半導(dǎo)體制造工藝第1章緒論(文件)
【正文】 了芯片設(shè)計和芯片制造，從芯片的前端設(shè)計到后端加工都在企業(yè)內(nèi)部完成。相比而言，硅的禁帶寬度較大（ 1． 12eV），硅半導(dǎo)體的工作溫度可以高達(dá) 200℃ 。(2)更高的熔化溫度允許更寬的工藝容限 硅的熔點是 1412℃ ，遠(yuǎn)高于鍺 937℃ 的熔點，更高的熔點使得硅可以承受高溫工藝。用來做芯片的純硅被稱為半導(dǎo)體級硅，是從天然硅中提煉出的多晶硅。晶體缺陷會影響半導(dǎo)體的電學(xué)性能，包括二氧化硅介質(zhì)擊穿和產(chǎn)生漏電流等?！』镜陌雽?dǎo)體材料圖 125 CZ法拉單晶爐示意圖 基本的半導(dǎo)體材料圖 126 用 CZ法生長的硅錠 基本的半導(dǎo)體材料(2)區(qū)熔法 區(qū)熔法是另一種單晶生長方法，它所生產(chǎn)的單晶硅中含氧量非常少，能生產(chǎn)目前為止最純的單晶硅?！“雽?dǎo)體制造中使用的化學(xué)品表 13 半導(dǎo)體制造過程中常用的酸 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品表 14 半導(dǎo)體制造過程中常用的堿表 15 半導(dǎo)體制造過程中常用的溶劑 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品圖 129 特種氣體鋼瓶 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品表 16 半導(dǎo)體制造中常用的通用氣體 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品表 16 半導(dǎo)體制造中常用的通用氣體 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品表 17 半導(dǎo)體制造中常用的特種氣體 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品等離子體，又叫做電漿，是被電離后的氣體，即以離子態(tài)形式存在的氣體 (正離子和電子組成的混合物 )。等離子體輔助CVD就是利用了這個特點?！⌒酒圃斓纳a(chǎn)環(huán)境 凈化間沾污類型 凈化間沾污類型可以分為 5大類：顆粒、金屬雜質(zhì)、有機物沾污、自然氧化層和靜電釋放。 二月 21二月 21Monday, February 01, 2023? 雨中黃葉樹，燈下白頭人。 二月 21二月 2104:50:0104:50:01February 01, 2023? 1他鄉(xiāng)生白發(fā)，舊國見青山。 2023/2/1 4:50:0104:50:0101 February 2023? 1做前，能夠環(huán)視四周；做時，你只能或者最好沿著以腳為起點的射線向前。 二月 2104:50:0104:50Feb2101Feb21? 1世間成事，不求其絕對圓滿，留一份不足，可得無限完美。 。 二月 21二月 21Monday, February 01, 2023? 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。勝人者有力，自勝者強。 2023/2/1 4:50:0104:50:0101 February 2023? 1一個人即使已登上頂峰，也仍要自強不息。 01 二月 20234:50:01 上午 04:50:01二月 21? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。 二月 2104:50:0104:50Feb2101Feb21? 1越是無能的人，越喜歡挑剔別人的錯兒。 2023/2/1 4:50:0104:50:0101 February 2023? 1空山新雨后，天氣晚來秋。 二月 21二月 210
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1