畢業(yè)論文_薄膜制造技術(shù)與工藝的研究(存儲(chǔ)版)
【正文】 度的監(jiān)控技術(shù)、自動(dòng)化的鍍膜過程等一系列的進(jìn)展，使得蒸發(fā)技術(shù)達(dá)到了極高的水平，制備出了DWDM、 GFF 增益平坦濾光片等高性能的薄膜元器件，令人嘆為觀止。 制備 通常光學(xué)薄膜的制備條件要求高而精，制備光學(xué)薄膜分干式制備法和濕式制備法。 6 （ 2)增透膜 增透膜又稱減反射膜，它的主要功能是減少或消除 透鏡 、 棱鏡 、 平面鏡 等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。 Laser protective film, the excellent performance of solar radiation transmittance increased by more than 6%, achieved to optimize the performance of the laser protective film. In order to make the double source with steaming method is suitable for the preparation of large area of thin film, application of uniformity of damper technology to improve the method preparation of large area of film thickness uniformity, make preparation of doped material thin film when the diameter is 400 mm the inhomogeneity of less than % 2 .1. The dualsource were steaming method preparation technology is simple, reliable and suitable for engineering application. Membrane performance test results and the theory of optimization results of the desired optimization goal .Key Words： Thin film materials。 測(cè)試結(jié)果顯示：用該工藝方法制備的摻雜材料薄膜的折射率 n ＝１ .７５，與優(yōu)化設(shè)計(jì)所需數(shù)值相符；激光防護(hù)膜性能優(yōu)良，太陽(yáng)輻射能透過率提高６％以上，實(shí)現(xiàn)了對(duì)該激光防護(hù)膜性能的進(jìn)一步優(yōu)化。 Dualsource were steamed. 4 目 錄 １ 引 言 ........................................................5 光學(xué)薄膜簡(jiǎn)介 ...................................................5 簡(jiǎn)介 ......................................................5 特點(diǎn) ......................................................5 分類 ......................................................5 制備 ......................................................6 應(yīng)用 ......................................................6 光學(xué)薄膜的發(fā)展及分類、關(guān)鍵技術(shù)匯總 .............................7 2 特定折射率材料的需求 .......................................9 ........................................10 3． 1 以往摻雜材料制備 ............................................10 3． 2 雙源共蒸法 ..................................................11 3． 3 均勻性保證 ..................................................12 ４ . 結(jié)果與討論 ................................................12 ５ 結(jié) 論 ......................................................14 參考文獻(xiàn) ........................................................15 致謝 .............................................................17 5 １ 引 言 光學(xué)薄膜簡(jiǎn)介 光學(xué)薄膜（ optical coating）是由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。故此，在表面增加一層 HR 介質(zhì)膜層，達(dá)到更佳的反射效果并具有抗紫外線黃變功能。最常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。 研究?jī)?nèi)容 7 光學(xué)薄膜的發(fā)展及分類、關(guān)鍵技術(shù)匯總 科學(xué)的發(fā)展正在改變傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜的面貌，其應(yīng)用也由原來(lái)的純粹為光學(xué)儀器服務(wù)，逐漸滲透到通信、建筑、防偽、醫(yī)療和空間技術(shù)等領(lǐng)域。磁控濺射的工藝過程簡(jiǎn)化了許多，需要控制的工作參數(shù)約為 lo 個(gè)左右，更容易實(shí)現(xiàn)過程自動(dòng)化。 研究?jī)?nèi)容： 1） 設(shè)備的引進(jìn)調(diào)試及工藝參數(shù)優(yōu)化 2） 產(chǎn)品的調(diào)研及開發(fā)應(yīng)用 3） 靶材的選擇及利用率的提高。對(duì)于特定的真空紫外材料來(lái)說 , 其性質(zhì)往往隨不同沉積設(shè)備和不同操作方法而各異。沉積了致密 SiO2 保護(hù)層的氟化物高反膜 , 在中心波長(zhǎng) 180nm 處可得到接近 99%的反射率。 因此，如何通過簡(jiǎn)單可靠的手段得到想要的特定折射率材料是光學(xué)薄膜研究的熱點(diǎn)之一。本文以太陽(yáng)電池陣激光防護(hù)膜為例， 對(duì)特定折射率材料的制備進(jìn)行研究。 為了縮減截止帶寬，應(yīng)減小兩種材料的折射率差值。 圖２所示為雙源共蒸法示意圖。 3． 3 均勻性保證 雙源共蒸法的技術(shù)難點(diǎn)在于對(duì)工藝過程的精確控制。 從表中可以看出，隨著 ＳｉＯ２成分摻雜比例的增加，摻雜材料的折射率值有逐漸變小的趨勢(shì)。 曲線３、４ 分別為應(yīng)用均勻性擋板技術(shù)后 ＺｒＯ２薄膜與 ＳｉＯ２和 ＺｒＯ２摻雜薄膜的膜厚均勻性分布，ＺｒＯ２單層膜膜厚不均勻性小于１ .９％，ＳｉＯ２和 ＺｒＯ２摻雜薄膜的膜厚不均勻性小于２ .１％。
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