手機(jī)外殼陽(yáng)極氧化工藝原理與常見(jiàn)故障分析-文庫(kù)吧
2024-12-25 05:36 本頁(yè)面
【正文】 種發(fā)展有“自催化”作用； (主空洞 )在向膜深處和橫向發(fā)展 ，相鄰主空洞之間互相靠近，主空洞之間的小空洞停止生長(zhǎng)； ，僅沿縱向深入，孔徑固定。此時(shí)，空洞的產(chǎn)生及發(fā)展階段結(jié)束，陽(yáng)極氧化進(jìn)入穩(wěn)態(tài)階段 。 三、硫酸陽(yáng)極氧化： (一 )特性： 與草酸、鉻酸相比、具有以下特點(diǎn)； 溶液穩(wěn)定； 允許雜質(zhì)含量范圍大； 電能消耗少； 操作方便； 成本低； 要求溫度低，須冷凍 . （二）工藝參數(shù)及操作條件： H2SO4： 10%20% 160200g/L AL 3+： 315g/L 溫度：視具體情況而定 15℃ 26℃ 電壓：視具體情況而定 6V、 8V、 10V、 13V、 15V、 17V 時(shí)間：視具體情況而定 10分 50分 攪拌：壓縮空氣攪拌 電源：直流電 /交流電 注意事項(xiàng)： 硫酸電解液的配制； 3/4體積純水 ,并打風(fēng)攪拌； ，并補(bǔ)充純水至規(guī)定體 積 (注意切勿將水加入硫酸中） ； ,OK后即可投入生產(chǎn) 硫酸的純度要求： 最好用試劑，我們通常用 CP（化學(xué)純） 硫酸 。 槽液維護(hù) A、對(duì)槽液要定期進(jìn)行分析，一般只分析游離硫酸和鋁含量。槽液在使用過(guò)程中，游離硫酸濃度會(huì)逐漸下降，而鋁含量上升，當(dāng)游離硫酸濃度降到規(guī)定濃度下限，鋁含量尚未升到上限時(shí)，只需計(jì)量添加硫酸，但當(dāng)鋁含量超過(guò)規(guī)定上限時(shí)，應(yīng)排放部分（ 1/4~1/3）槽液，然后再計(jì)量添加硫酸和去離子水。排放的硫酸溶液可用耐酸泵抽入硫酸脫脂槽內(nèi)二次利用。降低氧化槽內(nèi)的鋁含量也可用硫酸回收設(shè)備。 B、槽液液面上的漂浮物和油 污應(yīng)及時(shí)清除，脫落在槽 液中的鋁工件和雜物應(yīng)及 時(shí)撈起。 C、氧化槽液沉淀物較少，一 般只需一年倒槽清底一 次， 此時(shí)應(yīng)刷洗或更換陰極板 。 (三 )氧化膜的影響因素： 溫度： 一般情況下，電解液溫度控制比較嚴(yán)格，有的需用保持在 177。 1℃ 范圍內(nèi)，溶液溫度高，氧化膜溶解速度大，生成的速度減小，生成的膜疏松。若溫度過(guò)低，氧化膜發(fā)脆易裂。當(dāng)控制溫度 在 1822℃ 時(shí)，得到的氧化膜多孔，吸附性強(qiáng)，富有彈性，抗蝕性好，但耐磨性較差； 電壓： A、電壓高，氧化膜生長(zhǎng)速度提高，孔隙增多，易染色，
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