) 離子同時(shí)轟擊靶材和工件表面 ， 目的是為了增強(qiáng)膜材與工件基材之間的結(jié)合力 。 在目前的工業(yè)生產(chǎn)中 ， 離子束加工主要應(yīng)用于刻蝕加工 (如加工空氣軸承的溝槽 ， 加工極薄材料等 )、鍍膜加工 (如在金屬或非金屬材料上鍍制金屬或非金屬材料 )、 注入加工 (如某些特殊的半導(dǎo)體器件 )等 。其次是鍍膜剛開始時(shí)，由工件表面濺射出來的基材原子，有一部分會(huì)與工件周圍氣氛中的原子和離子發(fā)生碰撞而返回工件。 離子注入可提高材料的耐腐蝕性能，改善金屬材料的耐磨性能，提高金屬材料的硬度，改善金屬材料的潤滑性能等。而后，隨膜層的增厚，逐漸過渡到單純由膜材原子構(gòu)成的膜層。當(dāng)離子束轟擊工件，入射離子的動(dòng)量傳遞到工件表面的原子，傳遞能量超過了原子間的鍵合力時(shí)，原子就從工件表面撞擊濺射出來，達(dá)到刻蝕的目的。 工件表面層含有注入離子后 ，就改變了化學(xué)成分 ， 從而改變了工件表面層的機(jī)械物理性能 。 所不同的是離子帶正電荷 ， 其質(zhì)量比電子大數(shù)千倍乃至數(shù)萬倍 ， 故在電場(chǎng)中加速較慢 ，但一旦加至較高速度 ， 就比電子束具有更大的撞擊動(dòng)能 。如在硅片上刻出寬 ，深 ，在混合電路電阻的金屬鍍層上刻出 40μm寬的線條。 (
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