《測試與分析》ppt課件-全文預(yù)覽
【正文】 鏡偏折一般， 由電磁場的改變而偏折。電子顯微鏡的放大倍數(shù)最高可達近百萬倍、由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)等 5部分構(gòu)成。 電子顯微分析技術(shù)是采用透射式和掃描式電子顯微鏡進行表面分析的一種顯微分析技術(shù)。 第一節(jié) 摩擦表面測試分析技術(shù) 一、固體的表面形態(tài)與結(jié)構(gòu)分析 固體表面形態(tài)與結(jié)構(gòu)分析主要是指對表面的微觀結(jié)構(gòu)、缺陷和原子排列等方面進行觀察與分析，一般采用電子顯微分析技術(shù)和衍射分析技術(shù)。這種切片需要用超薄切片機（ ultramicrotome）制作。 1897 . Thmson 發(fā)現(xiàn)電子 ,1924 Louis de Broglie （ 1929 年諾貝爾物理獎得主） 提出電子本身具有波動的物理特性， 進一步提供電子顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 * 1938 第一部掃描電子顯微鏡由 Von Ardenne 發(fā)展成功。 *1941～63 解像力提升至 2~3 amp。 （ 掃描式） 1960 Everhart and Thornley 發(fā)明二次電子偵測器。 主要用于顯微結(jié)構(gòu)分析、晶粒形貌、晶體缺陷、納米顆粒大小、界面結(jié)構(gòu)、高分辨晶格像、微區(qū)成分分析等。 透射電子顯微鏡 工作原理 : 由電子槍發(fā)射出來的電子， 在陽極加速電壓 (金屬、陶瓷等多采用 1 200、 300 kV，生物樣品多采用 80～ 100 kV，超高壓電鏡則高達 1 000～ 3 000 kv)的作用下 ，經(jīng)過聚光鏡( 3個電磁透鏡 )會聚為電子束照明樣品．電子的穿透能力很弱 (比 X射線弱很多 )，樣品必須很薄 (其厚度與樣品成分、加速電壓等有關(guān)，一般約小于 200 nm)． 穿過樣品的電子攜帶了樣品本身的結(jié)構(gòu)信息 ，經(jīng)物鏡、中間鏡和投影鏡的接力聚焦放大最終以圖像或衍射譜 (衍射花樣 )的形式顯示于熒光屏上． 1．電磁透鏡 相應(yīng)于光學玻璃透鏡，我們把能使電子束聚焦的裝置稱為電子透鏡 (electron lens)．旋轉(zhuǎn)對稱的靜電場和磁場對電子束都可以起到聚焦的作用 ，相應(yīng)地有靜電透鏡和磁透鏡．磁透鏡分為恒磁透
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