聲表產(chǎn)品生產(chǎn)制作工藝介紹-在線瀏覽
2025-02-07 15:58本頁面
【正文】 的加工粗糙度 碳化硅規(guī)格號 100 120 180 240 W28 W14 1000 2023 粒度尺寸范圍 160 125 80 63 2820 1410 晶片粗糙度 7 ≥5 ≥3 13 金勝 35 — 水晶 : 其他 DQ備注 晶片背面粗糙度數(shù)值為 LN晶片實測典型值。 四 .聲表面波器件制作工藝流程 基 片清洗 鍍金屬膜 涂膠 曝光 顯影 腐蝕 探針測試 涂膠 曝光 顯影 鍍金屬膜 剝離 鍍保護膜 后工序 濕法工藝 ① .鍍膜 鋁 晶片 鋁 晶片 光刻膠 ② .涂光刻膠 ③ .曝光 UV 光 光刻膠 鋁 晶片 ④ .顯影 鋁 晶片 光刻膠 ⑤ .刻蝕 光刻膠 鋁 晶片 ⑥ .去膠 鋁 晶片 B、剝離工藝 ① .涂光刻膠 光刻膠 晶片 ② .曝光 光刻膠 晶片 UV 光 ③ .顯影 光刻膠 晶片 ④ .鍍膜 光刻膠 晶片 鋁 ⑤ .去膠 鋁 晶片 制作完成圖形 主要工藝－清洗 全自動清洗機 STANGL精清洗系統(tǒng) 系統(tǒng)精清洗部分由以下構(gòu)成： RBS1槽、 RBS2槽、溢流清洗槽、 QDR1槽、 QDR2槽、兆聲清洗槽、甩干機。 該系統(tǒng)專用于 Φ3″ 和 Φ4″ 標(biāo)準(zhǔn)晶圓片的清洗，日產(chǎn)量為 300400片 /班（ 8小時）。 1% 片與片： 177。 2% ?鍍層材料 AL、 ALCU2%合金、 TI、 CU ? 產(chǎn)量 3 英寸 36片 /爐 4 英寸 18片 /爐 ? 適用工藝 ? 剝離工藝和濕法工藝 ? 單層和多層鍍膜 主要工藝 — 鍍膜 設(shè)備名稱 : KDF磁控濺射鍍膜機 ? 主要技術(shù)指標(biāo) ? 均勻性 單片 177。 2～ 3%(sio2) 片與片 177。 5～ 8% (SIO2) 批與批 177。 5～ 8% (SIO2) ? 鍍層材料 AL、 ALCU2%合金、 TI ? 產(chǎn)量 3英寸 16片 /爐、 4英寸 9片 /爐 ?適用工藝 ? 濕法工藝 ? 單層金屬膜和 SIO2保護膜 主要工藝 — 鍍膜
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