微細(xì)加工光刻膠ppt課件-免費(fèi)閱讀
【正文】 通過(guò)正膠的典型反應(yīng)和勢(shì)能曲線，說(shuō)明了光刻膠的光化學(xué)反應(yīng)過(guò)程和增感作用。膠膜厚度的不同還會(huì)影響對(duì)比度。 自動(dòng)顯影檢查設(shè)備 去膠 刻蝕 后烘（硬烘、堅(jiān)膜） 目的是使膠膜硬化，提高其在后續(xù)工序中的耐腐蝕性。 7 、顯影 將曝光后的硅片用顯影液浸泡或噴霧處理。也可利用前面的氧化或擴(kuò)散工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)。 感光分子吸收 λ= 300 nm 的光能（ 88 Kcal）后，電子躍遷到第二激發(fā)態(tài) S2 ，此態(tài)的谷底勢(shì)能恰好與 S1 態(tài)當(dāng) RN N2 分解時(shí)的勢(shì)能相當(dāng)，且 S2 與 S1 態(tài)的曲線在圖左側(cè)有相交之處，因此電子可從 S2 態(tài)躍遷到 S1 態(tài)并立即反應(yīng)。主要缺點(diǎn)是靈敏度低，此外在高溫下易流動(dòng)，耐干法刻蝕性差。 光刻膠通常有三種成分：感光化合物、基體材料 和 溶劑。 ?D0 D100 11000lg DD????? ???? 光進(jìn)入光刻膠后，其強(qiáng)度按下式衰減 0( ) e zI z I ???式中， α為光刻膠的光吸收系數(shù)?？梢?jiàn)， 若靈敏度越高（即 S 越?。瑒t Wmin 就越大，分辨率就越差。但靈敏度太高會(huì)影響分辨率。第 8 章 光刻膠 一、光刻膠的類型 凡是在能量束（光束、電子束、離子束等）的照射下，以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為 負(fù)性光刻膠 ，簡(jiǎn)稱 負(fù)膠 。 光刻膠的特性 靈敏度曲線（對(duì)比度曲線） 0 D0 入射劑量（ C/cm2） 未反應(yīng)的歸一化膜厚 D100 分辨率 下面討論分辨率與靈敏度的關(guān)系。 例如，負(fù)性電子束光刻膠 COP 的 S = 106 C/cm2，則其 Wmin = ?m 。設(shè) TR 為光刻膠的厚度，則可定義光刻膠的 光吸收率 為 ? ?R R000 R R( ) d 1e1TTI I z zAI T T???? ?? ? ?? 可以證明，對(duì)比度 與光吸收系數(shù) α及光刻膠厚度 TR 之間有如下關(guān)系 R1T? ??? ? 減小光吸收系數(shù)與膠膜厚度有利于提高對(duì)比度。在感光化合物中有
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