等離子體聚合ppt課件-在線瀏覽
2025-06-19 18:37本頁(yè)面
【正文】 等離子體。 1 低溫等離子體聚合的分類 低溫等離子體聚合 等離子體聚合 等離子體引發(fā)聚合 等離子表面處理 聚合性等離子體反應(yīng) 非聚合性等離子體反應(yīng) 2 等離子體聚合 等離子聚合 ： 利用等離子體中的電子、粒子、自由基、以及其他激發(fā)態(tài)分子等活性粒子使單體聚合的方法。 等離子體聚合的特點(diǎn) ⑴ 適用的單體范圍：幾乎所有的有機(jī)化合物或有機(jī)金屬化合物都可以進(jìn)行聚合； ⑵ 聚合過(guò)程的可控性； ⑶ 聚合機(jī)理和過(guò)程極其復(fù)雜。 ② 生成的聚合物膜具有高密度網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，且網(wǎng)絡(luò)的大小和支化度在某種程度上可以控制，膜的機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性很好。 優(yōu)點(diǎn) 缺點(diǎn) 1）易獲得無(wú)針孔的薄膜 2）可制得具有新型結(jié)構(gòu)與性能的聚合物 3）聚合膜可形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu) 4）合成工藝簡(jiǎn)單，清潔 5）可對(duì)物體進(jìn)行涂層處理 1） 聚合機(jī)理復(fù)雜，難以確定機(jī)理和定量控制 2）聚合膜的結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜 3)難得到再現(xiàn)性的結(jié)果 4)很難做成較大厚度的膜 表 4 等離子體聚合的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn) 等離子體聚合的方法和裝置 1)輝光放電方法 2)電暈放電法 3)濺射法 4)離子鍍敷法 5)等離子體 CVD法 內(nèi)部電極型 優(yōu)點(diǎn)： 電利用效率高 缺點(diǎn)： 反應(yīng)條件易變動(dòng)，存在等離子體表面特性或等離子體聚合膜的性能不穩(wěn)定的問(wèn)題 。 缺點(diǎn) :難以獲得高密度的等離子體，且不適宜用作大規(guī)模生產(chǎn)性裝置。 1)正離子機(jī)理 ： Wastwood 根據(jù)是觀察到聚合物幾乎全部沉積到陰極上。 單體的電離 單體與高速電子碰撞而產(chǎn)生電離是形成單體等離子的關(guān)鍵 e +A A++2e 其次是光離解作用 +A A++e 已經(jīng)證明，等離子體聚合中的主要活性種是自由基，通常有四種產(chǎn)生活性種的途徑： 激發(fā)態(tài)分子的解離 陽(yáng)離子的解離 離子 電子的中和 離子 分子反應(yīng) hv 等離子體聚合的鏈增長(zhǎng)機(jī)理 至今所提出的各種聚合反應(yīng)的鏈增長(zhǎng)機(jī)理可以表示為 : 在等離子體聚合中，鏈增長(zhǎng)是一種快速的逐步增長(zhǎng)過(guò)程，可表示為： . 1. ??? nn MMM? ? NMMM nmmn ??? ?.. Yasuda把等離子體的自由基聚合過(guò)程歸納為： 雙循環(huán)快速逐步聚合機(jī)理。以等離子體中粒子的能量大于有機(jī)化合物鍵能的觀點(diǎn)，這兩種循環(huán)中的反應(yīng)有相同的幾率。 聚合物的沉積和消融 ： 沉積 消融 粒子由于失去一部分動(dòng)能或由于與表面形成化學(xué)鍵而無(wú)法離開(kāi)基體的表面。 沉積在基體表面上的聚合物在撞擊粒子的動(dòng)能和基體表面溫度的影響下重新離開(kāi)基體 競(jìng)爭(zhēng) 影響等離子體聚合物的形成，聚合動(dòng)力學(xué)等 3 等離子體引發(fā)聚合
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