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2023-07-10 19:45:49 本頁面
【正文】 電池片（每片幾個點）Helios應(yīng)用范圍 硅片 鍍膜后 印刷后 模組示例單晶絨面SiN薄膜硅片. 20 個點斜線掃描測量膜厚折射率顯示 單晶硅片測量數(shù)據(jù)膜厚和折射率SiN薄膜多晶絨面硅片，20個點斜線掃描測量，反射率光譜曲線，折射率光譜曲線和測量數(shù)據(jù)優(yōu)化你的工藝參數(shù)電池片測試/分選機和顏色測試是最終的產(chǎn)品測試，這只是判斷電池片合格率，但是并不能提供直接的信息來判斷工藝參數(shù)是否超出了預(yù)期的設(shè)置優(yōu)化生產(chǎn)線工藝參數(shù)是，監(jiān)控并優(yōu)化產(chǎn)線上的每一個工站的參數(shù)，達到控制和優(yōu)化整條生產(chǎn)線的效果。比如，鍍膜的不均勻性，鍍膜機參數(shù)漂移，硅片切割工藝和制絨工藝上的不均一性都會影響電池的質(zhì)量和效率。而工藝參數(shù)的控制比如氣壓和溫度等，對電池片AR膜膜厚，顏色和光學(xué)常數(shù)namp。k 有很大的影響。 測量示例SiN層AR膜膜厚分布HeliosInlinetn 集錦晶硅測量– 膜厚：d– 折射率測量：N（光譜）產(chǎn)品線使用/Ramp。Helios inlinetn的設(shè)計目的是用來管控電池片生產(chǎn)整個工藝中最重要的兩個工藝參數(shù)：
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