光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑-全文預(yù)覽
【正文】 —— 反應(yīng)機(jī)理 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 248nm ：聚對(duì)羥基苯乙烯及其衍生物； 193nm : 聚酯環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物； 改變極性基團(tuán) —— 提供可粘性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 改變酸敏部分：提供成像能力和抗蝕性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 苯環(huán)被稠環(huán)替代； 產(chǎn)酸效率 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●抗蝕劑的配制工藝 配方（ 1）組成： 成膜樹脂 100% N羥基馬來海松酸酰亞胺磺酸酯產(chǎn)酸劑 5% 乙二醇單乙醚 適量 制作工藝：將配方量的成膜樹脂和產(chǎn)酸劑加入計(jì)算量的乙二醇單乙醚中，攪拌溶解為溶液。 ●對(duì)光致抗蝕劑的要求：對(duì)曝光光源敏感但不吸收；可顯影；有阻容性（反差或?qū)Ρ榷群茫? 產(chǎn)出（ throughout） ：集成電路的發(fā)展軌跡就是兩高一低，即高集成度，高產(chǎn)出和低成本。在紫外光作用下，光敏化合物與聚合物反應(yīng)或增加其在堿性溶液（顯影液）中的溶解度被洗掉（正型聚合物）；或增加其交聯(lián)度，不能被非極性溶劑溶掉而留下（負(fù)型聚合物），從而將掩膜上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理與工藝 平板印刷概念 —— 被印物與底板或非印物同在一個(gè)平面上；印刷時(shí)，底板以水浸濕，利用油水不沾原理，以油墨將印物印刷； 光學(xué)投影平版印刷 —— 將通過掩膜的光圖案，經(jīng)過光學(xué)系統(tǒng)，投影在涂有光致抗蝕劑的晶片上，后者發(fā)生內(nèi)部反應(yīng)后，經(jīng)顯影，刻蝕后，將掩膜圖案留在晶片上 一、光學(xué)平板印刷術(shù) 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ? 光學(xué)投影平版印刷術(shù)工藝 ●利用旋涂工藝將光致抗蝕劑均勻旋涂在底板或硅片上； ●套準(zhǔn)曝光 —— 將掩膜套準(zhǔn)已旋涂了光致抗蝕劑的底板或硅片并曝光。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●集成電路的誕生： 1947年 —— William S
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1