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2025-06-18 07:38本頁面
【正文】 ， 既有裝飾性 ， 亦有防護(hù)性 。 ④ 耐磨和減磨鍍層 ：例如硬鉻 ， 松孔鍍 ， Ni—SiC， Ni石墨 ， NiPTFE復(fù)合鍍層等 。 ⑥ 磁性能鍍層 ：例如軟磁性能鍍層有 NiFe， FeCo鍍層；硬磁性能有 CoP， CoNi， CoNiP等 。 可改善可焊性 ， 在電子工業(yè)中廣泛應(yīng)用 。 ⑨ 修復(fù)用鍍層 ：一些造價(jià)較高的易磨損件 ， 或加工超差件 ，采用電鍍修復(fù)尺寸 ， 可節(jié)約成本 ， 延長使用壽命 。 2022/5/29 8 若按鍍層與基體金屬之間的電化學(xué)性質(zhì) 可分為： 陽極性鍍層 和 陰極性鍍層 ： 凡鍍層相對于基體金屬的電位為負(fù)時(shí)，鍍層是陽極，稱陽極性鍍層，如鋼上的鍍鋅層。 2022/5/29 9 若按鍍層的組合形式分 ， 鍍層可分為： 單層鍍層 ， 如 Zn或 Cu層； 多層金屬鍍層 ， 例如 CuSn/Cr， Cu／ Ni／ Cr鍍層等； 復(fù)合鍍層 ， 如 NiAl2O3， CoSiC等 。 2022/5/29 10 如何合理選用鍍層 不同成分及不同組合方式的鍍層具有不同的性能 。 首先要了解鍍層是否具有所要求的使用性能 ， 然后按照零件的服役條件及使用性能要求 ， 選用適當(dāng)?shù)腻儗?， 還要按基材的種類和性質(zhì) ， 選用相匹配的鍍層 。 另外要依據(jù)零件加工工藝選用適當(dāng)?shù)腻儗?。 此外 ， 要考慮鍍覆工藝的經(jīng)濟(jì)性 。 電解液主要是水溶液 ， 也有有機(jī)溶液和熔融鹽 。 非水溶液、熔融鹽電鍍雖已部分獲得工業(yè)化應(yīng)用，但不普遍。通常鍍液由如下成分構(gòu)成。 沉積金屬的鹽類 ， 有單鹽 ， 如硫酸銅 、 硫酸鎳等；有絡(luò)鹽 ，如鋅酸鈉 、 氰鋅酸鈉等 。 配合劑與沉積金屬離子形成配合物 ， 改變鍍液的電化學(xué)性質(zhì)和金屬離 子沉積的電極過程 ， 對鍍層質(zhì)量有很大影響 ， 是鍍液的重要成分 。 3. 導(dǎo)電鹽 。 導(dǎo)電鹽不參加電極反應(yīng) ， 酸或堿類也可作為導(dǎo)電物質(zhì) 。 在弱酸或弱堿性鍍液中 ， pH值是重要的工藝參量 。 緩沖劑要有足夠量才有較好的效果 ， 一般加入 30～ 40g／ L， 例如氯化鉀鍍鋅溶液中的硼酸 。 在電鍍過程中金屬離子被不斷消耗 ， 多數(shù)鍍液依靠可溶性陽極來補(bǔ)充 ， 使金屬的陰極析出量與陽極溶解量相等 ， 保持鍍液成分平衡 。例如鍍鎳液中必須加入 Cl， 以防止鎳陽極鈍化 。 許多金屬鹽容易發(fā)生水解 ， 而許多金屬的氫氧化物是不溶性的 。 7. 特殊添加劑 。 其加入量較少 ， 一般只有幾克每升 ， 但效果顯著 。 晶粒細(xì)化劑 ——能改變鍍層的結(jié)晶狀況 ， 細(xì)化晶粒 ， 使鍍層致密 。 整平劑 ——可改善鍍液微觀分散能力 ， 使基體顯微粗糙表面變平整 。 應(yīng)力消除劑 ——可降低鍍層應(yīng)力 。 掩蔽劑 ——可消除微量雜質(zhì)的影響 。 如圖所示，在硫酸銅溶液中插入兩個(gè)銅板，并與直流電源相接，當(dāng)施加一定電壓時(shí)，兩極就發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)。 這些特性除取決于鍍層金屬的本性外，還受到鍍液、電鍍規(guī)范、基體金屬及前處理工藝等的影響。 ① 配離子的作用 : 配離子使陰極極化作用增強(qiáng) ， 所以鍍層比較致密 ， 鍍液的分散能力也較好 ， 整平能力較高 。 這種作用在電化學(xué)極化不顯著的單鹽鍍液中更為明顯 。 ④ 添加劑的作用 :添加劑在鍍液中的作用有兩種主要方式：其一 ， 形成膠體吸附在金屬離子上 ， 阻礙金屬離子放電 ， 增大陰極極化作用；其二 ，吸附在陰極表面上 ， 阻礙金屬離子在陰極表面上放電 ， 或阻礙放電離子的擴(kuò)散 ， 影響沉積結(jié)晶過程 ， 并提高陰極極化作用 。 2022/5/29 19 電鍍規(guī)范的影響 ① 電流密度的影響 : 每種鍍液有它最佳的電流密度范圍 。 使鍍層致密 ， 鍍速升高 。 ② 電流波形的影響 :電流波形對鍍層質(zhì)量的影響 ， 在某些鍍液中非常明顯 。 而三相全波整流的波形與穩(wěn)壓直流相似 ， 它們的電鍍效果和質(zhì)量沒有明顯區(qū)別 。 因?yàn)橥隋儠r(shí) ， 可去除劣質(zhì)鍍層和鍍件凸出處較厚的鍍層 。 不同的鍍液有其最佳溫度范圍 。攪拌還可增強(qiáng)整平劑的效果 。 pH值對硬度和應(yīng)力的影響 ， 可能主要是通過夾雜物的性質(zhì)和分布起作用的 。 氫氣析出的原因是金屬離子的沉積電位較負(fù) ， 或者氫的析出過電位較低 。 2022/5/29 22 基體金屬對鍍層的影響 ①
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