反滲透系統(tǒng)操作手冊(存儲版)
【正文】 用于沖冼的水需不含使用于前處理的化學(xué)藥品 ,絕對不能有水垢抑制劑，因此在沖冼之時 ,應(yīng)停止添加抗水垢劑及硫酸等。 a、配制和混合適當(dāng)?shù)那逑匆海?并檢查溶液之 PH，在加清洗液入元件前要確定所有的藥品都溶解攪拌均勻，溶液均為透明無色； b、利用清洗泵以低流量流速攪拌，低壓將混好的已加溫的清洗液打入膜組件以足夠的壓力去補充由進水至濃水間的壓降，壓力需低到無滲透液產(chǎn)生，低壓會減少污物再沉積在膜面上，并排除初始部分濃縮液以避免清洗液被稀釋； c、當(dāng)所有的處理水為清洗液所取代，此時將濃縮液再循環(huán)回清洗槽，觀察清洗后溶液的濁度，如清洗液變色或變得較混濁，則重新準(zhǔn)備，清洗液再開始，在酸洗時，要檢查 PH值，當(dāng)酸溶解無機沉淀物時，會被消耗掉，因此 PH值增高 ， 需再加酸； d、浸泡。此時請與生產(chǎn)廠家聯(lián)系。 第五章：影響反滲透性能的因素 a、色度、濁度和膠體有機物：懸浮物和膠體物質(zhì)非常容易堵塞 RO 膜，使透水率很快下降，脫鹽率降低； b、氧化劑：氧化劑會使復(fù)合膜性能惡化，水中含游離氯時，通常用活性炭吸附或加注還原劑，使游離氯還原到指標(biāo)值以下； c、 PH值：控制 PH值的目的 主要是防止（ CaCO3）析出后形成水垢； d、鐵、錳、鋁等重金屬氧化物：其含量高時，在膜表面易形成氫氧化物膠體，產(chǎn)生沉積現(xiàn)象； e、細菌、微生物：細菌繁殖會污染膜并惡化水質(zhì)； f、硫酸根（ SO42），二氧化硅（ SiO2）：水中含有多量硫酸根時，易產(chǎn)生硫酸鈣沉淀，含有多量 SiO2 時，也易產(chǎn)生沉淀，為防止沉淀，當(dāng)濃水 CaSO4 溶度積 19 105 時 ,可加注六偏磷酸鈉 ,盡量避免濃水中 SiO2含量超過 100mg/l。根范圍內(nèi)。 涂裝電極及其系統(tǒng)安裝、使用、換修手冊 一、 安裝 管狀極罩的膜暴露在外表，要注意保護，以免損傷膜面； 極罩在安裝時，要保證膜管自然懸垂，不得彎曲受力，防止膜管 折斷或損壞膜面； 緊固卡環(huán)螺母時，應(yīng)均勻用力分幾次擰緊，以防導(dǎo)管受損； 安裝電線時，電線同電極之間一定要用力擰緊螺母，以免造成打火，燒毀膜管； 極管安裝時，不得將膜面露出槽液面； 安裝極罩用的掛具不得接地。 、 RO 裝置的維護管理 、水質(zhì)管理 在裝置的維護管理方面最重要的是水質(zhì)管理，經(jīng)常地作日常水質(zhì)管理記錄，對于及時發(fā)現(xiàn)故障和采取措施是十分有利的，水質(zhì)管理的測定項目和測定時間的間隔及次數(shù)如表 4所示： 表 4：水質(zhì)管理的控制方法 取樣地點 分析項目 機 械 過濾器 出 口 活性碳過濾器 出 口 保 安 過濾器 RO 產(chǎn)水 RO 濃水 入口 出 口 水溫 D4 電導(dǎo)率 D PH D4 D SDI D4 COD D 余氯（自由氯） D4 D HCO3 W W 硬度 W W SiO2 W W TDS W W D —— 一日測定一次 D4—— 一日測定四次 W —— 一周測定一次 表 5：反滲透裝置運行日報表 時 保 安 過 濾 器 高 壓 泵 反 滲 透 裝 置 間 入口溫度 （℃ ) 入口壓力 (MPa) 出口壓力 (MPa) 出口污染指數(shù)SDI 出 口 電導(dǎo)率 （μs/cm） 入口流量 (m3/h) 入口壓力 (MPa) 出口壓力 (MPa) 給水壓力 (MPa) 產(chǎn)水壓力 (MPa) 濃水壓力 (MPa) 給水流量 (m3/h) 產(chǎn)水流量 (m3/h) 濃水流量 (m3/h) 產(chǎn) 水 電導(dǎo)率 （μs/cm）
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