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化學(二)期末報告:電漿原理與濺鍍系統(tǒng)介紹-全文預覽

2024-09-29 12:28 上一頁面

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【正文】 濺鍍法分類 ? 濺鍍法常用為兩種: (DC Sputtering) (RF Sputtering) 濺鍍法製成薄膜 ? 以氧化鋅鋁 (AZO)為例, AZO是以氧化鋅(ZnO)為主體,摻入部分鋁 (Al)元素取代鋅 (Zn),以增加導電性之半導體材料。 電漿化例子 ?一般用來形成電漿的工作氣體為 氬氣 (Ar),當系統(tǒng)內(nèi)的游離電子以高電位撞擊至氬氣時,就會產(chǎn)生氬離子 。 電漿化條件 1. 極高溫的環(huán)境下 (6000K)會形成電漿 ?;瘜W (二 )期末報告: 電漿原理與濺鍍系統(tǒng)介紹 化材三甲 組員: 陳簡佑 497400
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