《微細(xì)加工光刻膠》ppt課件(文件)
【正文】 顯影過程中光刻膠膜會發(fā)生膨脹。 顯影后必須進(jìn)行嚴(yán)格的檢查，如有缺陷則必須返工。例如酚醛樹脂就對深紫外光有很強(qiáng)的吸收。第二個問題是使膠膜的厚度發(fā)生變化：在硅片表面凹下處膠膜較厚，導(dǎo)致曝光不足；在硅片表面凸起處膠膜較薄，導(dǎo)致曝光過度。但薄膠會遇到耐腐蝕性的問題。 小結(jié) 本章首先介紹了光刻膠的類型與特性，重點(diǎn)討論了光刻膠的靈敏度、分辨率、對比度及其相互關(guān)系。 習(xí) 題 某種 光刻膠的 D0 = 40mJ/cm2， D100 = 85mJ/cm2，試計(jì)算這 種 光刻膠的對比度與 CMTF。介紹了涉及光刻膠的工藝步驟。 頂層膠：含硅，厚約 ?m 底層膠：也稱為干顯影膠，厚約 ?m 對頂層膠曝光顯影 對底層膠作含氧的 RIE 刻蝕 據(jù)報(bào)導(dǎo)，采用 193 nm 波長光源，在底層膠上獲得了 ?m ~ ?m 寬的線條。 解決這個問題的辦法是表面平坦化。 0( ) e zI z I ???可知，當(dāng) α太大時，則只有光刻膠的頂部能被有效曝光；當(dāng) α太小時，則由于吸收太少而需要長時間的曝光。 二級曝光效應(yīng) 在選擇光刻膠時，必須考慮它的吸收譜，以及在特定波長下的光學(xué)吸收系數(shù) α。 顯影過程對溫度非常敏感。對負(fù)膠，顯影液將溶解掉未曝光區(qū)的膠膜；對正膠，顯影液將溶解曝光區(qū)的膠膜。膠膜的厚度決定于光刻膠的粘度和旋轉(zhuǎn)速度。 增粘處理 在烘烤后的硅片表面涂一層六甲基二硅亞胺（ HMDS），目的是增加硅片表面與光刻膠的粘附性。這種作用稱為 “三重態(tài)增感” 。所以用 λ= 300 nm 的光曝光比用 λ= 365 nm 的反應(yīng)速度快。 二、勢能曲線 可以借助于感光物質(zhì)的勢能曲線來討論光化學(xué)反應(yīng)。 正膠的典型反應(yīng) 一、光化學(xué)反應(yīng) 化學(xué)反應(yīng)速度 k 可表示為 Ae xp EkART???? ???? 感光物質(zhì)的電子在未曝光時處于基態(tài) S0 ，基態(tài)的反應(yīng)激活能 EA 大 ，因此反應(yīng)慢。 正性電子束光刻膠 主要為甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮類這三種聚合物。在感光化合物中有時還包括增感劑。 正性紫外光光刻膠
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