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晶體結(jié)構(gòu)與晶體中的缺陷-在線瀏覽

2025-06-19 13:46本頁面
  

【正文】 O6] 鏈狀 2 , 3 雙鏈 [ Si4O11]6 4 : 11 透閃石 Ca2Mg5[ Si4O11]2( O H )2 層狀 3 平面層 [ Si4O10]4 4 : 10 滑石 Mg3[ Si4O10] ( O H )2 [ Si O2]0 石英 Si O2 [ A l S i3O8]1 鉀長石 K [ A l Si3O8] 架狀 4 骨架 [ A l S i O4]1 1 : 2 方鈉石 N a [ A l S i O4] 4 /3 H2O 注意Al3+ 所取代 ? 連接方式及形狀:硅氧四面體以孤立狀態(tài)的單島狀存在,孤立硅氧四面體間由其他金屬陽離子相連接。 ? 橋氧數(shù): 雙島狀 1; 環(huán)狀 2 ? 絡(luò)陰離子:雙島狀 [Si2O7]6 環(huán)狀 [SinO3n]2n ? Si/O: 雙島狀 2:7 環(huán)狀 1:3 ? 舉例:綠寶石 Be3Al2[Si6O18] 孤立的有限硅氧四面體群 雙四面體[Si2O7]6 三節(jié)環(huán)[Si3O9]6 四節(jié)環(huán)[Si4O12]8 六節(jié)環(huán) [Si6O18]12 ?舉例:綠寶石 Be3Al2[Si6O18] ?連接方式及形狀 :大量硅氧四面體通過共頂連接形成一維的鏈狀(單鏈或雙鏈),鏈間由其他金屬陽離子相連接。 ? 橋氧數(shù): 3 ? 絡(luò)陰離子: [Si4O10]4 ? Si/O=4:10 ? 舉例:高嶺石 Al4[Si4O10] (OH)8 ; 滑石 Mg3[Si4O10] (OH)2 ? 滑石、粘土(高嶺石)、云母等都是典型層狀結(jié)構(gòu),層與層之間依靠較弱分子間力來結(jié)合,致使層間易相對滑動 四 、層狀結(jié)構(gòu) [Si4O10]4 44 八面體層結(jié)構(gòu) ?單層結(jié)構(gòu)中有一個氧原子處于自由端 , 價態(tài)未飽和 , 因此是不穩(wěn)定的 , 通常要與一個由 [M(O,OH)6]八面體組成的六角對稱的八面體層相結(jié)合才能趨于穩(wěn)定 ?M: Mg2+, Al3+, Fe3+, Fe2+, 等二價或三價金屬離子 45 1:1型和 2:1型層狀結(jié)構(gòu) ? 1:1型:一個八面體層與一個四面體層相結(jié)合的硅酸鹽 ? 2:1型:八面體層兩側(cè)各與一個四面體層相結(jié)合的硅酸鹽 46 ?層狀硅酸鹽的特性 ? 層狀結(jié)構(gòu)中 , 二層與二層或三層與三層之間只能以微弱的分子鍵或 OH離子產(chǎn)生的氫鍵來聯(lián)系 。 所以 , 在二層或三層的結(jié)構(gòu)單位之間可以有水分子存在 ( 層間水 ) 。 這時 , 在結(jié)構(gòu)層中就可以進(jìn)入一些電價低而離子半徑大的陽離子來平衡多余的負(fù)電荷 , 而且可以水化陽離子形式進(jìn)入 。 可交換量的大小即稱為陽離子交換容量 。 五 、架狀結(jié)構(gòu) ? 連接方式及形狀:硅氧四面體 4個頂點均與相鄰硅氧四面體的頂點相鄰,并向三維空間延伸形成架狀結(jié)構(gòu) ? 橋氧數(shù): 4 ? 絡(luò)陰離子: 石英 [SiO2] ; 長石 [(AlxSi4x) O8]x ? Si/O=1:2 ? 舉例:石英 SiO2 ; 長石 Na[AlSi3O8] ? 結(jié)構(gòu)與性質(zhì)的關(guān)系: SiO2結(jié)構(gòu)中 SiO鍵的強度很高,鍵力分別在三維空間比較均勻,因此 SiO2晶體的熔點高、硬度大、化學(xué)穩(wěn)定性好,無明顯解理。 ?石英 : 相當(dāng)于在 ?方石英結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,使 SiOSi鍵由 180o轉(zhuǎn)變?yōu)?150o。 重建性轉(zhuǎn)變 : 轉(zhuǎn)變都涉及鍵的破裂和重建,轉(zhuǎn)變速度緩慢。此時,由于結(jié)構(gòu)中有剩余負(fù)電荷,一些電價低、半徑大的正離子(如 K+、 Na+、 Ca2+、 Ba2+等)會進(jìn)入結(jié)構(gòu)中。H2O等沸石型礦物等。在實際晶體結(jié)構(gòu)中,這個鏈?zhǔn)怯行┡で摹? 表 25 硅酸鹽晶體結(jié)構(gòu)類型與 Si/O比的關(guān)系 結(jié)構(gòu)類型 [ S i O4]4 共用 O2 數(shù) 形狀 絡(luò)陰離子 S i /O 實例 島狀 0 四面體 [ S i O4]4 1 : 4 鎂橄欖石 Mg2[ S i O4] 鎂鋁石榴石 Al2Mg3[ S i O4]3 1 雙四面體 [ S i2O7]6 2 : 7 硅鈣石 Ca3[ S i2O7] 三節(jié)環(huán) [ S i3O9]6 1 : 3 藍(lán)錐礦 B a T i [ S i3O9] 四節(jié)環(huán) [ S i4O12]8 1 : 3 斧石 Ca2Al2( F e , M n ) B O3[ S i4O12] ( O H ) 組群狀 2 六節(jié)環(huán) [ S i6O1 8]12 1 : 3 綠寶石 Be3Al2[ S i6O18] 2 單鏈 [ S i2O6]4 1 : 3 透輝石 C a M g [ S i2O6] 鏈狀 2 , 3 雙鏈 [ S i4O11]6 4 : 11 透閃石 Ca2Mg5[ S i4O11]2( O H )2 層狀 3 平面層 [ S i4O10]4 4 : 10 滑石 Mg3[ S i4O10] ( O H )2 [ S i O2]0 石英 S i O2 [ Al S i3O8]1 鉀長石 K [ Al S i3O8] 架狀 4 骨架 [ Al S i O4]1 1 : 2 方鈉石 N a [ Al S i O4] 4 /3 H2O 回顧:完整晶體 定義 — 原子嚴(yán)格按照空間點陣位置排列而成的 晶體。 167。 * 點缺陷 — 填隙原子、空位、雜質(zhì)原子 線缺陷 — 位錯(刃型位錯和螺型位錯) 面缺陷 — 表面、晶界、相界、堆垛層錯 體缺陷 — 空洞、夾雜物 研究缺陷的意義 ? 實際晶體存在缺陷 (不利 , 有利 ); ? 功能材料需要人為制造缺陷; ? 材料制備過程 → 質(zhì)點擴散 → 缺陷 點缺陷 (point defect) 一、點缺陷類型 (type of point defect) 1. 幾何位置 (geometric position) 填隙原子 (interstitial atom): 原子進(jìn)入晶體中正常 結(jié)點間的間隙位置。 雜質(zhì)原子 (impurity atom):外來原子進(jìn)入晶格。 a. 定義 :當(dāng)晶體溫度高于絕對 0K時,由于晶格內(nèi)原 子熱振動,使一部分能量較大的原子偏離 平衡位置造成缺陷。 特點 :空位與間隙粒子成對出現(xiàn),體積不發(fā)生變化。弗侖克爾 ( Яков Френкель) 名字命名 熱缺陷示意圖 定義 :正常結(jié)點上的原子離開平衡位置遷移到晶 體表面,在原來位置形成空位。 肖特基缺陷 以德國物理學(xué)家沃爾特 a. 定義 :外來原子進(jìn)入晶體而產(chǎn)生的缺陷。 a. 定義 :某些化合物的化學(xué)組成隨周圍環(huán)境變化而 發(fā)生組成偏離化學(xué)計量的現(xiàn)象。 2. 適用范圍 :研究對象是晶體缺陷中的點缺陷,且點 缺陷的濃度不超過某一臨界值(約為 %)。’ 和 VO‥ 2)間隙離子 : Mgi‥ 和 Oi 39。表示有效正電荷(無特定位置) 7)締合中心 : 空位堆,間隙堆 6)帶電缺陷 :不同價離子間的取代 Ca進(jìn)入 NaCl晶格中取代 Na,則 CaNa、 Mi、 Xi 缺陷反應(yīng)舉例 1. 熱缺陷 ?????? ??OMg VVO1) 寫出 MgO形成肖特基缺陷的反應(yīng)方程式 p65 2) 寫出 AgBr形成弗侖克爾缺陷的反應(yīng)方程式 AgiAg VAgAg ??? ?? ?熱缺陷反應(yīng)規(guī)律 當(dāng)晶體中剩余空隙比較小時,如 NaCl型結(jié)構(gòu),容易形成肖特基缺陷;當(dāng)剩余空隙比較大時,如 CaF2型結(jié)構(gòu),易形成弗侖克爾缺陷。 b. 以負(fù)離子為準(zhǔn),假設(shè)三個 F位于基質(zhì)中的 F位置上,與此 時引入三個 Na+,但只有一個 Na+占據(jù) Y3+位置,其余兩個 Na+只能位于晶格間隙。 2) 高價正離子占據(jù)低價正離子位置時,該位置帶有正電荷, 為了保持電中性,會產(chǎn)生 正離子空位或間隙負(fù)離子 。 TiO2在還原氣氛下 失去部分氧 ,生成非化學(xué)計量化合 物 TiO2x,寫出缺陷反應(yīng)方程 熱缺陷濃度 計算 熱缺陷的特點 :熱平衡條件下,缺陷濃度僅與晶體的 溫度有關(guān)。 單質(zhì)晶體的
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