【正文】 時(shí)滿足多個(gè)母盤的同時(shí)生產(chǎn)，從基盤清洗到濺鍍機(jī)鍍膜，這中間的 任何一個(gè)工序如果正在運(yùn)行中，那么上一個(gè)工序已經(jīng)完成的盤就無(wú)法在這個(gè)上進(jìn)行，如果它一直在這個(gè)位置等待的話，就會(huì)影 響它上面工序的進(jìn)行，如此一來(lái)，因?yàn)橐粋€(gè)工序的等待，將會(huì)引起生產(chǎn)的堵塞。如果這個(gè)問(wèn)題不能夠很好的解決，將造成系統(tǒng)執(zhí)行的混亂，也會(huì)出現(xiàn)重復(fù)執(zhí)行的現(xiàn)象。這樣可以讓操作員進(jìn)行判斷。 在生產(chǎn)的過(guò)程中，因?yàn)榉止さ牟煌?，還可以將用戶權(quán)限分為幾種，比如說(shuō)我們可以將他分為三個(gè)權(quán)限：操作員、工程師、管理員。 三、清洗工藝的自動(dòng)控制，為了清除玻璃基盤上的附著物，避免這些附著物影響生產(chǎn)工藝，必須加一道清洗工藝。旋轉(zhuǎn)走的是速度 時(shí)間模式，通過(guò) PARK的伺服驅(qū)動(dòng)器 電機(jī)去控制，可以把它做成 8段速，可以留有足夠的盈余。它跟清洗的結(jié)構(gòu)基本上是一樣的，為了保證旋涂的均勻性，母盤會(huì)按照一定的速度旋轉(zhuǎn)，旋涂手會(huì)沿著母盤的中心和邊沿來(lái)回?cái)[動(dòng)。 五、顯影工藝的自動(dòng)控制，顯影工藝其實(shí)要到 LBR刻錄完之后才進(jìn)行，這里排在前面是因?yàn)?，它的結(jié)構(gòu)與清洗和旋涂很相近，所以才把它跟這兩個(gè)放到一塊探討。顯影液的旋涂方法跟上面的清洗、旋涂的原理是一 樣的，這里就不再探討。為了使濺射物更均勻的附著，加載母盤的機(jī)械手以設(shè)定的速度在不 停的勻速旋轉(zhuǎn)。 這里關(guān)于濺鍍的方面的知識(shí)在上面已有提及，在此不在討論。母盤自動(dòng)化生產(chǎn) 線是一個(gè)很大的工程，即使有 一面考慮不周都有可能造成停產(chǎn)。當(dāng)然好的工藝配方也要好的母盤設(shè)備和周邊設(shè)備的支持，不然產(chǎn)品質(zhì)量出現(xiàn)問(wèn)題就很難查找原因。我不僅學(xué)到了知識(shí)，而且學(xué)到了做人的準(zhǔn)則 和嚴(yán)謹(jǐn)?shù)闹螌W(xué)作風(fēng) ? 。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 Fault[1] := FALSE。 Fault[5] := FALSE。 Fault[9] := FALSE。 Fault[13] := FALSE。 Fault[17] := FALSE。 Fault[21] := FALSE。 Fault[25] := FALSE。 Fault[29] := FALSE。 Fault[33] := FALSE。 Fault[37] := FALSE。 Fault[41] := FALSE。 Fault[45] := FALSE。 DP_activation_busy[1] := FALSE。 DP_activation_busy[5] := FALSE。 DP_activation_busy[9] := FALSE。 DP_activation_busy[13] := FALSE。 DP_activation_busy[17] := FALSE。 DP_activation_busy[21] := FALSE。 DP_activation_busy[25] := FALSE。 DP_activation_busy[29] := FALSE。 DP_activation_busy[33] := FALSE。 DP_activation_busy[37] := FALSE。 DP_activation_busy[41] := FALSE。 DP_activation_busy[45] := FALSE。 Not_present[1] := FALSE。 Not_present[5] := FALSE。 Not_present[9] := FALSE。 Not_present[13] := FALSE。 Not_present[17] := FALSE。 Not_present[21] := FALSE。 Not_present[25] := FALSE。 Not_present[29] := FALSE。 Not_present[27] := FALSE。 Not_present[23] := FALSE。 Not_present[19] := FALSE。 Not_present[15] := FALSE。 Not_present[11] := FALSE。 Not_present[7] := FALSE。 Not_present[3] := FALSE。 DP_activation_busy[47] := FALSE。 DP_activation_busy[43] := FALSE。 DP_activation_busy[39] := FALSE。 DP_activation_busy[35] := FALSE。 DP_activation_busy[31] := FALSE。 DP_activation_busy[27] := FALSE。 DP_activation_busy[23] := FALSE。 DP_activation_busy[19] := FALSE。 DP_activation_busy[15] := FALSE。 DP_activation_busy[11] := FALSE。 DP_activation_busy[7] := FALSE。 DP_activation_busy[3] := FALSE。 Fault[47] := FALSE。 Fault[43] := FALSE。 Fault[39] := FALSE。 Fault[35] := FALSE。 Fault[31] := FALSE。 Fault[27] := FALSE。 Fault[23] := FALSE。 Fault[19] := FALSE。 Fault[15] := FALSE。 Fault[11] := FALSE。 Fault[7] := FALSE。 Fault[3] := FALSE。 Error := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。還有一些實(shí)驗(yàn)的數(shù)據(jù)和圖示也不能拷貝出來(lái) 與大家一起探討和做更深一步的研究。 在整個(gè)自動(dòng)化運(yùn)行過(guò)程里面，它的工藝配方是最重要的。 圖 42 濺鍍機(jī)打開 圖 43 濺鍍機(jī)關(guān)閉 5 全文總結(jié) 結(jié)論 本文首先對(duì)對(duì)母盤的基本參數(shù)進(jìn)行了簡(jiǎn)要的說(shuō)明，按照順序依次介紹了母盤自動(dòng)化生產(chǎn)線的建廠環(huán)境、電力配置、周邊設(shè)備的選型和部署。這里的分子泵必須等到機(jī)械泵抽到一定真空度才能啟動(dòng)，因?yàn)橛捎诜肿颖萌~片的高速旋轉(zhuǎn)，空氣的阻力會(huì)將它打 碎，分子泵停止時(shí)也是一樣的，不能斷電馬上關(guān)掉，必須讓它緩慢的停下來(lái)，然后再關(guān)掉機(jī)械泵。 六、濺鍍機(jī)的自動(dòng)控制， 這是 母盤 生產(chǎn)線 上最重要 一個(gè)工藝 之一 ，也是一個(gè)牽扯知識(shí)面比較廣的領(lǐng)域。雷射光刻錄在涂有光阻劑的玻璃基版上，在顯影機(jī)藉顯影液將受曝光的點(diǎn)洗去，而顯像出有訊號(hào)的凹凸坑洞 。驅(qū)動(dòng)器走的是速度 時(shí)間模式。它旋轉(zhuǎn)的同時(shí)要有足夠的真空度來(lái)吸附住母盤，在它高速旋轉(zhuǎn)的時(shí)候不被甩出去。毛刷的旋轉(zhuǎn)和來(lái)回?cái)[動(dòng)有利于清潔的均勻性?？稍试S工程師修改參數(shù)，但是不能允許他復(fù)位報(bào)警、警報(bào)記錄等等 …… 。 在這個(gè)系統(tǒng)中，每道工序都有它自己的參數(shù)，這些參數(shù)根據(jù)環(huán)境、母盤的狀態(tài)需要更改，所以這就需要在做的時(shí)候留出足夠多的參數(shù)。這樣就可以解決這個(gè)問(wèn)題。 這時(shí)生產(chǎn)系統(tǒng)生產(chǎn)堵塞的問(wèn)題解決了，又會(huì)產(chǎn)生一個(gè)新的問(wèn)題。特別注意的是在更換金屬靶材后，由 于靶材不良、安裝不當(dāng)或者保養(yǎng)不到位，常常會(huì)出現(xiàn)不能產(chǎn)生電場(chǎng)而無(wú)法濺鍍的情況。而氬離子撞擊靶材的另一部份動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱，因此靶材必須用冷卻水冷卻。首先要在 真空 環(huán)境條件下，高 真真空 可以減少氧化物的產(chǎn)生；使用惰性工藝氣體，通常為氬氣，作為離子介質(zhì)撞擊靶材；形成電場(chǎng) —— 靶材為陰極，盤片為陽(yáng)極；在濺鍍 真空 倉(cāng)內(nèi)，用強(qiáng)力磁鐵產(chǎn)生磁場(chǎng)；由于濺鍍時(shí)產(chǎn)生高熱，須用冷卻水對(duì)陰極進(jìn)行及時(shí)冷卻。 五、濺鍍鍍膜， 主要利用輝光放電（ glow discharge）將氬氣（ Ar）離子撞擊靶材 （ target）表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。采用統(tǒng)計(jì)的方法對(duì)所得到的圖形進(jìn)行計(jì)算并獲得預(yù)刻槽的深度、寬 度和槽壁傾斜角的可靠數(shù)據(jù) 。 在一般情況下，使用 458nm波長(zhǎng)的激光進(jìn)行刻錄可是槽壁傾斜角在 55度左右，使用 351nm波長(zhǎng)的激光進(jìn)行刻錄可使 槽壁傾斜角 為 60度 65度，同時(shí)激光刻錄功率的強(qiáng)弱和顯影是否充分也在一定程度上影響槽壁傾斜角?？啼浛刂葡到y(tǒng)在 ATIP的起始半徑位置向母盤信號(hào)發(fā)生系統(tǒng)發(fā)出啟動(dòng)信號(hào)，該信號(hào)發(fā)生系統(tǒng)按照 ATIP時(shí)間的遞增、專用信息 1/2/3和附加信息 1/2/3產(chǎn)生以模擬調(diào)頻和數(shù)字雙相位調(diào)制的方式編碼于具有徑向擺動(dòng)的正弦信號(hào)，以控制刻錄系統(tǒng) 中的 AOM調(diào)制器，從而產(chǎn)生擺動(dòng)的刻錄激光。膠層的厚度及其均勻性，并用原子力顯微鏡 合適母盤上預(yù)刻槽的深度。 采用分步旋涂，確保光刻膠層厚度的分布均勻性（約 20A）。最后涂保護(hù)膠和沖中心孔。接著，將鎳盤片放在波長(zhǎng) 380nm的紫外線光下照射，使盤基片上的曝光部分與非曝光部分的分解速度差別明顯，使非曝光的部分基本保持不變，讓曝光部分在顯影液中充分溶解。首先將清洗后并經(jīng)過(guò)挑選的可用玻璃基盤放入設(shè)備，再次用純水清洗、甩干，旋涂規(guī)定厚度的光刻膠，烘干、冷卻后進(jìn)入激光刻錄，接著顯影、 UV 照射、濺鍍；然后 檢查基盤上是否有缺陷，如果正常經(jīng)清洗可進(jìn)入電鑄工序，電鑄后若無(wú)缺陷，清洗 、 UV 照射去除殘余光刻膠，旋涂保護(hù)膠、烘干；最后拋光、切邊沖孔、檢 測(cè)。 整體系統(tǒng)的建立不可能有一個(gè)固定的模式。一般母盤設(shè)備的用氣 ，在儲(chǔ)氣罐后設(shè)置冷干機(jī)、過(guò)濾器組，同時(shí)在每個(gè)用氣設(shè)備入口也 必須裝有過(guò)濾器和壓力表。該方案的優(yōu)點(diǎn)是：停機(jī)維修方便，生產(chǎn)損失少，安裝靈活，便于工廠的積累式滾動(dòng)發(fā)展。 壓縮空氣系統(tǒng)一般采用集中供氣，優(yōu)點(diǎn)是：總投資少，設(shè)備占用空間小，便于維護(hù)保養(yǎng)，耗能少。如果管路中有漏氣，阻滯等故障時(shí)，管路較長(zhǎng)，查找起來(lái)難度就越大。系統(tǒng)設(shè)計(jì)要考慮檢修方便并配置備用空壓機(jī)。常用的水處理方案有： 石英砂過(guò)濾； 碳過(guò)濾； 軟化處理； 10 微米過(guò)濾器； 反滲透； 混床去離子（或電離處理）；紫外線照射；而國(guó)外提供的水處理設(shè)備一般沒有石英砂過(guò)濾器，從自來(lái)水直接到10 微米過(guò)濾器、軟化、反滲透、混床去離子、紫外線照射，因此容易造成 10 微米過(guò)濾器的頻繁更換，過(guò)濾器臟的非?？?，甚至一周就要更換 一個(gè)。純水系統(tǒng)，主要供給母盤清洗使用，或兼為冷卻水系統(tǒng)提供純水。 為保持水質(zhì)不結(jié)垢，冷卻水系統(tǒng)最好使用處理后的純水或蒸餾水。 二、水系統(tǒng)分兩方面：冷卻水和純水，冷卻水主要給濺鍍機(jī)、模具、母盤電鑄設(shè)備、 AE 電源等發(fā)熱的設(shè)備。 下面介紹兩種方案： 方案 1，一臺(tái)穩(wěn)壓器帶多臺(tái)設(shè)備，優(yōu)點(diǎn)是經(jīng)濟(jì)，集中管理方便，維修費(fèi)用低。 母盤生產(chǎn)線水、電、氣方案 一、電力，一般母盤生產(chǎn)設(shè)備要求穩(wěn)壓，三相四線 380400V。 外圍設(shè)備的廠房除了要盡可能靠近母盤生產(chǎn)設(shè)備外，還要根據(jù)當(dāng)?shù)氐臍夂颉囟?、水質(zhì)情況，考慮廠房的通風(fēng)方案、水處理方式。如母盤保護(hù)膠旋涂就應(yīng)該這樣處理。有些母盤廠建廠前沒有對(duì)工藝設(shè)計(jì)充分重視，導(dǎo)致日后生產(chǎn)中出現(xiàn)很多問(wèn)題。 三、根據(jù)工藝布局圖及其他設(shè)計(jì)要求進(jìn)行廠房設(shè)計(jì)，建筑廠房設(shè)計(jì)是一專門 學(xué)科，應(yīng)由資質(zhì)的建筑專業(yè)設(shè)計(jì)人員按照國(guó)家建筑的有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行。 母盤倉(cāng)庫(kù)的設(shè)計(jì)應(yīng)適合母盤生產(chǎn)材料的特性，要防潮、防火，個(gè)別化學(xué)藥品 須存儲(chǔ)在避光、恒溫條件（如光刻膠等），易燃品要 按照規(guī)定距離單獨(dú)建庫(kù)存儲(chǔ)。 內(nèi)外設(shè)備的聯(lián)系應(yīng)盡可能短距離，這樣可減少工程用料，減少線路損耗，同時(shí)也為今后維修時(shí)查找線路故障提供方便。根據(jù)設(shè)備的性價(jià)比進(jìn)行綜合的考慮，而且要對(duì)機(jī)器設(shè)備的可升級(jí)性、維修服務(wù)和配件供應(yīng)情況等選擇購(gòu)買。具體的工藝布局要認(rèn)真聽取各方面的意見，反復(fù)論證，直到最后確定方案。有時(shí)因?yàn)橘Y金問(wèn)題、項(xiàng)目審批問(wèn)題，使得設(shè)計(jì)生產(chǎn)能力與實(shí)際可達(dá)到的生產(chǎn)能力有差距，這樣在工藝設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)考慮對(duì)今后的發(fā)展留有余地。合理進(jìn)行生產(chǎn)企業(yè)總體規(guī)劃、設(shè)計(jì)、反復(fù)論證 工藝方案，工藝布局，使廠房的建設(shè)既符合當(dāng)前生產(chǎn) 的需要，又為企業(yè)將來(lái)的發(fā)展預(yù)留發(fā)展空間，這是母盤生產(chǎn)設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行的需要，也是母盤產(chǎn)業(yè)走向規(guī)范化生產(chǎn)的需要。事實(shí)上，必須將這幾方面統(tǒng)籌合理規(guī)劃 、協(xié)調(diào)才能最終達(dá)到理想的滿足母盤生產(chǎn)需要的周邊環(huán)境。外圍設(shè)備的合理設(shè)計(jì)、配置和規(guī)劃是日后高產(chǎn)量、高質(zhì)量母盤生產(chǎn)的必要條件。但是有些問(wèn)題表現(xiàn)不明顯，不能馬上確定問(wèn)題所在，有可能是其他工藝因素引發(fā)。由于電力配置不合理或瞬間斷電，造成設(shè)備損壞。