odf段工藝設(shè)備培訓資料(完整版)
【正文】 檢測能使 A=B的位置，貼合精度以所測得的 Vernier值來表示。 330mm Y方向： +630mm， 550mm Shanghai Tianma Microelectronics 34 三、主要設(shè)備工藝參數(shù) 液晶滴下（ ODF） 主要控制參數(shù)： ? 液晶滴下量（ mg/drop） ? 液晶滴下位置 (滴定形狀 ) ? 液晶滴下打點數(shù)（每屏所需液晶量） ? 液晶脫泡條件（時間、真空度） ? QTime（液晶滴下～真空貼合） Shanghai Tianma Microelectronics 35 三、主要設(shè)備工藝參數(shù) 工藝性能要求： 貼合精度： 177。 m ） 到達真空度： 真空到達時間： 60秒內(nèi)達到 1Pa以下； 120秒內(nèi)達到 真空貼合 Shanghai Tianma Microelectronics 36 四、高效空氣微粒子過濾器 ULPA： HEPA： 高效空氣微粒子過濾器 m以上的微粒子 過濾效率達到 %以上 m以上的微粒子 過濾效率達到 %以上 廣泛運用于無菌（塵）室、手術(shù)室、 GMP工程、半導體元氣件的生產(chǎn)車間和一些對空氣潔凈度有極端嚴格要求的場合。 2UV Lamp Shutter開啟后， Lamp開始照射，保證基板各個部分受到均勻的 UV照射。 4主要參數(shù)： ?液晶滴下量 (新品種導入時經(jīng)試作決定 ) 5難點： ?不同品種液晶使用的 Pump的區(qū)分管理 ?Pump的組裝和清掃 MPP工作原理簡圖 原點 充填 閥門切換 Drop 一、 ODF段主要工裝設(shè)備 Shanghai Tianma Microelectronics 15 Syringe ， Nozzle 洗凈 Flow Valve ， Tube 洗凈 Flow Plunger Syringe Nozzle Valve Tube Acetone 1 Acetone 2 Acetone 3 Dip 洗凈 漂洗 Dip 洗凈 漂洗 USC洗凈 80kHz 超聲波洗 N2 干燥 N2 Gun 吹干 Acetone 用氣缸驅(qū)動三通 Valve， 通丙酮進行沖洗 壓力為 流量 125mL/min N2 干燥 用氣缸驅(qū)動三通閥，通 N2 一、 ODF段主要工裝設(shè)備 Shanghai Tianma Microelectronics 16 滴下位置：Ｓｅａｌ寄り 液晶 本 Seal 補助 Seal 液晶 液晶 glass glass 滴下位置：最適 液晶 本 Seal 補助 Seal 液晶 液晶 glass glass 滴下位置：Ｃｅｌｌ中央寄り 液晶 本 Seal 補助 Seal 液晶 液晶 glass glass 滴下位置穩(wěn)定性 滴下位置不是最佳位置時，在大氣開放時，面內(nèi)壓力差產(chǎn)生。同時有利于后工程的切斷 Gap Sensor Glass基板 Seal材 Syringe nozzle Nozzle高度由 Gap Sensor 實時 Feedback校正 N2壓力 基臺移動方向 Gap [原理 ]： 1將 Seal與 Spacer充分調(diào)合好后填充 入 Syringe，并進行真空離心脫泡。 Spacer在高速的 N2作用下沿 SUS配管中移動。 4主要參數(shù)： ?Gap ?Spacer徑，混合比 ?Nozzle直徑 Φ ?Seal材黏度
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