手機(jī)外殼陽(yáng)極氧化工藝原理與常見(jiàn)故障分析(文件)
【正文】 150V 時(shí)間 :40~60分鐘 槽液配制 ： 用 4/5工作體積用的去離子水或蒸餾水加熱至 70~80℃ ，在攪拌條件下加入所需量草酸； ? 電解維護(hù) ： ? 因草酸在陽(yáng)極能被還原為羥基乙酸，陽(yáng)極上被氧化成二氧化碳，故穩(wěn)定性較差，約每1A 五、硬質(zhì)陽(yáng)極氧化 （也稱膜厚陽(yáng)極氧化） ? 工藝 ：低溫、高壓、強(qiáng)烈攪拌以 獲取厚而密的高硬度膜層； ? 性質(zhì)特點(diǎn) ： ? ① 氧化膜較厚（可達(dá) 250um~300um）一般工業(yè)上通常膜厚通常在 20~30um。 ? ③ 電流密度：電流密度過(guò)低時(shí)，氧化時(shí)間長(zhǎng)，膜層硬度低，生產(chǎn)效率低，電流密度過(guò)高，氧化過(guò)程中產(chǎn)生大量熱，加快氧化膜溶解，也會(huì)使膜層硬度偏低，且零件被燒毀的可能性增大 ? ④ 氧化時(shí)間：依電解液濃度、電流密度、溫度而定，同時(shí)也依材質(zhì)不同而設(shè)定。 ? ④ 局部保護(hù) ,針對(duì)不需硬質(zhì)氧化處理之位置 ,采用絕緣膠、噴涂方法保護(hù)。 ? ② 表面粗糙度 。 ? ② 溫度：隨溫度降低，膜層硬度和耐磨性將逐漸提高，溫度公差控制在 177。約 1A ? (3)硫酸陽(yáng)極氧化溶液的溫度必須嚴(yán)格控制 ,最佳溫度范圍是1525℃ .硫酸陽(yáng)極氧化工藝過(guò)程中需采用壓縮空氣攪拌 ,并應(yīng)配備制冷裝置 .在無(wú)制冷裝置的情況下 ,在硫酸電解液中加入%%的丙三酸或草酸、乳酸等羧酸，可以使陽(yáng)極氧化溶液溫度范圍超過(guò) 35 ℃ 而避免或減少氧化膜的疏松或粉化。有時(shí)向電解液中添加自來(lái)水，水經(jīng)漂白粉處理且 Cl含量超標(biāo)或有時(shí)盛裝過(guò) HCl的容器未經(jīng)徹底清洗又盛裝硫酸，都會(huì)使陽(yáng)極氧化電解液中混入超量的 Cl，從而導(dǎo)致鋁合金零件陽(yáng)極氧化產(chǎn)生點(diǎn)狀腐蝕使產(chǎn)品報(bào)廢等。而鋁硅合金或含銅量較高的鋁合金，氧化膜則較難生成，且生成的膜發(fā)暗、發(fā)灰、光澤性不好。鋁越純 ,生成氧化膜透明光亮 ,否則 ,氧化膜透明度和光亮度越低 ,且抗蝕力越差 ,組織狀態(tài)或加工不同，形成氧化膜不均勻。 電流密度： 電流密度越大，膜較硬，耐磨性好，但電流密度過(guò)高，則會(huì)因焦耳熱影響，使膜層溶解作用增加，電流密度過(guò)高，膜層氧化時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，膜疏松，硬度降低，對(duì)于需染色或電解著色的氧化膜，電流密度宜取 ~,裝飾性陽(yáng)極氧化膜電流密度宜取 ~。 雜質(zhì)離子影響： 可能存在的雜質(zhì)離子： CLˉ、 F ˉ、 NO3 ˉ、 AL3﹢ 、 CN2 ﹢ 、 Fe 2 ﹢ 、 Si 2 ﹢ 等 A、 CLˉ、 F ˉ、 NO3 ˉ等陰離子含量高時(shí)，氧化膜孔隙增加表面粗糙、疏松。若溫度過(guò)低，氧化膜發(fā)脆易裂。 B、槽液液面上的漂浮物和油 污應(yīng)及時(shí)清除，脫落在槽 液中的
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