x射線衍射儀與能譜儀綜合介紹-全文預(yù)覽
【正文】 （ 10－ 10米 ） 硅鋁比的計(jì)算按照公式： SiO2/Al2O3＝（ 192/（ ）1） 2】 點(diǎn)陣參數(shù)分析 測(cè)定次序 測(cè)得 2θ 冊(cè) 測(cè)得 2θ 校 a533（ 1010米） 硅鋁比 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 平均值 標(biāo)準(zhǔn)偏差 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 % % % ％ 以測(cè)定 NaY分子篩硅鋁比為例 2?? 此衍射線寬化 晶粒細(xì)化。（有衛(wèi)生部門實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)） 產(chǎn)品成熟、性能穩(wěn)定 ? XD2/3推出至今 7年有余，技術(shù)成熟，用戶近百家。 左圖示為室內(nèi)機(jī) ，室外機(jī)為2P空調(diào)室外機(jī) 。 ? 如果對(duì)普析 X射線熒光分析儀或衍射儀感興趣，希望了解更多信息，請(qǐng)?jiān)L問： ? 普析通用網(wǎng)頁： ? 微構(gòu)分析實(shí)驗(yàn)室網(wǎng)頁： ? 謝 謝！ 北京普析通用儀器有限責(zé)任公司 。 薄膜附件 衍射儀上加裝一掠射附件 （ 176。 ，優(yōu)于國家 JJG6291989檢定 A級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。實(shí)際最大能用到 1000埃左右 晶粒大小分析 ? 例： 薄膜分析（利用平行光薄膜附件） 薄膜分析 ? 樣品能前傾從垂直到前傾 75度 ? 樣品需要在自身平面內(nèi)自 360度旋轉(zhuǎn) ? 每變換一個(gè)前傾角度，樣品自轉(zhuǎn) 360度 ? 為克服晶粒度過大問題，樣品可以作在自身平面內(nèi)作復(fù)平移運(yùn)動(dòng) 織構(gòu)分析 再結(jié)晶低炭鋼板的 110極圖 橫向 軋向 等高線邊的數(shù)字表示強(qiáng)度 織構(gòu)分析 X射線衍射儀的應(yīng)用 舉例 表面宏觀殘余應(yīng)力分析（ θ 傾斜法或者 K軸傾斜法），下面是一種鋼鐵樣品用 θ 傾斜法測(cè)定其表面宏觀殘余應(yīng)力，測(cè)定結(jié)果為 2213MPa，為壓應(yīng)力 X射線衍射儀的應(yīng)用舉例 高聚物的衍射圖 X射線衍射儀的應(yīng)用舉例 XD系列衍射儀小角測(cè)試實(shí)驗(yàn)報(bào)告 XD3測(cè)試結(jié)果 島津測(cè)試結(jié)果 X射線衍射儀的應(yīng)用舉例 ? 在藥物方面應(yīng)用： 蒙脫石散晶型鑒定 X射線衍射儀的應(yīng)用舉例 ? 那格列奈 晶型鑒定 ? X射線發(fā)生器 ? 測(cè)角儀 ? X射線強(qiáng)度測(cè)量系統(tǒng) ? 衍射儀控制與衍射數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng) XRD構(gòu)成 普析通用三種型號(hào)衍射儀 XD2：立式測(cè)角儀 θ 2θ XD3： 立式測(cè)角儀 θ θ 結(jié)構(gòu) 普析通用三種型號(hào)衍射儀 XD6：立式測(cè)角儀 θ θ 結(jié)構(gòu) 掃描半徑可調(diào) 結(jié)構(gòu)先進(jìn)精度高 ? 立式 測(cè)角儀：利于操作者放置和更換樣品，是國內(nèi)唯一有成熟產(chǎn)品的廠家 ? 重現(xiàn)性達(dá)到 ? ? 測(cè)量重復(fù)性 ? ? 最小步進(jìn)角度 ? ? 超強(qiáng)的低角度掃描功能：常規(guī)掃描角度可以從?開始 安全可靠 ? 配有完善的冷卻、電氣、溫度等系列報(bào)警與保護(hù)裝置 ? 完善的窗口連鎖與機(jī)柜門連鎖機(jī)構(gòu) ? 上半部機(jī)柜內(nèi)有鉛皮夾層防護(hù)，正面大面積鉛玻璃 ? 整機(jī)通過了北京市衛(wèi)生局的防輻射檢測(cè)，結(jié)果為最大 （國標(biāo)規(guī)定小于 ，在正常密度空氣中， 1Sv≈1Gy ） 重視安全機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì) 機(jī)柜設(shè)計(jì)與測(cè)角儀光閘采用了連鎖機(jī)構(gòu)，未到指定位置 X射線無法開啟，嚴(yán)防 X射線泄漏。各物相的含量固定時(shí)，各物相的衍射線的強(qiáng)度比是固定的。 ) ? 晶粒尺寸 、微觀應(yīng)力 的測(cè)定 ? 織構(gòu)分析 （晶粒取向分析） ? 薄膜分析 （薄膜物相組成 ,薄膜反射率測(cè)定 .）
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