【正文】 基底以下 2 米，高壓旋噴樁布置情況詳見圖 1。　根據(jù)地質(zhì)報告，嚴格控制泥漿的配比，防止成槽過程發(fā)生槽壁坍塌，以及控制好相鄰兩幅墻的成槽時間?！』娱_挖和支撐過程控制?、俜侄?、分塊、分層進行土方開挖，滿足基坑開挖“時空效應”原理　　在土方開挖過程中快速完成開挖，及時進行支撐的安裝并施加軸力，使基坑無支撐暴露的時間最短；每段基坑開挖完畢后，在最短的時間內(nèi)完成該段內(nèi)部結(jié)構(gòu)的施工,使該段基坑暴露時間最短。　 　　每段土體開挖的長度控制在 6m 以內(nèi)，每段的土方開挖時間控制在 16 小時以內(nèi)，鋼支撐的安裝控制在 8 小時以內(nèi)，快挖快撐（及時預加支撐軸力） ，使基坑無支撐暴露的時間盡量縮短?！〉?3 層土方采用 18m 長臂挖機在基坑西側(cè)單邊進行開挖，基坑內(nèi)設一臺 PC100 挖機配合進行翻土?！、跍p少動荷載對基坑的影響　 　　土方開挖過程中，重型土方車輛和機械盡量不要在建、構(gòu)筑物附近行走和停留，以減緩基坑的變形速率，達到保護建、構(gòu)筑物的目的。　有流沙發(fā)生時，如流沙位置在開挖面以上且壓力不大時，用木楔、棉紗水泥和水玻璃將其封堵，然后在地連墻上打設注漿管，用水泥水玻璃雙液漿封堵。　 　?、芡练介_挖至基坑底及時封閉基底　土方開挖到基坑底部時，及時進行墊層的施工 ，并且在最短的時間內(nèi)完成結(jié)構(gòu)底板的施工。當支撐軸力減少較多時，及時進行軸力復加，滿足支撐軸力的要求；當支撐軸力較大，支撐有失穩(wěn)的危險時，采取增加鋼支撐的措施來處理?！〗?、構(gòu)筑物沉降的監(jiān)測　　在國貿(mào)花園小區(qū)住宅樓上分別設置了 15 個沉降觀測點，在施工過程中對其進行觀測?！〗?、構(gòu)筑物附近地面沉降的監(jiān)測　在基坑周邊設置了 111 個地表沉降觀測點，其中建、構(gòu)筑物附近的地面上設置了 35 個地表沉降觀測點，監(jiān)測建、構(gòu)筑物附近地表的沉降，為建、構(gòu)筑物的沉降趨勢提供參考數(shù)據(jù)。基坑周邊設置了 36 個地連墻墻體變形觀測點，其中建、構(gòu)筑物附近的地連墻墻上設置了 11 個。當基坑外水位發(fā)生顯著下降時，應立刻停止降水，并對漏水部位圍護結(jié)構(gòu)進行加固補強或采取坑外注水的形式，減少地面沉降變形?！　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　±ッ魇熊壍澜煌ㄊ灼诠こ贪藰? 周邊建筑物保護方案　 　　第 9 頁，共 13 頁　 　　C1C12C13C14C15C1617C18 C19 C21C2C23C24C2526 CJW圖 例 ： 墻 頂 水 平 、 垂 直 位 移地 表 沉 降 點連 續(xù) 墻 墻 體 變 形地 下 水 位 監(jiān) 測建 筑 物 沉 降 點W1 W2 W3W4W5W6 立 柱 樁 沉 降 監(jiān) 測27　圖 2：建、構(gòu)筑物保護監(jiān)測布點示意圖　　　昆明市軌道交通首期工程八標 周邊建筑物保護方案　 　　第 10 頁，共 13 頁　 　　6 雙重管高壓旋噴樁工藝簡介　 　　雙重管高壓旋噴樁是指通過管底部側(cè)面的一個同軸雙重噴嘴，同時噴出高壓泥漿和空氣兩種介質(zhì)，噴射沖擊破壞土體，以高壓泥漿泵射出 20MPa 壓力的漿液從內(nèi)噴嘴中射出， 壓力的壓縮空氣從外噴嘴中射出，在高壓漿液和外圈環(huán)繞氣流的共同作用下，破壞削切土體，同時使?jié){液和被削切土體均勻攪和，形成具有一定強度的固結(jié)體，起到加固土體和擋水帷幕的作用?！?　　 高壓旋噴樁施工工藝流程　　高壓旋噴樁工藝流程見下圖：　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　圖 3：雙重管高壓旋噴樁工藝流程圖　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射15 秒　 　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　 　　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒　　　　　　　　　　　達到設計標高后繼續(xù)噴射 15 秒