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spc技術原理與基本概念(已改無錯字)

2023-03-11 14:40:34 本頁面
  

【正文】 控制限的 中間 1/3的區(qū)域內 , 大約 1/3的點落在其外的 2/3的區(qū)域; 1/20的 點應落在控制限較近之處 。 c 如果顯著多余 2/3以上的描點落在離 R很近之處 ( 對于 25子組 , 如果超過 90%的點落在控制限的 1/3區(qū)域 ) , 則應對下列情況的 一種或更多進行調查: c1 控制限計算錯或描點描錯 c2 過程或取樣方法被分層 , 每個子組系統(tǒng)化包含了從兩個或 多個具有完全不同的過程均值的過程流的測量值 ( 如:從 幾組軸中 , 每組抽一根來測取數(shù)據(jù) 。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠的幾個子組更改刪除) d 如果顯著少余 2/3以上的描點落在離 X很近之處(對于 25子組, 如 果有 40%的點落在控制限的 1/3區(qū)域),則應對下列情況的一 種或更多進行調查: d1 控制限計算錯或描點描錯 。 d2 過程或取樣方法造成連續(xù)的分組中包含了從兩個或多個不 同的過程流的測量值(這可能是由于對可調整的過程進行 過度 控制造成的,這里過程改變是對過程數(shù)據(jù)中隨機波 動的響應)。 注:如果存在幾個過程流,應分別識別和追蹤。 UCL X LCL UCL X LCL 均值失控的過程(點離過程均值太近) 均值失控的過程(點離控制限太近) 35 識別并標注所有特殊原因(均值圖) a 對于均值數(shù)據(jù)內每一個顯示處于失控狀態(tài)的條件進行一次過 程操作分析,從而確定產(chǎn)生特殊原因的理由,糾正該狀態(tài), 防止再發(fā)生。 b 應及時分析問題,例如:出現(xiàn)一個超出控制限的點就立即開 始分析過程原因。 36 重新計算控制限(均值圖) 在進行首次過程研究或重新評定過程能力時,要排除已發(fā)現(xiàn) 并解決了的特殊原因的任何失控點,然后重新計算并描畫過程 均值 X 和控制限,使所有點均處于受控狀態(tài)。 37 為了繼續(xù)進行控制延長控制限 a 當首批數(shù)據(jù)都在試驗控制限之內(即控制限確定后),延長控 制限,將其作為將來的一段時期的控制限。 b 當子組容量變化時,(例如:減少樣本容量,增加抽樣頻率) 應調整中心限和控制限 。方法如下: b 1 估計過程的標準偏差(用 σ? 表示),用 現(xiàn)有的 子組容 量計算: σ? = R/d2 式中 R為子組極差的均值(在極差受控期間), d2 為隨樣本 容量變化的常數(shù),如下表: n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 d2 b –2 按照 新的 子組容量查表得到系數(shù) d2 、 D D4 和 A2,計算新 的極差和控制限: R新 = σ? d2 UCLR= D4 R新 LCLR = D3 R新 UCLX = X+ A2 R新 LCLX = X– A2 R新 將這些控制限畫在控制圖上。 總結:過程異常判斷準則 ? 出現(xiàn)超出控制線的點 ? 存在鏈( Run): – 連續(xù)七個點全在控制限之上或之下, – 連續(xù)七個點上升(后點等于或大于前點)或下降 ? 任何其他明顯非隨機的圖形,例如: – 顯著多于 2/3以上的點落在均值很近之處( 25組有超過 90%的點落在控制限 1/3區(qū)域) – 顯著少于 2/3以上的點落在均值很近之處( 25組有等于或少于 40%的點落在控制限 1/3區(qū)域) 以下控制圖理論為選學內容 根據(jù)時間確定 均值和標準差圖( Xs圖) 一般來講 , 當出現(xiàn)下列一種或多種情況時用 S圖代替 R圖: a 數(shù)據(jù)由計算機按設定時序記錄和 /或描圖的 , 因 s的計算程序 容易集成化 。 b 使用的子組樣本容量較大 , 更有效的變差量度是合適的 c 由于容量大 , 計算比較方便時 。 11 數(shù)據(jù)的收集(基本同 XR圖) 111 如果原始數(shù)據(jù)量大,常將他們記錄于單獨的數(shù)據(jù)表,計算 出 X 和 s 112 計算每一子組的標準差 s = ∑ (Xi–X )178。 n – 1 式中: Xi, X; N 分別代表單值、均值和樣本容量。 注: s 圖的刻度尺寸應與相應的 X圖的相同。 12 計算控制限 121 均值的上下限 USLX = X+ A3S LSLX =X A3S 122 計算標準差的控制限 LSLS = B4S LSLS = B3S 注:式中 S 為各子組樣本標準差的均值 , B B A3為隨樣本容 量變化的常數(shù)。見下表: 注: 在樣本容量低于 6時,沒有標準差的下控制限。 13 過程控制的分析(同 XR) 14 過程能力的分析(同 XR) 估計過程標準差: σ = S / C4= σ S / C4 n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 B4 B3 * * * * A3 ? ? 式中: S 是樣本標準差的均值(標準差受控時的), C4為隨樣本容量變化的常數(shù)。見下表: 當需要計算過程能力時;將 σ 帶入 XR圖 42的公式即可。 15 過程能力評價(同 XR 圖的 43) n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 C4 8 6 1 0 2 9 5 9 3 ? 中位數(shù)極差圖( X R) 中位數(shù)圖易于使用和計算,但統(tǒng)計結果不精確 可用來對幾個過程的輸出或一個過程的不同階段的輸出進行比較 1 數(shù)據(jù)的收集 2 11 一般情況,中位數(shù)圖用于子組的樣本容量小于或等于 10的情況, 3 當子組樣本容量為偶數(shù)時,中位數(shù)是中間兩個數(shù)的均值。 4 12 只要描一張圖,刻度設置為下列的較大者: 5 a 產(chǎn)品規(guī)范容差加上允許的超出規(guī)范的讀數(shù) 6 b 測量值的最大值與最小值之差的 2倍。 7 c 刻度應與量具一致。 8 13 將每個子組的單值描在圖中一條垂直線上,圈上子組的中位數(shù), 9 并連接起來。 14 將每個子組的中位數(shù) ?X和極差 R填入數(shù)據(jù)表 . 2 控制限的計算 ? 21 計算子組中位數(shù)的均值,并在圖上畫上這條線作為中位線, 將其記為 ?X ; 22 計算極差的平均值,記為 R; 23 計算極差和中位數(shù)的上下控制限 : USLR=D4R USL X = X + A2 R LSLR=D3R LSL X = X A2 R 式中: D D4 和 A2 是隨樣本容量變化的常數(shù),見下表: ? ? ? ? ? ? ? n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 D4 D3 * * * * * A2 ? 注:對于樣本容量小于 7時,沒有極差的控制下限。 3 過程控制分析(同 XR) 4 31 凡是超出控制限的點,連成鏈或形成某種趨勢的都必須進行特 5 殊原因的分析,采取適當?shù)拇胧?。 6 32 畫一個窄的垂直框標注超過極差控制限的子組。 4 過程能力的分析 (同 XR) 5 估計過程標準偏差: 6 δ= R / d2 7 注:只有中位數(shù)和極差處于受控狀態(tài),才可用 δ的估計值來評價過程 8 能力。 5 中位數(shù)圖的替代方法 6 在已確定了中位數(shù)圖的控制限后,可以利用以下方法將中位數(shù)圖的制作過程簡化 : 7 51 確定圖樣 8 使用一個其刻度值的增量與所使用的量具的刻度值一樣的圖 9 (在產(chǎn)品規(guī)范值內至少有 20個刻度值),并劃上中位數(shù)的中心線和控制限。 10 52 制作極差的控制圖片 11 在一張透明的膠片標上極差的控制限。 12 53 描點 13 操作者將每個單值的點標在中位數(shù)圖上。 14 54 找出超過極差控制限的點 15 操作者與每個子組的最大標記點和最小標記點進行比較,用窄垂直框圈上超出膠片控制限的子組。 16 55 標中位數(shù) 操作者將每個子組的中位數(shù)圈出,并標注任何一個超出控制限 的中位數(shù)。 56 改善 操作者對超出控制限的極差或中位數(shù)采取適當?shù)拇胧┻M行改善,或通知管理人員。 單值和移動極差圖( X—MR) 用途 測量費用很大時,(例如破壞性實驗)或是當任何時刻點的輸出 性質比較一致時(例如:化學溶液的 PH值)。 11 移動圖的三中用法: a 單值 b 移動組 c 固定子組 數(shù)據(jù)收集 ( 基本同 XR ) 21 在數(shù)據(jù)圖上 , 從左到右記錄單值的讀數(shù) 。 22 計算單值間的移動極差 ( MR) , 通常是記錄每對連續(xù)讀數(shù)間 的差值 。 23 單值圖 ( X) 圖的刻度按下列最大者選?。? a 產(chǎn)品規(guī)范容差加上允許的超出規(guī)范的讀數(shù) 。 b 單值的最大值與最小值之差的 2倍 。 24 移動極差圖 ( MR) 的刻度間隔與 X 圖一致 。 3 計算控制限 X=( X1+X2+… +Xk) / K R= (MR1+MR2+… +MRk)/ (K1) USLMR=D4R LSLMR=D3R USLX=X+E2R LSLX=XE2R 注:式中 R 為移動極差, X 是過程均值, D D3 、 E2是隨樣本 容量變化的常數(shù)。見下表: 4 過程
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