魯科版化學必修1硅、無機非金屬材料同步測試1-wenkub
2022-12-17 00:19:12 本頁面
【正文】 aO 答案： C 3．下列材料的特性及用途說法錯誤的是 ( ) A．氧化鋁陶瓷具有兩性，不可用來制造人造牙齒 B．氮化硅陶瓷耐高溫且不易傳熱，可用來制造柴油機 C．光導纖維導光的能力很強，是非常好的通訊材料 D．壓電陶瓷十分敏感，可以將極其微弱的機械振動轉(zhuǎn)換成電信號，可用來制壓電地震儀 解析： 對常見新型無機非金屬材料的性能及用途應作了解。2SiO23H2O B．鎂橄欖石 Mg2SiO4可表示為： 2MgO地球的表層大多是巖石，而大多數(shù)巖石的主要成分都是硅酸鹽，下面用鹽或氧化物的形式表示巖石的組成，其中不正確的是 ( ) A．鈣沸石 Ca(Al2Si3O10) 第四章 元素與材料世界 第一節(jié) 硅、無機非金屬材料 1． (20213H2O 表示為： CaOSiO2 C．北京奧運會獎牌所用玉的主要成分透閃石 [Ca2Mg5Si8O22(OH)2]表示為： 2CaSiO32H2O 解析： 2CaSiO3 特性：能耐高溫、強度高，具有電學特性，光學特性，具有生物功能。SiO 2CaO 答案： D 5．晶體硅和 二氧化硅具有相似的晶體結(jié)構(gòu)，則下列說法不正確的是 ( ) A．晶體硅和二氧化硅都具有較高的熔點 B．晶體硅和二氧化硅都具有較大的硬度 C．晶體硅和二氧化硅都可用作半導體材料 D．晶體硅和二氧化硅都可用于制光導纖維 分析： 掌握 Si 和 SiO2的性質(zhì)和用途是解本題的關(guān)鍵。月球表面的不同巖石富含 硅、鋁、鉀、磷、鈾、釷和稀 土元素。 解析： 硅能與 F HF、強堿常 溫下反應，在加熱或高溫條件下也能與 Cl O H2發(fā)生反應 答案： C 10. 晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下 ： ① 高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅 ② 粗硅與干 燥 HCl 氣體反應制得 SiHCl3： Si＋ 3HCl=====300℃ SiHCl3＋ H2 ③ SiHCl3與過量 H2在 1 000～ 1 100℃ 反應制得純硅 已知 SiHCl3能與 H2O強烈反應，在空氣中易自燃 。 裝置 C 中的燒瓶需要加熱，其目的是 ________________________________________。 a． 碘水 b． 氯水 c． NaOH 溶液 d． KSCN 溶液 e． Na2SO3溶液 解析： (1)根據(jù)題給信息，粗硅可以用碳還原二氧化硅的辦法來制得，故反應方程式為 SiO2＋ 2C高溫 ,Si＋ 2CO↑ ； (2)因 HCl易溶于水，而 SiHCl3與 H2O強烈反應，故提純 SiHCl3的方法只能在無水的條件下 利用它們的沸點不同，采用分餾的方法進行； (3)① 因 SiHCl3與水強烈反應，故 A中產(chǎn)生的 H2必須干燥，故 B中的液體一定為濃 H2SO4，且 C 中燒瓶需加熱，其目的是使 SiHCl3氣化，加快與 H2的反應。 答案 ： (1)SiO2＋ 2C=====高溫 Si＋ 2CO↑ (2)分餾 (或蒸餾 ) (3)① 濃硫酸 使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化 ② 有固體物質(zhì)生成 在反應溫度下，普通玻璃會軟化 SiHCl3＋ H2 =====1 000～ 1 100℃ Si＋ 3HCl ③ 排盡裝置中的空氣 ④ bd 或 c 11．已知 A、 B、 C 三種元素均為短周期元素，它們的原子序數(shù)關(guān)系為 CBA。 (3)用化學方程式說明 A 的最高價含氧酸的酸性比 B 的最高價含氧酸的酸性強________________________________________________________________________； (4)已知 BC4不能在空氣中燃燒，理由是 ___________________________________________。 A 為地殼中含量僅次于氧的非金屬元素的單質(zhì)，其晶體結(jié)構(gòu)與金剛石相似。 解析： 由 “ A 為地殼中含最 僅次于氧的非金屬單質(zhì)，其晶體結(jié)構(gòu)與金剛石相似 ” ，推知 A為 Si，根據(jù) B―― →加碳高溫 A＋ E， B―― →加氧化鈣 高溫 C， B ―― →加氫氧化鈉 加熱 D＋ H2O，不難推知 B為 SiO2， C為 CaSiO3，D為 Na2SiO3， E為 CO。 相關(guān)信息如下： a．四氯化硅遇水極易水解； b．硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物； c．有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表： 物質(zhì) SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5 沸點 /℃ [ － 315 － 熔點 /℃ － － － － － 升華溫度 /℃ － － 180 300 162 請回答下列問題： (1)寫出裝置 A 中發(fā)生反應的離子方程式 ________________________。 ② 某同學稱取 g殘留物，經(jīng)預處理后在容量瓶中配制成 100 mL溶液，移取 mL試樣溶液，用 10－ 2 mol (1)書寫的是離子方程式， B裝置中盛放飽和食鹽水除去 HCl， C裝置中用濃 H2SO4除水以制得干燥純凈的 Cl2； (2)A中用恒壓分液漏斗平衡壓強，使液體順利流下； h瓶用冷卻液冷卻主要目的是得到 SiCl4； (3)精餾粗產(chǎn)物得到 SiCl4，溫度應控制在 ℃ ，此時 BCl3變?yōu)闅怏w，但 AlCl FeCl PCl5均殘留在瓶中，所以殘留雜質(zhì)元素是 Fe、 Al、 P、 Cl， (4)中 ① 滴定時 MnO－4是自身指示劑，終點時變?yōu)樽霞t色且 30 s內(nèi)不變即可讀數(shù)； ② 中 5Fe2＋ ～ MnO－4 5 1 x n n＝ 10－ 2 mol 答案： (1)MnO2＋ 4H＋ ＋ 2Cl－ =====△ Mn2＋ ＋ Cl2↑ ＋ 2H2O (2)平衡壓強，使液體順利流下 濃硫酸 使 SiCl4冷凝 (3)Al、 P、 Cl (4)① 否 KMnO4溶液自身可作指示劑 ② % 1. 城市面貌一天比一天得到改善，但在建設的同時，也給城市環(huán)境帶來了一場嚴重的環(huán)境災難 —— 石棉污染，吸入石棉纖維者易患肺癌。一些專家認為，出現(xiàn)這種現(xiàn)象的根源是大佛所在地自然環(huán)境濕度大、降水 豐沛，容易產(chǎn)生風化現(xiàn)象，以及大佛面部微生物的新陳代謝和酸雨等各種因素的綜合反應。 答案 ： C 5．某無色溶液能與硅作用生成 H2，則溶液中不可能大量共存的離子組是 ( ) A． H＋ 、 Ba2＋ 、 Mg2＋ 、 Cl－ B． Cl－ 、 CO2－3 、 Cu2＋ 、 Mg2＋ C． NO－3 、 SO2－4 、 K＋ 、 Na＋ D． NO－3 、 OH－ 、 Ba2＋ 、 Cl－ 解析 ：與硅作用生成 H2，溶液為強堿性， A中 H＋ 不能大量共存； B中 Cu2＋ 、 Mg2＋ 與 CO2－3 、OH－ 不能大量共存。xH2O表示 B．二氧化硅是硅芯片的主要成分
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