淺述蘭煉5萬標(biāo)米制氫裝置psa吸附時(shí)間的設(shè)定-展示頁(yè)
2025-05-10 05:06本頁(yè)面
【正文】 吸附時(shí)間： A = （ T1+T2 ） 2 一均時(shí)間： E1R/E1D = T 3 （ T3+FR ） =T1 二均時(shí)間： E2R/E2D = T 2 三均時(shí)間： E3R/E3D = T 1 順放時(shí)間： PP = T2 ，同時(shí)順放還受順放壓力控制，當(dāng)壓力≤ （可設(shè)定）時(shí)，控制閥關(guān)閉，即順放為壓力與時(shí)間取先控制。同時(shí)，終升還受終升控制閥初始開度影響，終升控制閥開度過大，終升所需時(shí)間越短，但對(duì)產(chǎn)品氫的壓力影響較大；終升控制閥開度過小，對(duì)產(chǎn)品氫的壓力影響小，但需要的時(shí)間會(huì)較長(zhǎng)（也有可能會(huì)是該閥的開度變化過大）。 （ 4 ） T4 設(shè)定 T4 為四均時(shí)間（ T4 ≤ T2 ）， T4 的最小值必須保證四均均等。 T3 過小，一均降不能降到位，減少氫氣回收率； T3 過長(zhǎng)，產(chǎn)品氫會(huì)回充一均降塔，也減少氫氣收率。 （ 1 ） T1 設(shè)定 T1 為三均時(shí)間和順放時(shí)間， T1 的最小值必須同時(shí)保證三均均等和順放完全（即順放壓力 ≤ ，同時(shí) T1 還必須保證一均時(shí)間足夠（即 T1須 ≥ T3 ）。 淺談 PSA吸附時(shí)間的設(shè)定原則 制氫趙洋 2022年 01月 02日 “ 1024”程序步序 步序 T1 T2 T1 T2 T1 T2 T1 T2 T1 T2 T1 T2 13 14 15 16 17 18 19 20 T 201A A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R /FR FR T 20 1B E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R T 20 1C P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D E4 D/ PP D D P T 201D PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ T 20 1E E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A T 201F E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R T 201G P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P T 201H D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D T 201I E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D/ E2 D T 201J A A E1 D/ E2 D E3 D E4 D/ PP D D P P P P E4 R E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A “ 1024”程序時(shí)間說明 吸附時(shí)間： A = （ T1+T2 ） 2 一均時(shí)間： E1R/E1D = T 3 （ T3+FR ） =T1 二均時(shí)間： E2R/E2D =
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