太陽能電池工藝流程培訓課件(已修改)
2025-01-14 16:39 本頁面
【正文】 太陽能電池工藝流程 制絨清洗 擴散 刻蝕 去 PSG PECVD 絲網(wǎng)印刷 燒結(jié) 測試分檔 分選 包裝 1 制絨和清洗 2 概 述 形成起伏不平的絨面，增加硅片對 太陽光的吸收 去除硅片表面的機械損傷層 清除表面油污和金屬雜質(zhì) 硅片表面處理的目的： 3 硅片表面的機械損傷層 硅片 機械損傷層 4 制絨：表面織構(gòu)化 單晶硅片表面的 金字塔狀絨面 0300 400 500 600 700 800 900 1000 1100Wavelength (nm)Reflectancesmooth texture單晶硅片表面反射率 5 絨面腐蝕原理 利用低濃度堿溶液對晶體硅在不同晶體取向上具有不同腐蝕速率的各向異性腐蝕特性，在硅片表面腐蝕形成角錐體密布的表面形貌 ，就稱為表面織構(gòu)化。角錐體四面全是由〈 111〉面包圍形成。 反應(yīng)式為： Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 ↑ 6 絨面光學原理 ?制備絨面的目的： 減少光的反射率，提高短路電流（ Isc），最終提高電池的光電轉(zhuǎn)換效率。 ?陷光原理 ：當光入射到一定角度的斜面，光會反射到另一角度的斜面，形成二次或者多次吸收，從而增加吸收率。 7 絨面光學原理 ?陷光原理圖示： 8 影響絨面質(zhì)量的關(guān)鍵因素 1. KOH濃度 2. 異丙醇濃度 3. 制絨槽內(nèi)硅酸鉀的累計量 4. 制絨腐蝕的溫度 5. 制絨腐蝕時間的長短 6. 槽體密封程度、異丙醇的揮發(fā)程度 9 化學清洗原理 ? ? OH2Si FHHF6Si O 2622 ???? HF去除硅片表面氧化層： ? HCl去除硅片表面金屬雜質(zhì)： 鹽酸具有酸和絡(luò)合劑的雙重作用，氯離子能與 Pt 2+、 Au 3+、 Ag +、 Cu +、 Cd 2+、 Hg 2+等金屬離子形成可溶于水的絡(luò)合物。 10 注意事項 KOH、 HCl、 HF都是強腐蝕性的化學藥品，其 固體顆粒、溶液、蒸汽會傷害到人的皮膚、眼睛、 呼吸道，所以操作人員要按照規(guī)定穿戴防護服、 防護面具、防護眼鏡、長袖膠皮手套。一旦有化學 試劑傷害了員工的身體，馬上用純水沖洗 30分鐘， 送醫(yī)院就醫(yī)。 11 擴散 太陽電池制造的核心工序 12 ?擴散的目的：形成 PN結(jié) PN結(jié) —— 太陽電池的心臟 13 １．三氯氧磷（ POCl3）液態(tài)源擴散 ２．噴涂磷酸水溶液后鏈式擴散 ３．絲網(wǎng)印刷磷漿料后鏈式擴散 本公司目前采用的是第一種方法。 太陽電池磷擴散方法 14 清洗 飽和 裝片 送片 擴散
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