水電解制氫設(shè)備系列說(shuō)明書(shū)-在線瀏覽
2025-06-01 07:10本頁(yè)面
【正文】 過(guò)程，其電極反應(yīng)為:陰 極: 2H2O + 2e → H2↑ + 2OH陽(yáng) 極: 2OH 2e → H2O + 1/2O2↑總反應(yīng): 2H2O → 2H2↑ + O2↑由浸沒(méi)在電解液中的一對(duì)電極，中間隔以防止氣體滲透的隔膜而構(gòu)成水電解池，通以一定電壓（達(dá)到水的分解電壓 ）的直流電，水就發(fā)生電解。本公司生產(chǎn)的壓力型水電解槽采用左右槽并聯(lián)型結(jié)構(gòu)，中間極板接直流電源正極，兩端極板接直流電源負(fù)極，并采用雙極性極板和隔膜墊片組成多個(gè)電解池，并在槽內(nèi)下部形成共用的進(jìn)液口和排污口，上部形成各自的氫堿和氧堿的氣液體通道。 我公司生產(chǎn)的壓力型水電解槽，目前標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品操作壓力為 。 。水電解制氫的電解需要低電壓、大電流的可調(diào)直流電源。這種電路有兩個(gè)特點(diǎn)：第一，整流變壓器有兩組次極繞組，且都接成星形，為了消除變壓器的直流磁化問(wèn)題，兩繞組的接線極性相反。 產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)CDEF 系列水電解制氫設(shè)備使用說(shuō)明書(shū) 蘇州競(jìng)立制氫設(shè)備有限公司4主要技術(shù)性能指標(biāo)和消耗（見(jiàn)附表）工作條件:30%KOH 水溶液: : ≥10 5 歐姆系統(tǒng)自動(dòng)控制設(shè)定的系統(tǒng)壓力、槽溫、分離器液位平衡、及時(shí)補(bǔ)充電解所消耗的原料水。可按用戶需求不同，提供氣動(dòng)儀表控制、電動(dòng)儀表控制、PLC 可編程控制、上位機(jī)控制、遠(yuǎn)程通訊等控制手段以及各類分析儀表。CDEF 系列水電解制氫設(shè)備使用說(shuō)明書(shū) 蘇州競(jìng)立制氫設(shè)備有限公司5每套制氫系統(tǒng)通常配備控制柜、整流柜、整流變壓器以及氧中氫、氫中氧等分析儀表。 電解液循環(huán)系統(tǒng)的作用是： 、氧氣和熱量。 “攪拌” ，以減少濃差極化，降低電耗。 . 它包括: ┌用戶或儲(chǔ)存 電解槽→氧洗滌器→┤ └或排空 氧氣的排空除與氫氣排空作同樣考慮外，對(duì)于不利用氧氣的用戶，排空是常開(kāi)狀態(tài). 水電解制氫(氧)過(guò)程唯一的“原材料”是高純水，此外氫氣和氧氣在離開(kāi)系統(tǒng)時(shí)要帶走少量的水分。補(bǔ)充水同時(shí)從氫、氧兩側(cè)補(bǔ)入。 水的電解過(guò)程是吸熱反應(yīng)，制氫過(guò)程必須供以電能，但水電解過(guò)程消耗的電能超過(guò)了水電解反應(yīng)理論吸熱量，超出部分主要由冷卻水帶走，以維持電解反應(yīng)區(qū)正常的溫度。本裝置要求工作溫度保持在不超過(guò) 90℃為最佳。可控硅整流裝置也設(shè)有必要的冷卻管路。在正常開(kāi)機(jī)前也要求對(duì)系統(tǒng)的氣CDEF 系列水電解制氫設(shè)備使用說(shuō)明書(shū) 蘇州競(jìng)立制氫設(shè)備有限公司7相充氮吹掃，以保證氫氧兩側(cè)氣相空間的氣體遠(yuǎn)離可燃可爆范圍。額定電流見(jiàn)后附表。:放置控制柜、整流柜。 ）、變壓器間：放置變壓器。 地溝敷設(shè)，電解槽與框架間的氣體管路可在空間或地溝內(nèi)架設(shè)。，并高出房頂 ，管口應(yīng)作防雨設(shè)施。 20m，框架與電解槽距離約 ，電解槽與墻的距離≥。操作與維護(hù)CDEF 系列水電解制氫設(shè)備使用說(shuō)明書(shū) 蘇州競(jìng)立制氫設(shè)備有限公司8，槽體清潔干燥、無(wú)短路和絕緣不良現(xiàn)象。，按照電氣圖檢查接線是否正確規(guī)范。檢查原料水系統(tǒng)為無(wú)污染、無(wú)腐蝕材料制成，并經(jīng)過(guò)嚴(yán)格除油、除污，閥除油除銹，一般宜為不銹鋼制作。，無(wú)凍結(jié)阻塞。（V101，V102，V111，V113，V130，V133，V134，V140， V183， V184，V185 ，V187，V188，V189） ，打開(kāi)制氫機(jī)內(nèi)機(jī)內(nèi)所有閥門(mén)。系統(tǒng)保壓 12小時(shí)，泄漏量不超過(guò)每小時(shí) 5‰為良好?；蜿P(guān) V102，V113，慢慢打開(kāi) V183，V184，V185 利用氮?dú)鈮毫π秹海秹和戤吅箨P(guān)閉相應(yīng)的閥門(mén)。CDEF 系列水電解制氫設(shè)備使用說(shuō)明書(shū) 蘇州競(jìng)立制氫設(shè)備有限公司9V190分 離 器氣 水向 系 統(tǒng) 加 水 （ 堿 ）堿 液 箱堿 液 泵 4（ 6）過(guò) 濾 器堿 液 計(jì)流量綜 合 塔V186分 離 器氣 水 氧 氣 綜 合 塔氧 氣 補(bǔ) 水 泵 電 解 槽備 注 ： 通 過(guò) 補(bǔ) 水 泵 的 操 作 一 般 為 制 氫 設(shè) 備 正 常 工 作 時(shí) 向 系 統(tǒng) 內(nèi) 加 水 （ 堿 ） 。循環(huán)清洗系統(tǒng) 3～4 小時(shí)，停泵，打開(kāi) V
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