半導體制造工藝第3章清洗工藝(文件)
【正文】 ，留一份不足，可得無限完美。 。 二月 21二月 21Monday, February 01, 2023? 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。勝人者有力，自勝者強。 2023/2/1 4:50:1304:50:1301 February 2023? 1一個人即使已登上頂峰，也仍要自強不息。 01 二月 20234:50:13 上午 04:50:13二月 21? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。 二月 2104:50:1304:50Feb2101Feb21? 1越是無能的人，越喜歡挑剔別人的錯兒。 2023/2/1 4:50:1304:50:1301 February 2023? 1空山新雨后，天氣晚來秋。 二月 21二月 2104:50:1304:50:13February 01, 2023? 1意志堅強的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 二月 21二月 21Monday, February 01, 2023? 很多事情努力了未必有結果，但是不努力卻什么改變也沒有。 。 二月 2104:50:1304:50Feb2101Feb21? 1故人江海別，幾度隔山川。(3)溢流清洗器 傳統(tǒng)上絕大多數(shù)類型的去離子水清洗都是用溢流清洗器。圖 35 12in單片兆聲波清洗設備 常用清洗設備 —— 超聲波清洗設備 其他清洗設備 超聲波清洗是半導體工業(yè)中廣泛應用的一種清洗方法，該方法的優(yōu)點是清洗效果好，操作簡單，對于復雜的器件和容器也能清除，但該方法具有噪聲較大、換能器易壞的缺點。聲波是指人耳能聽到的聲音，一般認為聲波的頻率在 20～ 20230Hz范圍內(nèi)，而振動頻率超過 20kHz以上的聲波則稱為超聲波，用于清洗的超聲波所采用的頻率為，超聲波由于頻率高、波長短，因而傳播的方向性好、穿透能力強，這也就是為什么設計制作超聲波清洗機的原因。2)向真空艙引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在 100Pa。等離子體清洗屬于全干法清洗，而氣相清洗屬于半干法清洗。單晶圓清洗技術處理也更適于向銅和低 k值電介質(zhì)等新型材料過渡。關鍵尺寸縮小使得清洗的工藝窗口變窄，要滿足清洗效率并同時做到盡量少的表面刻損和結構損壞變得十分不容易。優(yōu)化的 HF/HCl混合物可有效預防溶液中金屬外鍍，增長溶液使用時間。同時，用此清洗方法取代標準化的 SPM清洗方法可增加 3倍的酸槽使用壽命?！∏逑捶椒ǜ艣r 稀釋 RCA清洗 現(xiàn)行的 RCA清洗方法存在不少問題：步驟多，消耗超純水和化學試劑多，成本高；使用強酸強堿和強氧化劑，操作危險；試劑易分解、揮發(fā)，有刺激性氣味，使用時必須通風，從而增加了超凈間的持續(xù)費用；存在較嚴重的環(huán)保問題；硅片干燥慢，干燥不良可能造成前功盡棄，且與其后的真空系統(tǒng)不能匹配?！∏逑捶椒ǜ艣r圖 31 典型的硅片濕法清洗流程 清洗方法概況1)第一步是去除有機物和金屬，用到的試劑是 H2SO4/H2O2(SPM)。 RCA清洗工藝技術的特點在于按照應該被清除的污染物種類選用相應的清洗藥水，
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