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正文內(nèi)容

機(jī)械密封沖洗方案-api682-閱讀頁

2025-05-19 06:01本頁面
  

【正文】 液儲(chǔ)罐提供清潔液體給密封腔,循環(huán)由內(nèi)部輸液環(huán)完成。原因: 隔離工藝流體,零工藝排放。維護(hù):管網(wǎng)對在最高位的儲(chǔ)液罐必須自帶開孔。13. 沖洗方案53B方案: 由外部管道系統(tǒng)為加壓雙端面密封裝置的外側(cè)密封提供液體,預(yù)先加了壓的氣囊蓄壓器提供壓力給循環(huán)系統(tǒng),流動(dòng)由內(nèi)部輸液環(huán)來保持,循環(huán)系統(tǒng)中的熱量由空氣冷卻或水冷卻熱交換器除去。場合: 應(yīng)用于雙端面承壓密封(雙重),高蒸汽壓流體,輕質(zhì)烴,危險(xiǎn)/有毒流體,傳熱流體,臟、腐蝕和聚合流體,維護(hù):啟動(dòng)前管網(wǎng)必須全部開孔,一直對儲(chǔ)蓄器加壓,通常用充氣的方法,阻隔流體必須和工藝流體相容,經(jīng)常監(jiān)控?fù)醢鍓毫?,?dāng)壓力降低時(shí),手動(dòng)增加阻隔流體。原因:分離工藝流體,零流程排放,比53A方案壓力高。場合: 應(yīng)用于雙端面承壓密封(雙重),高蒸汽壓流體,輕質(zhì)烴,危險(xiǎn)/有毒流體,傳熱流體,臟/腐蝕性或聚合流體,混和器/攪拌器維護(hù):啟動(dòng)前管網(wǎng)必須全部開孔,循環(huán)系統(tǒng)必須一直受壓或 ,阻隔流體必須和工藝流體相容,循環(huán)系統(tǒng)液位顯示儀能顯示內(nèi)側(cè)和外側(cè)密封的泄漏。原因:防止固體在機(jī)封的大氣端集結(jié),配合小間隙節(jié)流襯套使用。場合:用于單端面機(jī)封,氧化流體,可成焦炭流體、熱烴,結(jié)晶流體、鹽析流體,低于32176。C)維護(hù):冷卻進(jìn)口應(yīng)在壓蓋頂端,出口或排水口應(yīng)在底端,冷卻壓力應(yīng)限制在3psi(),或再低一點(diǎn),在機(jī)封的大氣端,用節(jié)流墊引導(dǎo)冷卻流體流向密封排水口,經(jīng)常監(jiān)控、查看閥門是否關(guān)閉,管路是否堵塞,以及汽水分離口的狀況。機(jī)封在大氣端,帶泄漏檢查的外部排水,原因:單獨(dú)使用或與62方案一起使用,用于間隙很小的節(jié)流襯套,用于外部場所的單端面機(jī)封,場合:流程泄漏或冷卻流體的泄漏收集,主機(jī)封的安全指示儀。持續(xù)向液體回收系統(tǒng)排水,在液位開關(guān)下游的限流孔板(一般為1/4)必須是垂直方向,從溢流腔出來旁通管,必須再進(jìn)入限流孔板下面。18. 沖洗方案72方案:非承壓緩釋器氣體控制系統(tǒng),10
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