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印制電路板用化學(xué)鍍鎳金工藝探討(完整版)

2025-07-12 04:22上一頁面

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【正文】 化學(xué)沉鈀。但它需要“工藝導(dǎo)線”達到互連,受高密度印制板 SMT安裝限制。本文將著重介紹化學(xué)鍍鎳金技術(shù)。 另外,化學(xué)鍍鎳層的厚度一般控制在 4~5μ m,其作用同金手指電鍍鎳一樣,不但對銅面進行有效保護,防止銅的遷移,而且具備一定的硬度和耐磨性能,同時擁有良好的平整度。 印制電路板用化學(xué)鍍鎳金工藝探討 (二 ) 3 化學(xué)鍍鎳金工藝流程 作為化學(xué)鍍鎳金流程,只要具備以下 6 個工作站就可滿足其生產(chǎn) 中國最大的管理資料下載中心 (收集 \整理 . 部分版權(quán)歸原作者所有 ) 第 6 頁 共 16 頁 要求: 除油( 3~7min) → 微蝕( 1~2min) → 預(yù)浸( ~) → 活化( 2~6min) → 沉鎳( 20~30min) → 浸金( 7~11min) 安美特( Atotech)公司的化學(xué)鍍鎳金 Aurotech工藝流程 Aurotech 是安美特 公司開發(fā)的化學(xué)鍍鎳 /金制程的商品名稱。C 4~6162。C 1~2162。 2 級逆流水洗 去離子水 2~3162。如前所述,其形成過程為 Pd與 Cu的化學(xué)置換反應(yīng)。 4)金回收處理問題 為了節(jié)省成本,金槽后需加裝回收水洗,同時還能減輕對環(huán)境的污染。當鎳面鍍金后,因 NiAu層 Au層薄、疏松、孔隙 多,在潮濕的空氣中,Ni為負極, Au為正極,由于電子遷移產(chǎn)生化學(xué)電池式腐蝕,又稱焦凡尼式腐蝕,造成鎳面氧化生銹。 PH 值的影響 過高的 PH,使鍍層中磷含量下降,鍍層抗蝕性不良,焊接性變壞。但如筆記型電腦的主板、手機或 PC等高檔板,一般需兩次焊接。水洗 174。水洗 174。絡(luò)合劑、還原劑、穩(wěn)定劑以及溫度,是影響反應(yīng)速度的重要因素。刷磨 174。然后,單獨將金手指按客戶要求之厚度進行電鍍金。顯影 174。 3)工藝控制 干菲林是專用于沉鎳金的類型,它不但應(yīng)具有耐高溫藥液能力,且須具備良好的掩孔能力。 Ni/Cu結(jié)合力差 1) 前處理效果差; 2) 一次加入鎳成分太高 1) 檢查微蝕量及更換除油槽; 2) 用光板拖缸 20~30min Au/Ni結(jié)合力差 1) 金層腐蝕; 2) 金槽、鎳槽之間水洗 PH?8 3) 鎳面鈍化 1) 升高金槽 PH值; 2) 檢查水的質(zhì)量; 3) 控制鍍鎳后沉金前打氣及停留時間 漏鍍 1) 活化時間不足; 2) 鎳槽活性不足 1) 提高活化時間; 2) 使用校正液,提高鎳槽活性 滲鍍 1) 蝕刻后殘銅; 2) 活化后鎳槽前水洗不足; 3) 活化劑溫度過高; 4) 鈀濃度太高; 5) 活化時間過長; 1) 反饋前工序解決; 2) 延時水洗或加大空氣攪拌; 3) 降低溫度至控制范圍; 4) 降低濃度至控制范圍; 5) 降低活化時間; 中國最大的管理資料下載中心 (收集 \整理 . 部分版權(quán)歸原作者所有 ) 第 16 頁 共 16 頁 6) 鎳槽活性太強 6) 適當使用穩(wěn)定劑 鎳厚偏低 1) PH 太低; 2) 溫度太低; 3) 拖缸不足; 4) 鎳槽生產(chǎn)超 6MTO 1) 調(diào)高 PH值; 2) 調(diào)高溫度; 3) 用光板拖缸 20~30min; 4) 更換鎳槽 金厚偏低 1) 鎳層磷含量高; 2) 金槽溫度太低; 3) 金槽 PH值太高; 4) 開新槽時起始劑不足 1) 提高鎳槽活性; 2) 提高溫度; 3) 降低 PH值; 4) 適當 加入起始劑 。所以,在有機保焊涂覆制程中,微蝕率應(yīng)在保證銅面清潔的前提下,控制的越低越好。沉鎳金 174。 3)工藝控制 包藍膠紙時,一定要防止藥水滲漏,避免金藥水污染?;罨?174。沉鎳金 174?;厥?174。活化 174。第二次焊接的高溫會促使氧化甚至變黑,其固有強度變壞,無法通過振動試驗。 穩(wěn)定劑可阻止在阻焊 Cu焊墊之間的基材上析出鎳。原因是 Au面上的助焊劑或酸類物質(zhì)通過孔隙滲入鎳層。故所形成的焊點,實際上是著落在鎳表面上,并形成良好
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