半導(dǎo)體制造工藝_07擴(kuò)散(上)(文件)
【正文】 時(shí)間越長，擴(kuò)散越深，表面濃度越低。 預(yù)淀積控制劑量 恒定劑量推進(jìn)退火 ? ? ? ?neff tttDDt ???? ...21? ? ...... 1221112211 ??????????????DDtDtDtDtDDte ff31 半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ) 第六章 擴(kuò)散原 理 (上 ) 二步擴(kuò)散 第一步 為恒定表面濃度的擴(kuò)散（ Predeposition） （稱為預(yù)沉積或預(yù)擴(kuò)散） 控制摻入的雜質(zhì)總量 ?1112tDCQ ?第二步 為有限源的擴(kuò)散（ Drivein），往往同時(shí)氧化 （稱為主擴(kuò)散或再分布） 控制擴(kuò)散深度和表面濃度 221112222tDtDCtDQC????32 半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ) 第六章 擴(kuò)散原 理 (上 ) ? ? ???????? ??22222 4exp,tDxtDQtxC T?? ? ? ?????01112, ?tDCdxtxCtQT因?yàn)? 當(dāng) ? ? ???????? ??2222211121 4exp2,tDxtDtDCttxC?2211 tDtD ??22112211 or tDtDtDtD ??二步擴(kuò)散的兩種極端情況 33 半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ) 第六章 擴(kuò)散原 理 (上 ) 余誤差函數(shù)分布（ erfc） 表面濃度恒定 雜質(zhì)總量增加 擴(kuò)散深度增加 高斯函數(shù)分布（ Gaussian） 表面濃度下降 (1/?t ) 雜質(zhì)總量恒定 結(jié)深增加 關(guān)鍵參數(shù) Cs（表面濃度） xj （結(jié)深） Rs（薄層電阻） 34 半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ) 第六章 擴(kuò)散原 理 (上 ) 本節(jié)課主要內(nèi)容 摻雜工藝一般分為哪兩步？結(jié)深？薄層電阻？固溶度？ 兩種特殊條件下的費(fèi)克第二定律的解及其特點(diǎn)？特征擴(kuò)散長度？ 預(yù)淀積＋退火。反映 擴(kuò)散入硅內(nèi)部的凈雜質(zhì)總量。 14:53:0314:53:0314:533/22/2023 2:53:03 PM ? 1以我獨(dú)沈久，愧君相見頻。 2023年 3月 22日星期三 下午 2時(shí) 53分 3秒 14:53: ? 1比不了得就不比，得不到的就不要。 下午 2時(shí) 53分 3秒 下午 2時(shí) 53分 14:53: ? 沒有失敗，只有暫時(shí)停止成功！。 14:53:0314:53:0314:53Wednesday, March 22, 2023 ? 1不知香積寺，數(shù)里入云峰。 2023年 3月 下午 2時(shí) 53分 :53March 22, 2023 ? 1少年十五二十時(shí)，步行奪得胡馬騎。 14:53:0314:53:0314:533/22/2023 2:53:03 PM ? 1越是沒有本領(lǐng)的就越加自命不凡。 :53:0314:53:03March 22, 2023 ? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 下午 2時(shí) 53分 3秒 下午 2時(shí) 53分 14:53: MOMODA POWERPOINT Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Fusce id urna blandit, eleifend nulla ac, fringilla purus. Nulla iaculis tempor felis ut cursus. 感 謝 您 的 下 載 觀 看 專家告訴 。 2023年 3月 下午 2時(shí) 53分 :53March 22, 2023 ? 1業(yè)余生活要有意義，不要越軌。 14:53:0314:53:0314:53Wednesday, March 22, 2023 ? 1知人者智，自知者明。 下午 2時(shí) 53分 3秒 下午 2時(shí) 53分 14:53: ? 楊柳散和風(fēng)，青山澹吾慮。 2023年 3月 22日星期三 下午 2時(shí) 53分 3秒 14:53: ? 1楚塞三湘接，荊門九派通。 14:53:0314:53:0314:533/22/2023 2:53:03 PM ? 1成功就是日復(fù)一日那一點(diǎn)點(diǎn)小小
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