工科物理實(shí)驗(yàn)鍍膜ppt課件-閱讀頁
2025-05-14 01:06本頁面
【正文】 2 、在鍍膜過程中 ,相鄰兩次濺射時(shí)間少于30s,使沉積時(shí)間實(shí)際上不是所要求的時(shí)間 ,從而影響計(jì)算結(jié)果 ,導(dǎo)致誤差 .結(jié)論n 通過對實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的分析 ,在制備金屬膜時(shí) ,相鄰兩次濺射時(shí)間間隔不能少于 不能使用 .n 通過對 實(shí)驗(yàn)結(jié)果的分析 ,可知在鍍膜時(shí) ,提高薄膜沉積速率的方法 :一是增大濺射電流 ,但不應(yīng)超過 12mA,以免燒壞設(shè)備 。二是增大濺射電流 ,但也不宜過大 ,因?yàn)榻鸢泻凸ぷ髋_(tái)之間的距離應(yīng)保持在 40~45mm,因此 ,陰極電壓降 不能超過相應(yīng)的范圍 ,即濺射電流不能過大 .n 薄膜計(jì)算經(jīng)驗(yàn)公式 :n 沉積速率 :等離子體輝光放電中的電位隨空間位置的變化關(guān)系
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