【正文】 限或描點(diǎn)計(jì)算錯(cuò)或描錯(cuò)。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 A2R 。 34 分析均值圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 341 超出控制限的點(diǎn)： a 一點(diǎn)超出任一控制限通常表明存在下列情況之一或更多： a1 控制限或描點(diǎn)時(shí)描錯(cuò) a2 過程已更改，或是在當(dāng)時(shí)的那一點(diǎn)（可能是一件獨(dú)立的 事件）或是一種趨勢的一部分。 b 一般情況 ， 各點(diǎn)與 X的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的 中間 1/3的區(qū)域內(nèi) ， 大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域； 1/20的 點(diǎn)應(yīng)落在控制限較近之處 （ 位于外 1/3的區(qū)域 ） 。 注：如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 4 過程能力分析 ? 進(jìn)行過程能力分析 ,須滿足以下條件下方可： ? ? Ppk 過程性能指數(shù)：是指考慮過程有特殊原因引起的偏差時(shí)，樣本數(shù)據(jù)的過程性能。制程輸出特性的單個(gè)測量值構(gòu)成近似服從正態(tài)分布； ? b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠(yuǎn)的幾個(gè)子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 R很近之處（對(duì)于 25子組， 如 果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一 種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限或描點(diǎn)計(jì)算錯(cuò)描錯(cuò) 。 a1 過程均值已改變 a2 測量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸到 鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時(shí)間。而是排除受已知的特殊原因影響的點(diǎn)。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 注： 如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 c2 過程或取樣方法被分層，每個(gè)子組系統(tǒng)化包含了從兩個(gè)或多 個(gè)具有完全不同的過程均值的過程流的測量值（如：零件來自幾組軸中，抽樣時(shí)，每個(gè)子組包含每根軸上的零件來測取數(shù)據(jù)）。 注 2： 標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸 到鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時(shí)間 。 a2 測量系統(tǒng)的改變 （ 如新的檢驗(yàn)人或新的量具 )。 注 1： R 圖和 X 圖應(yīng)分別分析，但可進(jìn)行比較，了解影響過程 的特殊原因。 ? 各控制限畫成紅線。 4 5 21 計(jì)算平均極差（ R）及過程均值（ X） 6 R=（ R1+R2+…+R k） / k（ K表示子組數(shù)量） 7 8 X =（ X1+X2+…+X k） / k 9 22 計(jì)算控制限 10 計(jì)算控制限是為了顯示僅存在變差的普通原因時(shí)子組的均 11 值和極差的變化和范圍。 （ 例如：平均值圖上 1個(gè)刻度代表 ，則在極差圖上 1個(gè)刻度代表 ） 1將均值和極差畫到控制圖上 41 X 圖和 R 圖上的點(diǎn)描好后及時(shí)用直線聯(lián)接，瀏覽各點(diǎn)是否 合理，有無很高或很低的點(diǎn)，并檢查計(jì)算及畫圖是否正確。 1計(jì)算每個(gè)子組的均值（ X）和極差 R 對(duì)每個(gè)子組計(jì)算： X=（ X1+X2+…+X n） / n R=XmaxXmin 式中： X1 ， X2 ? ? ? ?為子組內(nèi)的每個(gè)測量值。 ? ? 2 子組頻率 ? b 確保檢測設(shè)備或量具本身的準(zhǔn)確性和精密性。 ＾ 控制圖的選擇方法 確定要制定控制圖的特性 是計(jì)量型數(shù)據(jù)嗎？ 否 關(guān)心的是不合格品率？ 否 關(guān)心的是不合格數(shù)嗎？ 是 樣本容量是否恒定？ 是 使用 np或 p圖 否 使用 p圖 樣本容量是否恒定？ 否 使用 u圖 是 是 使用 c或 u圖 是 性質(zhì)上是否是均勻或不能按子組取樣 — 例如：化學(xué)槽液、批量油漆等？ 否 子組均值是 否能很方便 地計(jì)算？ 否 使用中 位數(shù)圖 是 使用單值圖XMR 是 接上頁 子組容量是否大于或等于 9？ 是 否 是否能方便地計(jì)算每個(gè)子組的 S值？ 使用 X— R圖 是 否 使用 X— R圖 使用 X— s圖 注：本圖假設(shè)測量系統(tǒng)已經(jīng)過評(píng)價(jià)并且是適用的。要求樣本量大。 樣本含量相等。缺點(diǎn)是不易發(fā)現(xiàn) 工序分布中心的變化。 適用于產(chǎn)品批量大且生產(chǎn)正 常、穩(wěn)定的工序。從而對(duì)這些特殊原因采取適當(dāng)?shù)拇胧ɑ蚴窍鼈?，或是如果有用，則永久地保留它們） 過程控制 受控 （消除了特殊原因） 時(shí)間 范圍 不受控 （存在特殊原因） 過程能力 受控且有能力符合規(guī)范 （普通原因造成的變差已減少） 規(guī)范下限 規(guī)范上限