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正文內(nèi)容

生產(chǎn)工藝流程與流程圖匯編5-wenkub

2023-05-03 23:16:44 本頁面
 

【正文】 D 2003,02中國半導體設備技術水平與國外存在較大的差距,在半導體關鍵設備上落后于國際水平10——15年。 表8 國產(chǎn)半導體專用設備的研制過程時間技術水平典型產(chǎn)品50年代中后期70年代末期φ50mm,8μm線寬年產(chǎn)300萬塊集成電路成套生產(chǎn)線設備;多管擴散爐、自動勻速膠機、自動顯影機、半自動光刻機、電子束蒸發(fā)臺、四頭精縮機、凈化設備、檢測儀器、光學圖形發(fā)生器、600kev離子注入機、液相外延爐80年代初期80年代末期3~4英寸、3~5微米線寬φ75線設備改進提高項目及工藝設備項目25項,在線檢測設備15項90年代初期90年代末5寸、2
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