側(cè)腦室穿刺術(shù)-免費(fèi)閱讀
【正文】 〔 1〕應(yīng)用范圍：常用于腦室造影、腦室一枕大池分流術(shù)和后顱窩手術(shù)及手術(shù)后作持續(xù)腦脊液引流。 第三十頁，共三十二頁。 本卷須知與并發(fā)癥的防治 引流裝置的最高點(diǎn)應(yīng)高于側(cè)腦室前角水平面 1520cm左右，使顱內(nèi)壓維持在稍高于正常范圍； 顱內(nèi)壓過高時腦脊液不可一時引流過多過快，防止腦組織塌陷，導(dǎo)致顱內(nèi)或腦室內(nèi)出血，或后顱凹占位病變引起小腦幕裂孔上疝； 嚴(yán)格無菌操作，防止感染，引流瓶和引流管應(yīng)隔日消毒或更換； 第二十七頁，共三十二頁。 第二十一頁，共三十二頁。 第十七頁，共三十二頁。 第十二頁，共三十二頁。 適應(yīng)征 (1) 暫作腦室引流，暫時緩解顱內(nèi)壓，特別對枕骨大孔疝是一種急救性措施； (2) 開顱手術(shù)時或手術(shù)后用以降低顱內(nèi)壓； (3)腦室內(nèi)注入藥物以治療顱內(nèi)感染〔或惡性腫瘤蛛網(wǎng)膜下腔轉(zhuǎn)移，特別是白血病〕； (4)腦室內(nèi)有瘀血急需去除者； (5)作腦脊液分流手術(shù)，放置各種分流導(dǎo)管。 解剖根底 一、腦室形態(tài) 第二頁，共三十二頁。 即作腦室和腰椎雙室穿刺，用染料測試兩者是否相通。 深度： 方向： 與矢狀面平行，對準(zhǔn)兩外耳道連線； 優(yōu)缺點(diǎn)： 側(cè)腦室額角較大，易刺中，無脈絡(luò)叢，便 于作腦室持續(xù)外引流術(shù)。 優(yōu)缺點(diǎn)： 側(cè)腦室三角區(qū)最大，易刺中，發(fā)生移位時機(jī)不 多或不 嚴(yán)重，且該處皮質(zhì)血管少。
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