【摘要】超大規(guī)模集成電路分析與設(shè)計(jì)VLSIAnalysisandDesign主講:張冉Email:教材(I)書(shū)名:超大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)導(dǎo)論出版社:清華大學(xué)出版社作者:蔡懿慈,周強(qiáng)編著參考教材(II)?《CMOS超大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)(第3版)》
2025-12-30 14:59
【摘要】集成電路行業(yè)風(fēng)險(xiǎn)分析報(bào)告集成電路行業(yè)風(fēng)險(xiǎn)分析報(bào)告摘要一、2007年我國(guó)經(jīng)濟(jì)保持高速發(fā)展,對(duì)集成電路制造行業(yè)產(chǎn)生影響喜憂(yōu)參半2007年全年國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值246619億元,%,,連續(xù)五年增速達(dá)到或超過(guò)10%。工業(yè)生產(chǎn)增長(zhǎng)加快,使得與集成電路制造產(chǎn)業(yè)相關(guān)的專(zhuān)業(yè)設(shè)備制造、化工、能源等行業(yè)獲得較快發(fā)展,有力的支持了集成電路制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。由于我國(guó)的消費(fèi)
2025-05-30 00:43
【摘要】2022/2/4共88頁(yè)1Hspice/Spectre介紹羅豪2022/2/4共88頁(yè)2模擬集成電路的設(shè)計(jì)流程(DRCLVS)全定制2022/2/4共88頁(yè)3各種仿真器簡(jiǎn)介?SPICE:由UCBerkeley開(kāi)發(fā)。用于非線性
2025-12-30 15:09
【摘要】CMOS集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)-MOS器件MOS器件多晶硅GSD氧化層LeffLdrawnN+N+P型襯底LDWNMOS管的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)制作在P型襯底上(P-Substrate,也稱(chēng)bulk或body,為了區(qū)別于源極S,襯底以B來(lái)表示),兩個(gè)重?fù)诫sN區(qū)形成源區(qū)和漏區(qū),
2026-01-03 16:50
【摘要】2022/2/41第二章IC制造材料結(jié)構(gòu)與理論了解集成電路材料半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識(shí)PN結(jié)與結(jié)型二極管雙極型晶體管基本結(jié)構(gòu)與工作原理MOS晶體管基本結(jié)構(gòu)與工作原理2022/2/42表集成電路制造所應(yīng)用到的材料分類(lèi)
2025-12-29 01:54
【摘要】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)莫冰華僑大學(xué)電子工程系廈門(mén)市專(zhuān)用集成電路系統(tǒng)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的VLSI工藝BiCMOS工藝第四章集成電路器件工藝IC材料、工藝、器件和電路材料工藝器件
【摘要】集成電路設(shè)計(jì)與集成系統(tǒng)專(zhuān)業(yè)職業(yè)規(guī)劃書(shū) 如今,我的人生,我未來(lái)的職業(yè),立志成為一個(gè)網(wǎng)絡(luò)IT人才。在社會(huì)工作中積累經(jīng)驗(yàn),增長(zhǎng)自己在課本無(wú)法學(xué)到的實(shí)踐知識(shí),結(jié)合理論知識(shí)進(jìn)行屬于自己的創(chuàng)新。在工作之...
2025-04-05 22:04
【摘要】集成電路濕法刻蝕的應(yīng)用摘要濕刻就是濕法刻蝕,它是一種刻蝕方法,主要在較為平整的膜面上刻出絨面,從而增加光程,減少光的反射,刻蝕可用稀釋的鹽酸等。濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。它是一種純化學(xué)刻蝕,具有優(yōu)良的選擇性,刻蝕完當(dāng)前薄膜就會(huì)停止,而不會(huì)損壞下面一層其他材料的薄膜。著重研究各種化學(xué)品的流量對(duì)電池片刻蝕深度的影響。首先查看各種資料,掌握本課題相關(guān)的知識(shí):通過(guò)對(duì)氫
2025-06-23 06:50
【摘要】電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-121第1章集成電路設(shè)計(jì)導(dǎo)論1、微電子(集成電路)技術(shù)概述2、集成電路設(shè)計(jì)步驟及方法電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-122?“自底向上”(Bottom-up)“自底向上”的設(shè)計(jì)路線,即自工藝開(kāi)始,先進(jìn)行單元設(shè)計(jì),在精心設(shè)計(jì)
2025-04-29 03:20
【摘要】2022/2/4共88頁(yè)1Spectre/Virtuoso/Calibre工具使用介紹2022/2/4共88頁(yè)2模擬集成電路的設(shè)計(jì)流程(spectre)(virtuoso)(DRCLVS)(calibre)(calibre)(spectre)(gdsii
2025-12-29 21:47
【摘要】華?僑?大?學(xué)?專(zhuān)?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實(shí)?驗(yàn)?室?IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)EDAC華僑大學(xué)電子工程電系2022年華?僑?大?學(xué)?專(zhuān)?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實(shí)?驗(yàn)?室?2022/2/42第3章IC制造工藝
2025-12-30 15:42
【摘要】《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》山東大學(xué)信息學(xué)院劉志軍BCEP+P+PMOSN+PN阱N阱縱向NPN-SUBP+N+N+NMOS-P-epiN+N+-BLN+-BL2022/2/13《集成電路設(shè)
2026-01-08 09:42
【摘要】大連理工大學(xué)電信學(xué)院1CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)巢明大連理工大學(xué)電信學(xué)院2課程背景?課程目的:?掌握構(gòu)成CMOS模擬集成電路的基本器件模型?理解運(yùn)算放大器的性能指標(biāo)?能夠正確使用仿真工具進(jìn)行分析,仿真和設(shè)計(jì)?了解CMOS集成電路的設(shè)計(jì)流程?完成一個(gè)兩級(jí)運(yùn)算放大器的設(shè)計(jì)和仿真
2026-01-09 02:36
【摘要】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)莫冰華僑大學(xué)電子工程系廈門(mén)市專(zhuān)用集成電路系統(tǒng)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室第五章MOS場(chǎng)效應(yīng)管的特性MOS場(chǎng)效應(yīng)管MOS管的閾值電壓體效應(yīng)MOSFET的溫度特性MOSFET的噪聲MOSFET尺寸按比例縮小MOS器件的二階效應(yīng)MOS場(chǎng)效應(yīng)管
2025-12-29 01:55
【摘要】2022/2/4JianFang1集成電路工藝和版圖設(shè)計(jì)概述JianFangICDesignCenter,UESTC2022/2/4JianFang2微電子制造工藝2022/2/4JianFang3IC常用術(shù)語(yǔ)園片:硅片芯片(Chip,Die):6?、8?:硅(園)片