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正文內(nèi)容

有色金屬冶金學(xué)純化合物制備(完整版)

  

【正文】 、勞動(dòng)條件好、回收率高~%、產(chǎn)品質(zhì)量好 缺點(diǎn):耗水多、廢水處理量大、對(duì)精礦含鉬要求嚴(yán)格、設(shè)備腐蝕比較嚴(yán)重、 企業(yè):廈門鎢品廠、南寧鋁廠硬質(zhì)合金分廠、株洲鎢鉬材料廠 鎢冶金(三) 金屬鎢的生產(chǎn) Fabrication of Metallic Tungsten APT或鎢酸生產(chǎn) WO3 ? H2WO4:180度開始脫水, 500度完全脫水 ? APT: 300度開始, 500完全轉(zhuǎn)化為 WO3 中性或弱還原氣氛得到 蘭色氧化鎢; 氧化氣氛得到 黃色氧化鎢 組成隨溫度、氣氛而變: 400~500度銨鎢青銅 500以上: WOx, x=~ ? 反應(yīng)溫度: 根據(jù)不同用途選擇焙燒溫度 WO3的制備與還原 蘭色氧化鎢、黃色氧化鎢的比較 : 比表面大、化學(xué)活性強(qiáng)(原因見(jiàn)下一個(gè)問(wèn)題)、還原制備鎢粉的過(guò)程中鎢粉粒度容易控制、特別適合生產(chǎn)攙雜鎢粉(鎢絲用)和細(xì)粒鎢粉。 由金屬絡(luò)陰離子與 大體積的有機(jī)陽(yáng)離子締合 ﹑ 形成離子對(duì) ﹐ 而被有機(jī)溶劑萃取的體系。這種分離方法具有裝置簡(jiǎn)單 ﹑ 操作容易的特點(diǎn) ﹐即能用來(lái)分離 ﹑ 提純大量的物質(zhì) ﹐ 更適合于微量或痕量物質(zhì)的分離 ﹑ 富集 原理 Nernst分配定律是溶劑萃取化學(xué)的最基本定律 ﹐ 可以用以下方程式表示 ﹕ Kd=[αM](o)/[αM](aq) Kd為分配系數(shù) ﹐ 在一定溫度下為常數(shù)。 Cl的交換能力比鎢酸根大,因此用 Cl,對(duì)交換后的樹脂進(jìn)行 解吸、再生。C ,加入理論量 125~150%的 NaHS,煮沸 生成硫代鉬酸根 (MoS42)離子; (2)用 10~20%的鹽酸 中和 到PH=~3 ,煮沸 ~2小時(shí), 過(guò)濾 。 此時(shí),向溶液中加入 MgCl2,則生成溶解度很小的 鎂鹽 而將雜質(zhì)除去;也可以先加入NH4Cl,再加入 MgCl2,使之生成相應(yīng)的 銨鎂鹽 (溶解度比相應(yīng)的鎂鹽高)而除去雜質(zhì)。 APT制備純 WO3。鎢冶金 (二 ) 純鎢化合物的制備 Manufacture of Pure Tungsten Compounds 概述 鎢精礦經(jīng)過(guò) 純堿壓煮法 、 苛性鈉浸出法 兩種堿處理和 酸分解工藝 或純堿燒結(jié)等工藝后,得到的是 Na2WO4溶液。 傳統(tǒng)化學(xué)凈化法流程圖 粗 Na2WO4溶液的凈化 (除硅) (1)除 P、 As、 F、 Si: 原則 : 先除 Si,然后 P、 As、 F一起被除掉; 除 Si: (a)原理:利用 SiO3 2離子 的水解反應(yīng)使硅以偏硅酸 (H2SiO3)的形式除去 。 上述方法分別稱為 鎂鹽法 和 銨鎂鹽法 。 ? : 98~99%Mo可被除去,溶液容許的鉬含量是 ~從 Na2WO4溶液生產(chǎn)鎢酸 方法 1.:向 Na2WO4溶液直接加入酸:這種方法制備的鎢酸較 難洗滌、過(guò)濾 、 產(chǎn)品 Na+離子含量很高 ,故不常用。 常見(jiàn)鎢冶金離子交換樹脂 離子交換樹脂結(jié)構(gòu)示意圖 換樹脂 ,能交換溶液中的陽(yáng)離子 的是三維方向上的交聯(lián)點(diǎn) ,也就是說(shuō) ,樹脂的結(jié)構(gòu)是三維的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu) ,而不僅限于平面的二維結(jié)構(gòu) 離子交換 (續(xù) ) 離子交換樹脂的 再生 :將交換 耗竭的 離子交換樹脂轉(zhuǎn)化為所需要的型式叫做再生。 只有被萃取物含量很低 ﹐ 且被萃取物在兩相中存在形式相同時(shí) Nernst定律適用。 其中以形成溶劑配位化合物萃取和高分子胺萃取最為重要。株洲硬質(zhì)合金廠、自貢硬質(zhì)合金廠、廈門鎢品廠已經(jīng)全部采用蘭色氧化鎢。晶核進(jìn)一步張大使 WO2聚合體。對(duì)鎢而言,模壓臨界壓力為 4~6噸 /Cm2,一般在 ~5t/cm2 潤(rùn)滑劑 鎢粉 混粉 ~5t/cm2壓型坯體密度 :12~13g/cm3 冷等靜壓 冷等靜壓 :與模壓相比,各處壓力均勻。然后進(jìn)行電弧爐重熔。 ? 鎢的氧化物種類及特性。一般壓力 2~3t/cm2 燒結(jié) : 設(shè)備 :管狀電爐或馬弗爐,爐膛耐 1600度高溫 氣氛 : H2 溫度 : 1150~1300度 時(shí)間 : 30~120min
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