【正文】 的厚度及其均勻性，并用原子力顯微鏡 合適母盤上預刻槽的深度。 在一般情況下，使用 458nm波長的激光進行刻錄可是槽壁傾斜角在 55度左右，使用 351nm波長的激光進行刻錄可使 槽壁傾斜角 為 60度 65度，同時激光刻錄功率的強弱和顯影是否充分也在一定程度上影響槽壁傾斜角。 五、濺鍍鍍膜， 主要利用輝光放電（ glow discharge）將氬氣（ Ar）離子撞擊靶材 （ target）表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。而氬離子撞擊靶材的另一部份動能轉化為熱，因此靶材必須用冷卻水冷卻。 這時生產(chǎn)系統(tǒng)生產(chǎn)堵塞的問題解決了，又會產(chǎn)生一個新的問題。 在這個系統(tǒng)中，每道工序都有它自己的參數(shù)，這些參數(shù)根據(jù)環(huán)境、母盤的狀態(tài)需要更改，所以這就需要在做的時候留出足夠多的參數(shù)。毛刷的旋轉和來回擺動有利于清潔的均勻性。驅動器走的是速度 時間模式。 六、濺鍍機的自動控制， 這是 母盤 生產(chǎn)線 上最重要 一個工藝 之一 ，也是一個牽扯知識面比較廣的領域。 圖 42 濺鍍機打開 圖 43 濺鍍機關閉 5 全文總結 結論 本文首先對對母盤的基本參數(shù)進行了簡要的說明，按照順序依次介紹了母盤自動化生產(chǎn)線的建廠環(huán)境、電力配置、周邊設備的選型和部署。還有一些實驗的數(shù)據(jù)和圖示也不能拷貝出來 與大家一起探討和做更深一步的研究。 := FALSE。 := FALSE。 Fault[3] := FALSE。 Fault[11] := FALSE。 Fault[19] := FALSE。 Fault[27] := FALSE。 Fault[35] := FALSE。 Fault[43] := FALSE。 DP_activation_busy[3] := FALSE。 DP_activation_busy[11] := FALSE。 DP_activation_busy[19] := FALSE。 DP_activation_busy[27] := FALSE。 DP_activation_busy[35] := FALSE。 DP_activation_busy[43] := FALSE。 Not_present[3] := FALSE。 Not_present[11] := FALSE。 Not_present[19] := FALSE。 Not_present[27] := FALSE。 Not_present[25] := FALSE。 Not_present[17] := FALSE。 Not_present[9] := FALSE。 Not_present[1] := FALSE。 DP_activation_busy[41] := FALSE。 DP_activation_busy[33] := FALSE。 DP_activation_busy[25] := FALSE。 DP_activation_busy[17] := FALSE。 DP_activation_busy[9] := FALSE。 DP_activation_busy[1] := FALSE。 Fault[41] := FALSE。 Fault[33] := FALSE。 Fault[25] := FALSE。 Fault[17] := FALSE。 Fault[9] := FALSE。 Fault[1] := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。當然好的工藝配方也要好的母盤設備和周邊設備的支持，不然產(chǎn)品質量出現(xiàn)問題就很難查找原因。 這里關于濺鍍的方面的知識在上面已有提及，在此不在討論。顯影液的旋涂方法跟上面的清洗、旋涂的原理是一 樣的，這里就不再探討。它跟清洗的結構基本上是一樣的，為了保證旋涂的均勻性，母盤會按照一定的速度旋轉，旋涂手會沿著母盤的中心和邊沿來回擺動。 三、清洗工藝的自動控制，為了清除玻璃基盤上的附著物，避免這些附著物影響生產(chǎn)工藝，必須加一道清洗工藝。這樣可以讓操作員進行判斷。 母盤生產(chǎn)線的自動化控制 這是一個自動化的生產(chǎn)系統(tǒng)，它的生產(chǎn)也必須是大批量的生產(chǎn)，所以，在這個設備上，必須可以同時滿足多個母盤的同時生產(chǎn)，從基盤清洗到濺鍍機鍍膜，這中間的 任何一個工序如果正在運行中，那么上一個工序已經(jīng)完成的盤就無法在這個上進行，如果它一直在這個位置等待的話，就會影 響它上面工序的進行，如此一來，因為一個工序的等待，將會引起生產(chǎn)的堵塞。注入氬氣到濺鍍腔，這時濺鍍腔的 真空 度降至 ~10E－ 3mbar 范圍，此時對靶材（陰極）和盤片（陽極）之間施以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場中被離子化，產(chǎn)生氬離子及自由電子、在電場的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極（靶材）加速，而自由電子向陽極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原子，因動能轉移使更多的氬原子被離子化，最后產(chǎn)生雪崩現(xiàn)象，等離子體持續(xù)自行放電。充分顯影可得較大的槽壁傾斜角，但要求該光刻膠經(jīng)得起充分的顯影。預刻槽的寬度、槽壁傾斜角及擺動幅度的控制包括一下幾個方面： 調節(jié)激光刻錄功率和顯影程度以控制預刻槽的寬度，使用原子力顯微鏡檢查槽的寬度。 對光刻膠的堅膜過程進行時間、溫度和均勻性的控裝載白玻璃基 盤 基盤清洗 CAL 液體旋涂 Hard 加熱 冷卻 PR液體旋涂 PR加熱 去 LBR 刻錄 顯影 濺鍍機鍍膜 完成卸盤 制，以提高刻錄和顯影的效果。玻璃母盤在顯影之后要 進一步用波長 380nm紫外線照射，目的是使電鑄后分離的壓模上殘余的光刻膠易于清洗，也防止濺鍍時光刻膠的交叉鏈接；然后濺鍍一層鎳。這里僅根據(jù)多年從事 設計、工藝、設備維修保養(yǎng)經(jīng)驗，介紹母盤生產(chǎn)系統(tǒng)設計中 應注意的各個環(huán)節(jié)，希望能對新廠的建設有一點的幫助。 另外一點非常重要，是必須保證壓縮空氣的潔凈。即使更換管路，工程成本也較低。 三、壓縮空氣， 壓縮空氣系統(tǒng)為母盤生產(chǎn)設備中的氣動、真空機構提供氣源。 設置冷水機散熱排風管道。方案 2，穩(wěn)壓器與所帶設備一帶一或一帶三。有的母盤廠就將外圍設備廠房和庫房放在日曬好陽光足的區(qū)域，以至于在盛夏采用人工強制通風降溫還不能滿足要求。有的工廠是逐步發(fā) 展的， 每個車間都裝有壓縮機、冷卻系統(tǒng)等，這樣存在超凈等級不同，專業(yè)管理不足，不符合文明生產(chǎn)。 方便質量檢驗，按照母盤生產(chǎn)特點，每次抽檢要有專門的檢驗口，由機器人送到此處，工作人員取的時候比較方便。 二、根據(jù)生產(chǎn)設計能力做工藝設計及工藝布局，設計原則。工藝設計和工藝布局是根據(jù)生產(chǎn)能力要求的規(guī)格、年產(chǎn)量，按照母盤生產(chǎn)的工藝流程，參考母盤生產(chǎn)設備的規(guī)格尺寸，確定最佳工藝方案，畫出工藝流程圖和工藝布局圖。因此，嚴謹、周密的總體設計就更為重要了。又如濺鍍問題 產(chǎn)生的原因更 多。由于純凈水質量及生產(chǎn)線內的溫度，濕度達不到要求而出現(xiàn)母盤制作中的質量問題。 現(xiàn)在國內有很多企業(yè)（東莞宏威數(shù)碼機械有限公司、上海新匯時代光盤技術有限公司等）已經(jīng)建立了一流開發(fā)母盤技術和產(chǎn)品的工程環(huán)境，采用主流的光刻膠顯影法刻錄預刻槽的技術線路和高品質的化學沉積金屬化工藝，確保形狀較好的預刻槽。同時母盤臺的擺動幅度也比基盤預刻槽的擺動幅度略大一些。其優(yōu)點符合光盤系列的基本標準，直徑為 120mm，厚度為 ，數(shù)據(jù)格式與光盤播放器的相互可以兼容 。如果光學系統(tǒng)中使用不同的波長的激光，如有的系統(tǒng)使用氦氖激光作聚焦伺服光路，由于介質折射率隨光的不同波長的變化所引起的相差稱為色差。 四、顯微鏡物鏡，母盤刻錄系統(tǒng)的光學系統(tǒng)最終要在光刻膠玻璃 母盤表面形成直徑為微米級或亞微米級的聚焦光斑，顯微物鏡則是光學系統(tǒng)中最重要的元件之一。通過改變超聲波的頻率就可以改變偏轉角，從而達到控制偏轉激光束方向的目的。當￠ =45 度時出射光相對入射光的振動方向轉了 90度。 3： 棱鏡， 當光從光密介質向光疏介質折射，并且入射角超過臨界角時，發(fā)生全發(fā)射。由兩個共軸的折射曲面構成的光學系統(tǒng)稱為透鏡。半導體激光器的平均壽命約為 10000 小時。 噪聲，要求低噪聲。 激光束模式，要求橫模，即 TEM00模。 功率，母盤刻錄激光器的功率一般為毫瓦級。亮度高，功率密度特別大。專用信息 3，它的內容為， F9： D9： F4，這個那個信息為導出區(qū)開始時間。 導出區(qū)緊接在可記錄節(jié)目區(qū)之后，因此可根據(jù)盤片的容量要求來確定導出區(qū) （或附加容量和導出區(qū)）的開始時間。 在光盤上， ATIP 時間碼貫穿了各個區(qū)域，其中某些區(qū)域還包括專用信息和附加信 息等，由此組成了整個信息區(qū)。橙皮書規(guī)定，將占用信息區(qū)中一些 ATIP 時間碼之中的“分”、“秒”、“幀”信息部分來存放專用信息和附加信息。只要將準備好的專用鎳基毛坯盤放入設備，直接送到 LBR 去刻錄，顯影、濺鍍工藝之后也不需要送去電鑄，僅僅沖中心孔就完成了母盤的制造。另一種廣泛使用的光刻膠技術，工藝成熟，刻錄的坑型規(guī)范、清晰對 DVD 來說，能達到較好的抖晃 參數(shù)，另外通過改 進工藝，已經(jīng)能夠很好的控制云紋的產(chǎn)生。所以制造和生產(chǎn)母盤的自動化設備成為我的研究課題。 光盤的最重要特點是可靠性高。光盤的優(yōu)勢還在于他的存取速度快、保存管理方便等特點。t thousands weakened the signal on the plate. Japan with modern science has kodak way to accelerate the ageing of the CD, the service life of the disc read only type of about 209 years. CD39。 母盤 生產(chǎn)流程 目前廣泛使用的母盤自動化制造技術雖然不完全相同，但是都是以玻璃基盤為傳遞載體。 2 母盤的設計及其工程環(huán)境 預刻槽 ATIP 信息及其信息區(qū)數(shù)據(jù)和物理參數(shù) 按照“橙皮書”的規(guī)格， ATIP 時間碼以“分：秒：幀”的數(shù)據(jù)格式進行計算， 1分 =60 秒， 1 秒 =75 幀。 有關母盤的數(shù)據(jù)設計就是要綜合平衡存儲時間、道間距、線速度、復制收縮率和物理半徑之間的關系，計算和確定 。同時確認他們的半徑位 置符合規(guī)定（ 22mm59mm） ,并將這些信息傳遞給母盤刻錄系統(tǒng)。因此，母盤溝槽形狀的設計，即確定溝槽的深度、寬度、槽壁傾斜角及擺動幅度是母盤設計的重要內容之一 。就是要找到具有實現(xiàn)能級離子數(shù)反轉的工作物質。在母盤刻錄系統(tǒng)中刻錄光源有采用氬離子激光器（ ODME母盤刻錄系統(tǒng)）、氪離子激光器（松下母 盤刻錄系統(tǒng)）、 SHG（二次諧波發(fā)生器）固體激光器（先鋒母盤刻錄系統(tǒng)）和大功率半導體激光器等等 。半導體激光器的使用功率為 5mw。激光束模式可以用透鏡放大光束，檢查投射到屏上的光斑光強分布的均勻性來作簡單 的 判斷。在光路調試時，應注意不要使反射光進入激光器諧調腔內，以免產(chǎn)生不必要的激光噪音。半導體激光器的使用壽命較長。薄透鏡是指透鏡厚度同透鏡焦距相比可以忽略的 透鏡。異形棱鏡的組合也能用來校正半導體激光光束的不對稱，使它從橢圓光束整形成 圓 光束。 三、聲光調制器， 聲光器件是由聲光介質和換能器兩部分組成。調制信號控制壓電晶體產(chǎn)生超聲波，從而達到對一級衍射光的信號調制。 Onh 理論上說，聚焦光斑的直徑（光強分 布的半高度的全寬度）與光的波長成正比。為了獲得衍射極限光斑，物鏡會采用多個不同曲面的透鏡以微米級定位精度裝校來達到消相差的目的。 母盤制作是光盤技術中的關鍵技術。因此，有機染料的不同配方 及不同參數(shù)的旋涂工藝，要求不同的溝槽形狀，即需要開發(fā)不同的母盤來適應不同的溝槽形狀，即需要開發(fā)不同的母盤來適應不同的光盤制作線和制作工藝。 3 母盤 生產(chǎn)線 的 布局及設備配置 母盤企業(yè)的生產(chǎn)工藝布局及設備配置是關系企業(yè)能否順利投產(chǎn)、保持長期正常生產(chǎn)、達到較高的生產(chǎn)效率。由于氬氣氣管管路設置問題，導致無法濺鍍等等。許多母盤生產(chǎn)企業(yè)在濺射初期往往只重視主要母盤生產(chǎn)設備的選型，有的因為資金緊張在選用周邊設備方面馬馬虎虎，還有要請一位既懂母盤生產(chǎn)工藝、又熟悉外圍設備及系統(tǒng)設計，并有實踐經(jīng)驗的技術人員專門從事整體規(guī)劃有一定的困難。 首先要確定工廠的生產(chǎn)能力，年產(chǎn)量、產(chǎn)品規(guī)格、類型（ CD 母盤、 DVD 母盤、藍光母盤等） 。 母盤設備的建廠布局 一、確定工廠設計生產(chǎn)能力， 規(guī)劃產(chǎn)品類型（ CDR 母盤、 DVDR 母盤、藍光母盤）、年產(chǎn)量。 原材料、成品的進出要方便，要考慮到大型運輸車輛的進出裝卸。要考慮采光、通風、采暖、制冷，盡可能利用自然方式，減少人工方式的能耗。 用于母盤生產(chǎn)