【正文】 kened the signal on the plate. Japan with modern science has kodak way to accelerate the ageing of the CD, the service life of the disc read only type of about 209 years. CD39。母盤對周圍環(huán)境的潔凈度、濕度、 酸堿度、光照等都有著嚴格的要求，這就要求母盤的生產(chǎn)環(huán)境必須是嚴格密封的，自動化要求非常高，不能有人為的參與。光盤的優(yōu)勢還在于他的存取速度快、保存管理方便等特點。 它的容量也由 700MB 擴展到現(xiàn)在的 50GB，由 VCD 發(fā)展為 DVD，近來又制造出藍光光盤，來滿足人們對高清影視和大容量可移動設備的需求。 光盤的最重要特點是可靠性高。日本 TDK 公司不久前成功地在可擦寫藍光光盤 (Blu— rayDisc)上實現(xiàn)了 216Mbit／秒的刻錄速度，相當于 6 倍速刻錄，在保存特性方面，也已確 認在溫度為 80 度、濕度為 85％的環(huán)境下刻錄 150 小時，其抖動值仍然保持在 7％左右。所以制造和生產(chǎn)母盤的自動化設備成為我的研究課題。s advantages are still lies in his access speed and conservation management is convenient wait for a characteristic. Japan TDK pany not long ago successfully on removable bluray disc (BlurayDisc) to 216 Mbit/Sec burn rate, about 6 times the speed burn, in the preservation characteristics, has also confirmed in the temperature of 80 degrees, humidity is 85% under the environment of the burn 150 hours, the jitter values remain at around 7%. To sum up the superiority of the CD and wide popularity, with the mass production of the it is inevitable. And manufacturing the motherboard CD also became an irreplaceable must taste, the production quality motherboard will directly affect the quality of the CD. The surrounding environment of motherboard cleanliness, humidity, acidity, light and so have the strict requirements, which requires the motherboard production environment must be strictly sealed, Automation require very high, not someone for participation. So manufacture and produce the motherboard automation equipment to be my research subject. Key words: CD， Motherboard， Jitter Values IV 目 錄 摘要 ………………………………………………………………………… ..………… .IV Abstract …………………………………………………………………………… .… ..V 修改意見 ........................................... 錯誤 !未定義書簽。另一種廣泛使用的光刻膠技術(shù)，工藝成熟，刻錄的坑型規(guī)范、清晰對 DVD 來說，能達到較好的抖晃 參數(shù)，另外通過改 進工藝，已經(jīng)能夠很好的控制云紋的產(chǎn)生。制造工藝包括玻璃基片清洗、涂光刻材料、烘干、冷卻、激光刻錄、顯影、形成金屬鎳導電層、電鑄、壓模與玻璃分離、壓模表面化學處理和清洗、涂保護膠、烘干、拋光沖孔。只要將準備好的專用鎳基毛坯盤放入設備，直接送到 LBR 去刻錄，顯影、濺鍍工藝之后也不需要送去電鑄，僅僅沖中心孔就完成了母盤的制造。每個 ATIP 幀由 42 位組成 ，它的分布按循序從高到低是：同步占 4 位，分占 8 位，秒占 8 位，幀占 8 位，循環(huán)冗余碼占 14 位。橙皮書規(guī)定，將占用信息區(qū)中一些 ATIP 時間碼之中的“分”、“秒”、“幀”信息部分來存放專用信息和附加信息。 道間距和速度； ATIP 開始時間和 ATIP 的起始半徑的位置； ATIP 結(jié)束時間和 ATIP 的結(jié)束半徑的位置； 導入?yún)^(qū)開始時間（ SLI） 。 在光盤上， ATIP 時間碼貫穿了各個區(qū)域，其中某些區(qū)域還包括專用信息和附加信 息等，由此組成了整個信息區(qū)。除了ATIP 時間碼，信息區(qū)中還包括了一些專用信息和附加信息。 導出區(qū)緊接在可記錄節(jié)目區(qū)之后，因此可根據(jù)盤片的容量要求來確定導出區(qū) （或附加容量和導出區(qū)）的開始時間。 部分專用信息和附加信息應由光盤系統(tǒng)（包括盤片制作、寫入和讀出設備制造）的設計人員確定，另一部分信息是由母盤的設計人員來確定的。專用信息 3，它的內(nèi)容為， F9： D9： F4，這個那個信息為導出區(qū)開始時間。 要建立一個諧振腔。亮度高，功率密度特別大。 而激光器 選擇 的主要指標有： 激光波長，母盤刻錄激光的波長必須考慮對刻錄光斑尺寸的影響，同時又要對光刻膠曝光、顯影敏感，因此必須選用短波長的藍紫光波段或紫外光波段。 功率，母盤刻錄激光器的功率一般為毫瓦級。當然輸出功率要求長期穩(wěn)定。 激光束模式，要求橫模，即 TEM00模。 偏振態(tài)，要求線偏振光。 噪聲，要求低噪聲。 壽命，氬離子激光器和 SHG 激光器在進行刻錄工作前必須預熱一段時間，如果不在刻錄工作狀態(tài)也必須以低功率常開，因此使用壽命受到影響。半導體激光器的平均壽命約為 10000 小時。半導體激光器的缺點是光束截面呈橢圓形，光束發(fā)散角大，需要整形濾波。由兩個共軸的折射曲面構(gòu)成的光學系統(tǒng)稱為透鏡。當平行于透鏡光軸的平行光束通過薄透鏡折射會聚成一點，稱為焦點。 3： 棱鏡， 當光從光密介質(zhì)向光疏介質(zhì)折射，并且入射角超過臨界角時，發(fā)生全發(fā)射。 4： 偏振分光棱鏡，它是由兩個直角棱鏡粘合而成的立方體。當￠ =45 度時出射光相對入射光的振動方向轉(zhuǎn)了 90度。常用的聲光介質(zhì)有鉬酸鉛晶體、氧化碲晶體和熔石英等。通過改變超聲波的頻率就可以改變偏轉(zhuǎn)角，從而達到控制偏轉(zhuǎn)激光束方向的目的。調(diào)制信號的占空比變化也可以調(diào)節(jié)衍射光（刻錄激光）的占空比變化，以微調(diào)刻錄凹坑的長度。 四、顯微鏡物鏡，母盤刻錄系統(tǒng)的光學系統(tǒng)最終要在光刻膠玻璃 母盤表面形成直徑為微米級或亞微米級的聚焦光斑，顯微物鏡則是光學系統(tǒng)中最重要的元件之一。數(shù)值孔徑也可以近似表示為通過物鏡的光束直徑除以物鏡的焦距。如果光學系統(tǒng)中使用不同的波長的激光，如有的系統(tǒng)使用氦氖激光作聚焦伺服光路，由于介質(zhì)折射率隨光的不同波長的變化所引起的相差稱為色差。這種復雜的設計和裝校使物 鏡變得十分貴重。其優(yōu)點符合光盤系列的基本標準，直徑為 120mm，厚度為 ，數(shù)據(jù)格式與光盤播放器的相互可以兼容 。所有的可刻錄光盤都是先將各種預格式信息、節(jié)目目錄、數(shù)據(jù)和軟件刻錄在母盤上，然后通過模壓基片、生成記錄層和濺射金屬反射層而制成。同時母盤臺的擺動幅度也比基盤預刻槽的擺動幅度略大一些。由此可見，母盤的制作難度大于一般其他母盤的制 作難度。 現(xiàn)在國內(nèi)有很多企業(yè)（東莞宏威數(shù)碼機械有限公司、上海新匯時代光盤技術(shù)有限公司等）已經(jīng)建立了一流開發(fā)母盤技術(shù)和產(chǎn)品的工程環(huán)境，采用主流的光刻膠顯影法刻錄預刻槽的技術(shù)線路和高品質(zhì)的化學沉積金屬化工藝，確保形狀較好的預刻槽。產(chǎn)品質(zhì)量能否持續(xù)穩(wěn)定是十分重要的前期技術(shù)準備工作。由于純凈水質(zhì)量及生產(chǎn)線內(nèi)的溫度，濕度達不到要求而出現(xiàn)母盤制作中的質(zhì)量問題。其中有些問題比較明確，找出癥結(jié)比較快。又如濺鍍問題 產(chǎn)生的原因更 多。按照常規(guī)，母盤生產(chǎn)主設備供應商只提出設備的使用條件，設備對水、電、氣的要求，外圍設備的供應商也僅僅對他們所提供的設備負責，他們不一定了解這些設備為母盤生產(chǎn)主設 備配套的技術(shù)要求。因此，嚴謹、周密的總體設計就更為重要了。一個工廠的生產(chǎn)能力直接影響廠房面積、設備類型和數(shù)量的確定。工藝設計和工藝布局是根據(jù)生產(chǎn)能力要求的規(guī)格、年產(chǎn)量，按照母盤生產(chǎn)的工藝流程，參考母盤生產(chǎn)設備的規(guī)格尺寸，確定最佳工藝方案，畫出工藝流程圖和工藝布局圖。 確定生產(chǎn)主設備的類型、數(shù)量。 二、根據(jù)生產(chǎn)設計能力做工藝設計及工藝布局，設計原則。 外圍設備的位置應保證散熱、通風、避開日光照射，北方地區(qū)還應該要防凍。 方便質(zhì)量檢驗，按照母盤生產(chǎn)特點，每次抽檢要有專門的檢驗口，由機器人送到此處，工作人員取的時候比較方便。同時根據(jù)母盤生產(chǎn)的特點，要考慮設備的發(fā)熱情況，既要保證冬天的保暖、防凍，又要照顧到夏季的散熱、冷卻。有的工廠是逐步發(fā) 展的， 每個車間都裝有壓縮機、冷卻系統(tǒng)等，這樣存在超凈等級不同，專業(yè)管理不足，不符合文明生產(chǎn)。雖然一些母盤設備從設計上采取了抗振措施，但是對于激光刻錄是振動越小越好。有的母盤廠就將外圍設備廠房和庫房放在日曬好陽光足的區(qū)域，以至于在盛夏采用人工強制通風降溫還不能滿足要求。 特別重要的設備應該配備不間斷的供電電源。方案 2，穩(wěn)壓器與所帶設備一帶一或一帶三。 管路設計上 要設置旁路能調(diào)節(jié)進水的壓力和流量，在系統(tǒng)的最低點設 置排水口，方便更換冷卻水和清洗管路。 設置冷水機散熱排風管道。母盤生產(chǎn)設備配有水處理設備（這里指的是宏威數(shù)碼的機器） ，水處理設備 是根據(jù)當?shù)氐乃|(zhì)設計出來的，由于中國大陸各地區(qū)的水質(zhì)不同，也可以在它的前面再加一套純水預處理系統(tǒng)。 三、壓縮空氣， 壓縮空氣系統(tǒng)為母盤生產(chǎn)設備中的氣動、真空機構(gòu)提供氣源。下面的公式為壓縮空氣管路壓降計算公式： dP=L 450 P，式中 dP：壓降，巴； L：管路長度，米； Qc：空壓機產(chǎn)氣量，升 /秒； d：管徑，毫米； P： 入口工作壓力，巴。即使更換管路，工程成本也較低。 對于一些工廠分期擴大生產(chǎn)規(guī)模，也可采用局部集中供氣，例如，一個壓縮空氣系統(tǒng)供給十六條母盤線。 另外一點非常重要，是必須保證壓縮空氣的潔凈。需要注意的是，空壓機散熱器處要做好排風管路，使散熱氣的熱量迅速排出，保持室內(nèi)適合的工作溫度，以保證空壓機不會因為過熱使得潤滑油污染整個空氣系統(tǒng)。這里僅根據(jù)多年從事 設計、工藝、設備維修保養(yǎng)經(jīng)驗，介紹母盤生產(chǎn)系統(tǒng)設計中 應注意的各個環(huán)節(jié)，希望能對新廠的建設有一點的幫助?？啼浲瓿芍?，對于玻璃母盤需要立即顯影（ ODC 母盤制造工藝不需要顯影工序），而直接刻錄母盤在顯影之前需要增加兩個工序。玻璃母盤在顯影之后要 進一步用波長 380nm紫外線照射，目的是使電鑄后分離的壓模上殘余的光刻膠易于清洗，也防止濺鍍時光刻膠的交叉鏈接；然后濺鍍一層鎳。 母盤制造的主要工藝流程（指的是玻璃為基盤的母盤自動化生產(chǎn)）如圖 41 所示， 圖 41 母盤生產(chǎn)的工藝流程 一、玻璃基盤上光刻膠的制備， 選擇適當性能的光刻膠，一般可取制作通用DVD盤片的光刻膠。 對光刻膠的堅膜過程進行時間、溫度和均勻性的控裝載白玻璃基 盤 基盤清洗 CAL 液體旋涂 Hard 加熱 冷卻 PR液體旋涂 PR加熱 去 LBR 刻錄 顯影 濺鍍機鍍膜 完成卸盤 制，以提高刻錄和顯影的效果。 二、刻錄 ，將母盤設計得到的各項數(shù)據(jù)作為必要的指令參數(shù)，分別傳遞給信號發(fā)生系統(tǒng)和刻錄控制系統(tǒng)。預刻槽的寬度、槽壁傾斜角及擺動幅度的控制包括一下幾個方面： 調(diào)節(jié)激光刻錄功率和顯影程度以控制預刻槽的寬度，使用原子力顯微鏡檢查槽的寬度。為了檢測預刻槽對可寫入光盤性能的影響可以制作多段不同槽寬的母盤進行實驗。充分顯影可得較大的槽壁傾斜角，但要求該光刻膠經(jīng)得起充分的顯影。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好。注入氬氣到濺鍍腔，這時濺鍍腔的 真空 度降至 ~10E－ 3mbar 范圍，此時對靶材（陰極）和盤片（陽極）之間施以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場中被離子化，產(chǎn)生氬離子及自由電子、在電場的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極（靶材）加速，而自由電子向陽極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原子，因動能轉(zhuǎn)移使更多的氬原子被離子化，最后產(chǎn)生雪崩現(xiàn)象，等離子體持續(xù)自行放電。 如果濺鍍倉的真空度可以達到規(guī)范值，但是無法濺鍍或者濺鍍效果達不到要求，應該考慮電場、磁場或環(huán)境條件（如：氬氣、冷卻水）的原因。 母盤生產(chǎn)線的自動化控制 這是一個自動化的生產(chǎn)系統(tǒng)，它的生產(chǎn)也必須是大批量的生產(chǎn)，所以，在這個設備上，必須可以同