斷面解剖學(xué)ppt課件-展示頁(yè)
2025-01-14 11:57本頁(yè)面
【正文】 同層面的中央?yún)^(qū)之間的差異主要為基底核區(qū)、側(cè)腦室和第三腦室等的位置、形態(tài)的變化，層面周邊以中央溝和外側(cè)溝將端腦分為額葉、頂葉和顳葉； 下部是自鞍上池以下的層面，腦組織被大腦外側(cè)窩池和小腦幕等分為數(shù)塊，隨層面下移則腦組織逐漸縮少，不同層面的中央?yún)^(qū)之間的差異主要為腦池、腦干和第四腦室等的位置、形態(tài)的變化。 頭部水平斷面大致可分為上、中、下三部分，每層斷面均從其下面 展示內(nèi)容。頭 頸 部 橫 斷 面 解 剖 與 影 像 眥耳線 下眶耳線（ Reid基線） 上眶耳線 頭部橫斷層標(biāo)本的制作多以 Reid基線 為準(zhǔn)，每層厚 10mm，分別向上、下切割。 顱腦水平斷層掃描多以 眥耳線 為基線。 頭部結(jié)構(gòu)的斷面解剖學(xué)特點(diǎn) 橫斷層面分為上、中、下三部分。 1．中央溝 在顱部橫斷層面上可依據(jù)以下特征辨認(rèn)中央溝：①溝的深度，中央溝較深，自外側(cè)向內(nèi)側(cè)延伸，并可有一條 (中央后溝 )或兩條溝 (中央前、后溝 )與之相伴行；②中央前、后回的厚度，中央前回較中央后回寬厚，兩者之間的溝即為中央溝；③溝的位置，以眶 (眥 )耳線為基線的橫斷層面上，中央溝均位于大腦半球上外側(cè)面的前 2/5與后 3/5交界處。 主要腦溝在橫斷層面上的識(shí)別方法 2．外側(cè)溝 在顱部橫斷層面上可依據(jù)以下特征辨認(rèn)外側(cè)溝：①島葉皮質(zhì)，顱部橫斷層面上出現(xiàn)島葉皮質(zhì)后，與島葉皮質(zhì)呈垂直位的腦溝即為外側(cè)溝；②蝶骨大翼，在顱前、中窩交界處的顱側(cè)壁上，伸向顱腔內(nèi)的突起為蝶骨大翼的斷面，與該突起相對(duì)應(yīng)的腦溝則為外側(cè)溝。 中腦的橫斷層面解剖特點(diǎn) 在顱部橫斷層面上 ,中腦可分為四部分 ,由前向后依次為 (1)大腦腳底 (2)黑質(zhì) (3)中腦被蓋 (4)頂蓋（上、下丘） 第四腦室的橫斷層面解剖特點(diǎn) 在顱部橫斷層面上 ,第四腦室可分為上、中、下三部分。 在顱部橫斷層面上可依據(jù)以下特征辨認(rèn)帆間池：①池的層面，位于第三腦室頂部的稍上方；②池的形態(tài)，呈尖伸向前方的三角形；③池的邊界，帆間池的后界是胼胝體壓部；④池內(nèi)的結(jié)構(gòu)，帆間池內(nèi)有大腦內(nèi)靜脈通過(guò)。 第 6層面 第 7層面 1. 經(jīng)中央旁小葉上份的橫斷層面 2．經(jīng)中央旁小葉中份的橫斷層面 3．經(jīng)中央旁小葉下份的橫斷層面 4．經(jīng)半卵圓中心的橫斷層面 5. 經(jīng)側(cè)腦室頂部的橫斷層面 6. 經(jīng)側(cè)腦室中央部的橫斷層面 7. 經(jīng)室間孔的橫斷層面 8. 經(jīng)側(cè)腦室三角部的橫斷層面 9. 經(jīng)中腦下丘的橫斷層 10. 經(jīng)視交叉的橫斷層面 11. 經(jīng)垂體的橫斷層面 12. 經(jīng)視神經(jīng)的橫斷層面 13. 經(jīng)外耳道的橫斷層面 14. 經(jīng)枕骨基底部的橫斷層面 15. 經(jīng)小腦扁桃體的橫斷層面 16. 經(jīng)下鼻甲的橫斷層面 17. 經(jīng)寰枕關(guān)節(jié)的橫斷層面 18. 經(jīng)寰樞關(guān)節(jié)的橫斷層面 一、頭部的橫斷面解剖及影像 一、頭上部的水平斷面 涉及大腦半球上緣至側(cè)腦室中央部上方，共有 3～ 4個(gè)斷面。 在第 1～ 2橫斷面上，中央溝出現(xiàn)在斷面的后半部，溝的前后為中央前回和中央后回。 上矢狀竇 上矢狀竇 大腦鐮 中央溝 中央前回 中央后回 額上回 頂上小葉 頭部第 1水平斷面 中央旁小葉 在第 1～ 2橫斷面上，中央溝出現(xiàn)在斷面的后半部，溝的前后為中央前回和中央后回。 上矢狀竇 上矢狀竇 大腦鐮 中央溝 中央前回 中央后回 額上回 頂上小葉 頭部第 2水平斷面 額中回 在第 3～ 4橫斷面上，大腦鐮兩側(cè)為扣帶回，其外側(cè)為兩半球的輻射冠，輻射冠的外側(cè)仍可見(jiàn)到中央溝及中央前、后回，中央前回的前方為額上回、額中回和額下回。 頭部第 3水平斷面 額上回 額中回 輻射冠 緣上回 角回 頂上小葉 頂下小葉 中央旁小葉 在第 3～ 4橫斷面上，大腦鐮兩側(cè)為扣帶回，其外側(cè)為兩半球的輻射冠，輻射冠的外側(cè)仍可見(jiàn)到中央溝及中央前、后回，中央前回的前方為額上回、額中回和額下回。 頭部第 4水平斷面 額上回 額中回
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